目标专利:1016使用石墨烯沟道、量子点和电磁辐射感测分析物的装置和方法
专利公开号:CN108431590B
专利权人:诺基亚技术有限公司
无效请求书提交日期:2026年
非显而易见性评估仅供参考,不构成法律建议。
| 编号 | 名称 |
|---|---|
| 0 | 2010-12-22_CN101923065A_发明公开_CN101923065A 场效应晶体管手性传感器及其制备方法_+++B+++.docx |
| 0 | 2012-11-15_WO2012154726A_发明申请_WO2012154726A1 METHOD OF ENHANCED DETECTION FOR NANOMATERIAL-BASED MOLECULAR SENSORS_+++A_B_C_H_R+++.docx |
| 0 | 2013-01-17_WO2013009961A_发明申请_WO2013009961A1 DESIGN OF ULTRA-FAST SUSPENDED GRAPHENE NANO-SENSORS SUITABLE FOR LARGE SCALE PRODUCTION_+++A_B_C_H_I_K_M+++.docx |
| 0 | 2013-02-07_US2013032782A_发明申请_US20130032782A1 OPTOELECTRONIC PLATFORM WITH CARBON BASED CONDUCTOR AND QUANTUM DOTS AND TRANSISTOR COMPRISING SUCH A PLATFORM_+++A_B_C_D_E_J_f+++.docx |
| 0 | 2013-05-01_CN101923065B_发明授权_CN101923065B 场效应晶体管手性传感器及其制备方法_+++B_j+++.docx |
| 0 | WO2011006677A1_Description_20260427_1723_+++B_a_c+++.docx |
一种用于感测的装置,包括: 石墨烯场效应晶体管,;其包括: 源电极和漏电极,;其中,在所述源电极与所述漏电极之间设置石墨烯沟道; 量子点,其与所述石墨烯沟道耦合,;其中,所述量子点被配置为执行栅电极的功能; 其中,所述石墨烯场效应晶体管被配置为被电磁辐射脉冲照射,;并被配置为暴露在包括一个或多个化学分析物的样本中,以使得由所述石墨烯场效应晶体管响应于所述电磁辐射脉冲而提供的电子输出取决于所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的至少一个,;其中,所述电子输出是基于所述石墨烯场效应晶体管与所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的所述至少一个的相互作用。
作为一名经验丰富的专利代理师,我将严格依据专利法及审查指南的规定,紧密结合目标专利说明书的公开内容,对权利要求1的各技术特征进行原意解析,并与您提供的三份对比文件(D1、D2、D3)的原文及出处进行逐项特征比对与创造性/无效可行性深度分析。
以下是具体的分析报告:
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## 一、 目标专利权利要求1的技术特征拆解与说明书解析
基于目标专利(CN108431590B)的说明书,权利要求1所构建的是一种**利用石墨烯场效应晶体管(GFET)结合量子点和电磁辐射脉冲进行高灵敏度瞬态化学感测的装置**。其技术特征拆解及说明书内涵解析如下:
* **技术特征A:包括:石墨烯场效应晶体管,**
* *说明书内涵解析*:对应说明书[0031]和[0033],指明该感测装置的核心电子元器件是基于石墨烯材料的场效应晶体管(GFET 3)。
* **技术特征B:其包括:源电极和漏电极,**
* *说明书内涵解析*:对应说明书[0034]和[0062],源电极21和漏电极23流过由石墨烯沟道传导的电流,可由银、铜、金、钛等导电金属或PEDOT:PSS等材料制成。
* **技术特征C:其中,在所述源电极与所述漏电极之间设置石墨烯沟道;**
* *说明书内涵解析*:对应说明书[0034]和[0062],石墨烯沟道5作为导电有源有源层连接源漏电极,石墨烯以薄层(纳米厚度或原子单层)提供,具有高迁移率和极高的环境敏感性。
* **技术特征D:量子点,其与所述石墨烯沟道耦合,**
* *说明书内涵解析*:对应说明书[0031]和[0035],量子点7(如硫化铅、硒化镉等纳米晶体)可覆盖在石墨烯沟道上方、内部或相邻设置,形成光电转换和电荷存储单元。
* **技术特征E:其中,所述量子点被配置为执行栅电极的功能;**
* *说明书内涵解析*:对应说明书[0037]和[0067],“量子点被配置为通过控制电流通过石墨烯沟道……来执行GFET中的栅电极的功能”。即它不需要传统的金属光刻栅极,而是通过光生电荷产生的局部电场对石墨烯沟道进行“门控(门控效应)”。
* **技术特征F:其中,所述石墨烯场效应晶体管被配置为被电磁辐射脉冲照射,**
* *说明书内涵解析*:对应说明书[0031]、[0041]和[0051],发射器13提供可见光、UV或IR的“脉冲”照射(瞬态激活),用于在量子点中产生光生激子并诱发瞬态电荷弛豫,这与传统的连续光照或无光照环境有本质区别。
* **技术特征G:并被配置为暴露在包括一个或多个化学分析物的样本中,以使得由所述石墨烯场效应晶体管响应于所述电磁辐射脉冲而提供的电子输出取决于所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的至少一个,**
* *说明书内涵解析*:对应说明书[0048]和[0051],GFET暴露在气体或液体样本11中,化学分析物吸附改变了量子点与石墨烯之间的电荷转移时间(瞬态弛豫时间$\tau_1, \tau_2, \tau_3, \tau_4$),使得晶体管对“脉冲”的**瞬态响应曲线(如电流随时间变化的斜率、恢复时间常数等)**发生特异性改变。
* **技术特征H:其中,所述电子输出是基于所述石墨烯场效应晶体管与所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的所述至少一个的相互作用。**
* *说明书内涵解析*:对应说明书[0050],这种相互作用包括改变介电环境、引起量子点间距变化、或改变石墨烯/量子点的能带结构,最终在宏观上表现为电子输出(如电流$\Delta I_{DS}$)的特征变化。
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## 二、 对比文件技术特征比对表格及详细出处
为了清晰展现各对比文件对目标专利权利要求1各技术特征的公开情况,以下给出特征比对表,并严格标注对比文件原文及详细出处(段落号/页码行数)。
### 对比文件公开号说明:
* **D1**:CN101923065A 《场效应晶体管手性传感器及其制备方法》
* **D2**:WO2012154726A1 《METHOD OF ENHANCED DETECTION FOR NANOMATERIAL-BASED MOLECULAR SENSORS》
* **D3**:WO2013009961A1 《DESIGN OF ULTRA-FAST SUSPENDED GRAPHENE NANO-SENSORS SUITABLE FOR LARGE SCALE PRODUCTION》
### 权利要求1的技术特征比对表
| 权利要求1的技术特征 | 对比文件1 (D1: CN101923065A) | 对比文件2 (D2: WO2012154726A1) | 对比文件3 (D3: WO2013009961A1) |
| 特征A:包括:石墨烯场效应晶体管, | 未公开<br>仅公开了常规FET或有机场效应晶体管([0009],[0023],[0043])。 | 毫无异议公开<br>公开了基于graphene的FET结构传感器([p0015],[p0031],[p0039])。 | 毫无异议公开<br>公开了graphene field effect transistors([p0006],[p0017],[p0022])。 |
| 特征B:其包括:源电极和漏电极, | 毫无异议公开<br>“源电极5及漏电极6”([0009],[0024])。 | 毫无异议公开<br>“two electrical contacts”([p0015],[p0036])。 | 毫无异议公开<br>“bridging source and drain electrodes”([p0022])。 |
| 特征C:其中,在所述源电极与所述漏电极之间设置石墨烯沟道; | 未公开<br>其沟道(有源层)是量子点材料薄膜,非石墨烯([0009],[0024])。 | 毫无异议公开<br>“a graphene layer... with two electrical contacts”([p0036],[p0037])。 | 毫无异议公开<br>“suspended graphene strip... bridging source and drain”([p0022])。 |
| 特征D:量子点,其与所述石墨烯沟道耦合, | 未公开<br>虽然公开了量子点,但因无石墨烯沟道,故不存在该耦合关系。 | 未公开<br>未提及在石墨烯上引入量子点(Quantum Dots)。 | 实质公开 / 类似替代公开<br>公开了使用“杂质原子或无机/有机分子修饰”石墨烯表面([p0024]-[p0026]),包括纳米颗粒(CdS纳米晶等)。 |
| 特征E:其中,所述量子点被配置为执行栅电极的功能; | 实质公开<br>公开了量子点作为有源层,对手性分子反应后导致阀值电压等改变,从而免去传统栅电极([0009],[0023])。 | 未公开<br>使用传统的Si/SiO2背栅调节电压([p0017],[p0043])。 | 未公开<br>使用常规的doped silicon substrate作为背栅(back gate)([p0022])。 |
| 特征F:其中,所述石墨烯场效应晶体管被配置为被电磁辐射脉冲照射, | 实质公开(偏离“脉冲”)<br>公开了混入荧光分子并用激发波长光测定,但非瞬态脉冲([0011],[0041])。 | 实质公开(偏离“脉冲”)<br>公开了利用UV光持续照射(continuous / while radiating continues)进行原位清洁和感测([p0014],[p0028])。 | 未公开<br>仅提及利用电学电流退火(current annealing)清洁,未使用光脉冲([p0029])。 |
| 特征G:并被配置为暴露在包括一个或多个化学分析物的样本中,以使得由所述石墨烯场效应晶体管响应于所述电磁辐射脉冲而提供的电子输出取决于所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的至少一个, | 未公开<br>其检测是基于稳态特性参数(载流子迁移率、阈值电压等)的改变,而非响应于“电磁辐射脉冲”的电子输出([0023])。 | 未公开<br>其电子输出是基于持续光照下的稳态电导/电流变化,并非响应于“辐射脉冲”的瞬态响应曲线([p0014],[p0040])。 | 未公开<br>虽提及纳秒级超快动态响应,但其激发源是单纯的“气体化学暴露”,而非响应于“电磁辐射脉冲”([p0005],[p0021])。 |
| 特征H:其中,所述电子输出是基于所述石墨烯场效应晶体管与所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的所述至少一个的相互作用。 | 实质公开<br>基于手性分子选择性反应后导致晶体管参数改变([0023])。 | 毫无异议公开<br>基于NO/NO2等分析物与纳米材料的相互作用改变电导([p0023],[p0040])。 | 毫无异议公开<br>基于气体分子吸附引发的载流子掺杂或机械应力改变电导([p0021])。 |
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### 各对比文件原文出处详细对照分析
#### 1. 对比文件1 (D1: CN101923065A)
* **技术特征B、E的公开原文出处**:
* 说明书第[0023]段:“*上述不同材料在对手性分子进行选择性反应后,通过外加电压,导致载流子迁移率、阈值电压、电流开关比和亚阈值斜率发生变化,测量晶体管的相关特性参数的改变……*”;第[0024]段:“*基本结构至少包括基底1、栅电极2、栅绝缘层3、有源层4、源电极5及漏电极6,其中该量子点场效应晶体管的有源层4为具有手性识别与检测功能的量子点材料。*”
* *代理师分析*:D1公开了源漏电极,且其有源层本身即为量子点。在底接触结构中,手性分子修饰的量子点层直接暴露并感受待测物,通过改变自身电荷状态影响晶体管性能,这与目标专利“量子点充发当栅电极功能(免去传统物理栅极)”的思路具有高度技术关联性。
* **技术特征F(关于光照)的原文出处**:
* 说明书第[0011]段:“*且其中一类可为具荧光检测功能的手性分子或在手性分子中混有荧光分子*”;第[0041]段:“*在激发波长为334nm的条件下进行荧光光谱的测定*”。D1是用光激发荧光进行光谱测量,并非配置GFET使其响应电磁辐射脉冲产生电子输出。
#### 2. 对比文件2 (D2: WO2012154726A1)
* **技术特征A、C、H的公开原文出处**:
* 说明书第[p0014]段(Summary):“*...providing a nanomaterial-containing sensor component, radiating the nanomaterial-containing sensor component with a predetermined wavelength, then contacting the nanomaterial-containing sensor component with a molecular analyte while radiating continues, and measuring a change in an electrical or physical property...*”
* 说明书第[p0037]段:“*In one preferred device, the nanomaterial-containing region can be a graphene layer which can be synthesized by chemical vapor deposition on Cu foil. This exemplary device can have two electrical contacts made of layers of Au and Ti...*”
* *代理师分析*:D2毫无异议地公开了包含石墨烯沟道、源漏电极的场效应晶体管,且将其暴露在化学分析物中,利用吸附产生的相互作用来改变电子输出(电导/电流)。
* **技术特征F(关于光照)的冲突原文出处**:
* 说明书第[p0041]段:“*In order to take advantage of this intrinsic sensitivity, in the present application the SWNTs had been continuously illuminated with UV light throughout the course of gas detection.*”
* *代理师分析*:D2明确要求在气体检测的**整个过程中持续进行UV光照(continuously illuminated / while radiating continues)**,以达到原位清洁表面、维持intrinsic高敏感度的目的。这与目标专利“被配置为被电磁辐射**脉冲**照射”,并利用**脉冲后的瞬态弛豫时间常数**来感测分析物的构思有着本质不同。
#### 3. 对比文件3 (D3: WO2013009961A1)
* **技术特征A、B、C、H的公开原文出处**:
* 说明书第[p0022]段(Detailed Description):“*The starting material consists of a degenerately doped Si wafer coated with a top thermal oxide layer... Then two metal electrodes (e.g. Pd/Cr) are patterned on top to electrically connect the graphene flake... the exposed graphene strip suspended as the sensing element...*”以及“*When gas molecules are adsorbed on the suspended graphene flake, the introduced carrier doping or mechanical stress results in a change of the electrical conductance of the device.*”
* *代理师分析*:D3完整公开了悬空石墨烯沟道场效应晶体管用于单分子气体感测的基本架构。
* **技术特征D(实质公开/替代特征)的原文出处**:
* 说明书第[p0024]-[p0026]段:“*Methods for the surface modification of suspended graphene sensors... approach (1): the thermal evaporation of small amounts of inorganic materials to decorate the graphene surface... inorganic materials include but are not limited to Pd, B4C, CdS, Ti, Au and Al...*”
* *代理师分析*:D3为了解决纯石墨烯缺乏选择性的问题,公开了在石墨烯表面修饰无机材料纳米颗粒(其中明确提及了“CdS”,这在领域内是典型的半导体量子点材料)。该修饰层与石墨烯沟道相互耦合用以绑定气体分子。
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## 三、 最接近对比文件(最接近现有技术)的选择与创造性逻辑分析
在针对本案的创造性分析或无效宣告程序中,**对比文件2(D2: WO2012154726A1)**和**对比文件3(D3: WO2013009961A1)**均适合作为创造性分析的**最接近现有技术**(最接近对比文件可为双主导视角)。
### 1. 从整体解决的技术问题和技术效果角度分析:
* **视角一:选择D2作为最接近的对比文件**
* **技术问题与效果重合度**:D2和目标专利共同致力于解决“如何利用光照刺激结合二维纳米材料(石墨烯)FET,消除表面环境污染/背景干扰,从而实现**超高灵敏度(达到ppq、ppt级)**感测流体中痕量化学分子(如NO、NO2、NH3)的技术问题”。二者均通过引入光辐射(如UV光)来显著提升GFET传感器的检测限(DL)和响应复原速度。
* **最接近理由**:D2率先引入了“光辐射 + 石墨烯GFET + 化学分析物暴露”的三合一联动架构,其技术领域、核心半导体晶体管敏感机理与目标专利最为接近。
* **视角二:选择D3作为最接近的对比文件**
* **技术问题与效果重合度**:D3聚焦于“如何通过石墨烯场效应传感器实现**超快(纳秒级时间尺度,nano-second time scale)**的实时动态分子感测”。这与目标专利说明书第[0010]、[0048]段提及的“利用瞬态特性表征分析物、监控幅度及响应时间常数”以实现高效率分类的技术诉求高度一致。同时,D3为解决纯石墨烯选择性不足的问题,引入了“金属/半导体纳米颗粒表面修饰”技术。
* **最接近理由**:D3在物理结构上公开了为了追求超快响应而对石墨烯表面进行的杂质/纳米颗粒修饰,这与目标专利“石墨烯沟道+耦合量子点”的复合敏感结构在空间形貌和化学修饰思路上最为接近。
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## 四、 结合其余对比文件的特征结合性分析(无效方视角)
若以 **D2** 或 **D3** 作为最接近的对比文件,目标专利权利要求1未被其公开的特异性技术特征,能够通过其余对比文件的结合被拼凑或合理解释:
### 1. 以D2为最接近现有技术,结合D3和D1:
* **D2未公开特征**:特征D(量子点耦合)、特征E(量子点作栅极功能)、特征F/G中的“脉冲”照射及响应脉冲的输出。
* **结合消除特征D、E**:审查员或无效请求方可推定,D2中已经公开了纯石墨烯作为敏感沟道,但说明书也承认存在选择性不强的问题。此时,**D3([p0024]-[p0025])**明确给出了教导:在石墨烯表面修饰一层无机纳米颗粒(如CdS纳米晶)可以特异性地绑定NO、NO2气体分子以提升选择性。而**D1([0009],[0023])**进一步给出了教导:可以将手性分子/特定修饰的纳米量子点直接用作场效应晶体管的敏感层,吸附后改变局部电荷分布从而门控晶体管(充当栅极功能)。因此,将D3的纳米颗粒修饰手段与D1的量子点门控晶体管原理结合到D2中,属于本领域技术人员为了提高选择性、免除复杂外部栅极结构而进行的常规组合。
### 2. 区别特征的防线:电磁辐射“脉冲”及瞬态弛豫电子输出
* 然而,本案**最核心的创造性防线(即其余对比文件均未明确公开的特征)**在于特征F和G的有机结合:**配置为被电磁辐射“脉冲”照射,且电子输出“响应于所述电磁辐射脉冲”表现为瞬态弛豫响应(如说明书中的时间常数$\tau_1 \sim \tau_4$)**。
* **D2**是显式地要求**“持续光照(continuous/while radiating continues)”**以保持表面清洁,其测量的是稳态电导改变量;**D3**虽然测量快响应,但其测量的是纯粹由气体吸附引起的电学阶跃,完全不需要光脉冲的参与。**D1**仅用常规激发光测荧光光谱。
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## 五、 无效请求程序中对于请求方来说“最薄弱的技术特征”
如果在2026年针对该目标专利提起无效宣告请求,对于请求方(无效发起人)来说,**最薄弱、最难攻克的专利防线技术特征**是:
> **技术特征F与特征G的协同耦合约束:即“石墨烯场效应晶体管被配置为被电磁辐射脉冲照射”,且“提供的电子输出是响应于所述电磁辐射脉冲而取决于样本内的分析物(即基于瞬态弛豫时间常数识别分析物)”。**
### 为什么这是最薄弱的攻击点(即专利权人最稳固的护城河)?
1. **现有技术存在技术偏见(Teaching Away)**:
在化学传感领域,诸如最接近的对比文件**D2**等现有技术,普遍认为光照(如UV光)的作用是**“原位持续清洁表面(in situ cleaning)”**,要求在检测全过程中连续开启光照(continuously illuminated)以对抗污染。而目标专利反其道而行之,采用**“脉冲照射”**,其目的不是为了持续清洁,而是为了**瞬间激发激子,随后关闭或利用脉冲沿,测量电荷在量子点和石墨烯沟道之间转移的“瞬态弛豫时间常数($\tau_1, \tau_2, \tau_3, \tau_4$)”**(参见目标专利说明书[0048]-[0057]及公式)。
2. **机理的异质性与新颖效果**:
现有技术(D2, D3)均是通过测量吸附前后的**“稳态电导改变量($\Delta G/G_0$)”**来确定气体浓度。而目标专利通过脉冲激发,将单一的电导输出变成了包含“幅度、响应时间常数、恢复时间常数”的多维瞬态曲线(说明书[0010])。这种通过电磁辐射脉冲激发的瞬态动力学特征识别方法,在三份对比文件中均未提供任何技术启示。
### 代理师针对无效诉讼的战略建议:
* **作为请求方(无效攻击方)**:若要强行突破这一特征,必须放弃D1-D3的单纯组合,需补充检索第四份对比文件(D4,如超快光谱学或瞬态光电传感器领域的通用教科书/基础专利),证明“利用光脉冲测试半导体界面载流子弛豫时间常数以反推表面吸附物物性”属于传感器领域的**公知常识**或**常规测试手段**,以此抹去其创造性高度。
* **作为专利权人(防御方)**:应牢牢死守“脉冲照射带来的瞬态时间常数响应”这一物理过程与“持续光照清洁/稳态电导测试”在感测机理、电路拓扑(目标专利图5A的高速光电同步电路)上的本质区别,以此答辩现有技术不存在结合启示,从而稳固维持专利有效。
作为一名经验丰富的专利代理师,我将为您对目标专利权利要求1进行深度解析,并结合对比文件D1(US20130032782A1)、D2(CN101923065B)及D3(WO2011006677A1)的原文进行逐项特征比对与创造性评述。
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## 一、 权利要求1的技术特征拆解与说明书释义
紧密结合目标专利(CN108431590B)的说明书,权利要求1的核心发明点在于**利用石墨烯的高载流子迁移率,结合量子点作为“光生电荷门控栅极”的瞬态响应特性,通过电磁辐射脉冲激发来高灵敏度地感测样本中的化学分析物**。说明书释义如下:
* **技术特征A~C(石墨烯FET基础结构):** 说明书\[0034\]-\[0062\]指出,石墨烯沟道5设置在源电极21与漏电极23之间,主电导可偏置为p型或n型。
* **技术特征D~E(量子点门控功能):** 说明书\[0037\]、\[0067\]明确指出,“量子点7层……执行GFET 3中的栅电极的功能”。入射光引起量子点内电荷分布变化,从而对石墨烯沟道进行门控(即光电门控效应,Photogating Effect)。
* **技术特征F~H(脉冲照射与分析物相互作用感测机制):** 说明书\[0047\]-\[0058\]是本发明的精髓。分析物与量子点/配体相互作用,**改变了电荷在量子点与石墨烯之间的转移速率(瞬态弛豫时间$\tau_1, \tau_2, \tau_3, \tau_4$)**。通过**电磁辐射脉冲**照射,GFET输出的**输出曲线(如响应时间常数、恢复时间常数)**会发生改变。这区别于传统的稳态电流大小测量。
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## 二、 目标专利与对比文件技术特征比对表
| 权利要求1的技术特征拆解 | 对比文件1 (D1)<br>US20130032782A1 | 对比文件2 (D2)<br>CN101923065B | 对比文件3 (D3)<br>WO2011006677A1 |
| 主前序: 一种用于感测的装置 | ❌ 仅公开用于光电探测/成像的平台 | 纯正公开(手性传感器) | 纯正公开(化学电阻传感器) |
| 特征A: 包括:石墨烯场效应晶体管 | 纯正公开 | ❌ 仅公开常规或有源层为量子点的FET | ❌ 仅作为化学电阻提及石墨烯材料 |
| 特征B: 其包括:源电极和漏电极 | 纯正公开 | 纯正公开 | ❌(D3为多电极化学电阻结构) |
| 特征C: 在所述源电极与所述漏电极之间设置石墨烯沟道 | 纯正公开 | ❌(其沟道/有源层整体为量子点) | ❌ |
| 特征D: 量子点,其与所述石墨烯沟道耦合 | 纯正公开 | ❌ | ❌ |
| 特征E: 所述量子点被配置为执行栅电极的功能 | 纯正公开(光控栅极) | ❌(量子点直接作为有源层导电沟道) | ❌ |
| 特征F: 被配置为被电磁辐射脉冲照射 | 实质公开(公开了复位脉冲信号) | ❌ | ❌ |
| 特征G: 暴露在化学分析物样本中,响应脉冲提供的电子输出取决于分析物 | ❌ | 实质公开(基于稳态电学参数改变) | ❌ |
| 特征H: 电子输出基于石墨烯FET与化学分析物的相互作用 | ❌ | 实质公开(无石墨烯参与) | ❌ |
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## 三、 对比文件原文详细出处与公开性分析
### 1. 对比文件D1 (US20130032782A1)
* **【毫无异议公开(纯正公开)的特征】:A、B、C、D、E**
* **详细出处:** 说明书第\[0011\]段及第\[0012\]段。
* **原文证据:** "A graphene layer (2) is deposited on a silicon substrate (4) with a SiO2 interlayer (3)... and two electrodes are connected to the graphene... to form the metal contacts of the device analogously to a source and drain electrodes in a FET transistor. Graphene is then overcoated with a layer of CQDs (1)"(公开了**特征A、B、C、D**)。
* **原文证据(特征E):** "This phenomenon (also called 'photogating effect') is equivalent to having a top gate on the graphene layer where the incident light is used to generate carriers in the QD layer which functions as an optically controlled gate." 毫无异议地公开了量子点执行**栅电极功能(特征E)**。
* **【实质公开的特征】:F**
* **详细出处:** 说明书第\[0013\]段。
* **原文证据:** "A high reverse bias signal pulse of the gate Vg2 can switch the direction of the electric field... to reset the device and control the temporal response" 虽然D1主要用于光电探测器,但其提到了利用“脉冲信号(signal pulse)”来控制时间响应和复位,可认为在技术手段上**实质公开了引入脉冲电磁辐射或电信号进行瞬态控制(特征F)**。
* **【未公开的特征】:G、H。** D1通篇应用于数字相机成像、夜视及单光子探测(第\[0021\]段),完全未提及暴露于化学分析物中进行感测。
### 2. 对比文件D2 (CN101923065B)
* **【毫无异议公开(纯正公开)的特征】:主前序、B**
* **详细出处:** 说明书第\[0007\]段、第\[0009\]段。
* **原文证据:** “场效应晶体管手性传感器……包括基底、栅绝缘层、有源层、栅电极、源电极、漏电极的场效应晶体管基本结构”。
* **【实质公开的特征】:G、H(关于化学感测部分)**
* **详细出处:** 说明书第\[0007\]段、第\[0023\]段。
* **原文证据:** “通过晶体管相关特性参数的改变,检测手性物质分子的类型,同时可以测量手性物质的含量及浓度……上述不同材料在对手性分子进行选择性反应后,通过外加电压,导致载流子迁移率、阈值电压、电流开关比和亚阈值斜率发生变化”。
* **评述:** D2公开了利用修饰过的量子点FET传感器暴露在化学样本中,通过与分析物的相互作用导致输出变化的构思,在**化学分析物感测的用途和整体系统配置上实质公开了特征G和H的相关属性**(但缺乏石墨烯FET和脉冲响应这一特定载体)。
* **【未公开的特征】:A、C、D、E、F。** D2的量子点本身就是有源层沟道,不是与石墨烯耦合,更不执行栅电极功能,也无电磁辐射脉冲。
### 3. 对比文件D3 (WO2011006677A1)
* **【分析】:** D3公开了一种多电极化学电阻(Chemiresistor),虽然在其长长的可选材料清单中提及了“graphene, carbon nanotube”(见DETAILED DESCRIPTION第4段),但其结构、感测机理(测量传导聚合物或材料的本体电阻及接触电阻,利用恒电位仪控制氧化还原状态)与本申请基于石墨烯FET及量子点光电门控的脉冲感测完全不同。D3未能给本申请的特征A~H提供实质性贡献。
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## 四、 最接近对比文件的选择与创造性评述
### 1. 最接近对比文件的确立(可有多个)
在无效宣告程序中,本案可确立**两个不同视角的最接近对比文件(D1 或 D2)**:
* **视角一:以 D1(US20130032782A1)为最接近对比文件(最推荐,成功率最高)**
* **技术领域与结构相似度:** D1与目标专利具有**高度几乎一致的微纳器件结构**(石墨烯沟道+上覆量子点层+源漏电极+利用光电门控效应由量子点充当栅极)。
* **解决的技术问题与效果:** 均是在探讨如何利用石墨烯和量子点的异质结提高光电转换的瞬态响应与增益性能(利用了相同的Photogating效应)。
* **视角二:以 D2(CN101923065B)为最接近对比文件**
* **技术领域与目的相似度:** 均属于**化学传感器领域**,直接公开了利用量子点FET暴露于样本中,通过与分析物相互作用引起的电学参数变化来识别分析物。
### 2. 特征结合与创造性三步法评述(以D1为主)
若以 **D1** 作为最接近的对比文件:
1. **确定区别特征:** 目标专利权利要求1相比于D1,区别在于:目标专利将该装置配置为**暴露在包括一个或多个化学分析物的样本中**,且所述电子输出的改变取决于**分析物与器件的相互作用**(即特征G、H的化学感测用途及机理)。
2. **确定实际解决的技术问题:** 如何扩展高性能石墨烯/量子点光电探测平台的应用范围,使之能够用于高灵敏度的化学物质检测。
3. **结合其余对比文件评述:** **D2**已经给出了明确的技术启示——将修饰过的量子点应用在场效应晶体管传感器中暴露给样本,利用分析物与量子点的相互作用改变电学输出。所述所属领域的普通技术人员在面对D1如此高性能的光电门控平台时,完全有动机引入D2的手性或化学修饰技术,将其暴露于目标分析物样本中。此时,分析物附着改变了介电环境或电荷转移速率(弛豫时间),进而改变光脉冲下的电子输出,这属于本领域技术人员结合D2后显而易见的用途联想与技术手段叠加。因此,权利要求1不具备创造性。
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## 五、 对于请求方(无效发起方)来说最薄弱的技术特征
如果在无效宣告程序中,专利权人(所有者)进行强力答辩,对于请求方而言,**最薄弱(即最难攻克、专利权人最容易据此守住专利)的技术特征**是:
> **特征F与特征G的有机结合体:响应于“电磁辐射脉冲”而提供的电子输出取决于样本内的分析物(即通过脉冲瞬态弛豫时间常数 $\tau$ 来分类分析物的机制)。**
### 为什么这一特征最薄弱(最难无效):
1. **D1虽然有脉冲,但用途不同:** D1中虽然提到了“信号脉冲(signal pulse)”,但那是施加在Vg2顶栅上的**电脉冲**,用于“重置(reset)”捕获的空穴并驱动其复合,其**感测**过程仍然是基于稳态光照下的高增益。D1并没有启示利用“电磁辐射脉冲”作为激发源来提取瞬态响应曲线。
2. **D2完全是稳态电学测量:** D2检测分析物是依靠“载流子迁移率、阈值电压、电流开关比”等静态/稳态参数的变化(说明书\[0023\])。它完全没有引入光辐射,更没有引入脉冲激发。
3. **技术效果的突变:** 目标专利通过引入“电磁辐射脉冲”,利用了说明书\[0052\]-\[0058\]所述的四个特殊弛豫时间($\tau_1, \tau_2, \tau_3, \tau_4$)。由于不同的分析物对电荷转移速率影响不同,这种**脉冲瞬态分析法**极大地提高了传感器的选择性和定性分类能力(解决传统传感器容易交叉敏感的痛点)。
### 请求方的应对策略建议:
为了强化这一薄弱环节,请求方需要进一步补充检索**气体传感器/生物传感器领域中关于“利用光脉冲/电脉冲动态激发测量瞬态响应常数(Transient Response / Time Constant)来识别气体成分”的常规技术手段公知常识(教科书或相关动态测定法论文)**,以此证明利用脉冲下的弛豫时间变化来分辨化学物质属于本领域的惯用技术手段,从而彻底封死专利权人的答辩空间。
作为一名经验丰富的专利代理师,我现紧密结合目标专利(下称“本申请”)的说明书及权利要求书,对比三份对比文件(D1、D2、D3)的原文进行深度侵权/无效分析。
本案涉及的目标专利信息如下:
* **目标专利(本申请):** CN108431590B,《使用石墨烯沟道、量子点和电磁辐射感测分析物的装置和方法》
* **对比文件1(D1):** US20130032782A1 (OPTOELECTRONIC PLATFORM WITH CARBON BASED CONDUCTOR AND QUANTUM DOTS...)
* **对比文件2(D2):** CN101923065B (场效应晶体管手性传感器及其制备方法)
* **对比文件3(D3):** WO2011006677A1 (MULTI-ELECTRODE CHEMIRESISTOR)
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### 一、 权利要求1的技术特征拆解与目标专利说明书对应分析
基于本申请说明书的描述,权利要求1各技术特征的实质内涵与发明目的解析如下:
1. **特征A~C(石墨烯FET及沟道配置):** 属于基础器件物理结构。说明书 `[0034]` 明确指出“石墨烯沟道5可以设置在源电极与漏电极之间……石墨烯可以包括原子单层”,以此建立超高迁移率的导电通路。
2. **特征D~E(量子点耦合及栅电极功能):** 说明书 `[0037]` 和 `[0067]` 揭示了**“光控栅极(Photogating effect)”**的原理。量子点7覆盖或相邻于石墨烯沟道,吸收光子产生电荷,电荷分布改变直接对石墨烯沟道进行门控,等效于传统的栅电极。
3. **特征F~H(脉冲照射与化学分析物交叉感测):** 这是本申请的核心发明点。说明书 `[0048]`、`[0052]`~`[0059]` 详细解释,装置通过**“电磁辐射脉冲”**激发瞬态响应(产生具有特定弛豫时间 $\tau_1, \tau_2, \tau_3, \tau_4$ 的瞬态电流 $\Delta I_{DS}$)。由于化学分析物与量子点/配体相互作用会改变电荷转移速率,导致**瞬态响应曲线(包括幅度、时间常数、恢复时间等)**发生变化。通过分析这种由脉冲光激发的“瞬态特性”来对分析物进行分类和识别。
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### 二、 对比文件原文比对与公开性分析
#### 1. D1(US20130032782A1)公开性分析
* **结构与原理:** D1公开了一种由石墨烯(2)和胶体量子点(CQD)(1)组成的杂化光电晶体管。其原文 `[0011]` 明确公开了基于硅衬底、SiO2绝缘层、石墨烯层以及连接在石墨烯两侧的金属触点(相当于源漏电极)。
* **光控栅功能:** D1原文 `[0012]` 明确指出了“photogating effect”,即“incident light is used to generate carriers in the QD layer which functions as an optically controlled gate(入射光在QD层产生载流子,其起到光控栅极的作用)”,毫无异议地公开了**特征E**。
* **缺陷分析(未公开特征):** D1的定位是**光电探测器/图像传感器**(参见 `[0021]` “imaging sensors for digital cameras, remote sensing, night vision”),其目的是提高光电导增益(Gain on the order of $10^6$)。D1**完全没有提及**将该装置暴露于“化学分析物”或“样本”中,也没有利用这种结构进行化学感测。因此,D1未公开特征G和H,也未实质公开特征F在化学感测环境下的脉冲调制应用。
#### 2. D2(CN101923065B)公开性分析
* **结构与原理:** D2公开了一种场效应晶体管手性传感器。其主要结构包括基底、栅绝缘层、有源层、栅、源、漏电极(参见 `[0009]`、`[0024]`)。其有源层(4)为经手性分子修饰的量子点材料。
* **化学感测:** D2明确公开了将其暴露于待测手性物质中(特征G、H),通过“测量晶体管的相关特性参数的改变,可以得到有关分子的类型,含量及浓度”(参见 `[0023]`)。
* **缺陷分析(未公开特征):**
* D2的沟道(有源层)本身就是量子点薄膜(`[0009]`),而**非石墨烯沟道**,未公开特征A、C。
* D2中的栅电极是**独立的金属栅电极**(参见 `[0013]` 步骤I“制备一层金属性的栅电极”,以及 `[0024]` “基本结构至少包括基底1、栅电极2……”),其量子点充当的是有源层通路,而不是“被配置为执行栅电极的功能”,未公开特征E。
* D2完全依靠**外加电压(电学非瞬态输入)**来激发信号(参见 `[0023]` “通过外加电压,导致载流子迁移率……发生变化”),**完全未公开电磁辐射脉冲照射(特征F)**及响应脉冲的电子输出。
#### 3. D3(WO2011006677A1)公开性分析
* **结构与原理:** D3公开了一种多电极化学电阻传感器(Multi-electrode chemiresistor),主要用于通过电学控制化学敏感材料的亲和力,实现快速再生(参见摘要、说明书第10页)。
* **缺陷分析(未公开特征):** D3所采用的核心敏感材料是**导电聚合物**(Conductive polymers,如聚苯胺、聚吡咯等,参见第11页),虽然在文字中概括性地提到了“graphene, carbon nanotube”(第12页),但其器件架构是利用多电极(如4点法测电阻、另外的电极控制氧化还原状态,参见第10页“6-point configuration”),这与基于石墨烯FET、且由**量子点作为光控栅极**的结构有本质不同。D3同样没有配置量子点作为栅极,更未公开通过电磁辐射脉冲照射来获取与化学分析物相互作用的瞬态输出特征(未公开D、E、F、G、H)。
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### 三、 技术特征比对表
| 权利要求1的技术特征 | D1(US20130032782A1)原文出处及比对结果 | D2(CN101923065B)原文出处及比对结果 | D3(WO2011006677A1)原文出处及比对结果 |
| 前序部分: 一种用于感测的装置 | 实质公开。 [0021] 提到用于图像感测(imaging sensors, remote sensing)。 | 毫无异议公开。 [0001]“一种用于手性识别研究的传感器”。 | 毫无异议公开。 标题及第10页“chemiresistor sensors”。 |
| 特征A: 包括:石墨烯场效应晶体管 | 毫无异议公开。 [0011]“graphene layer... analogously to a source and drain electrodes in a FET transistor”。 | 未公开。 其晶体管有源层为量子点薄膜,非石墨烯FET。 | 未公开。 虽提及石墨烯材料,但未公开此FET架构。 |
| 特征B: 其包括:源电极和漏电极 | 毫无异议公开。 [0011]“two electrodes are connected... analogously to a source and drain electrodes”。 | 毫无异议公开。 [0009]“包括……源电极、漏电极”。 | 毫无异议公开。 第10页“comprising at least 2, preferably 4, electrodes...”。 |
| 特征C: 其中,在所述源电极与所述漏电极之间设置石墨烯沟道 | 毫无异议公开。 [0004]、[0011]“graphene layer... as the carrier transport channel”。 | 未公开。 D2在源漏之间设置的是量子点有源层([0016])。 | 未公开。 D3设置的是导电聚合物层(第11页)。 |
| 特征D: 量子点,其与所述石墨烯沟道耦合 | 毫无异议公开。 [0011]“graphene is then overcoated with a layer of CQDs (1)”。 | 实质公开(部分)。 公开了量子点薄膜及修饰,但未与石墨烯沟道耦合。 | 未公开。 未涉及量子点与石墨烯的耦合结构。 |
| 特征E: 其中,所述量子点被配置为执行栅电极的功能 | 毫无异议公开。 [0012]“QD layer which functions as an optically controlled gate”。 | 未公开。 D2具有独立金属栅电极([0013]),量子点非栅极功能。 | 未公开。 未涉及此结构。 |
| 特征F: 其中,所述石墨烯场效应晶体管被配置为被电磁辐射脉冲照射 | 实质公开。 [0012]“Incident photons create...”、[0013]“high reverse bias signal pulse...”。(但未结合化学感测) | 未公开。 D2完全不依赖光照射或脉冲光,而是外加电压([0023])。 | 未公开。 D3主要利用电学多电极控制和光学吸收光谱测定,非此脉冲FET。 |
| 特征G: 并被配置为暴露在包括一个或多个化学分析物的样本中,以使得由所述石墨烯场效应晶体管响应于所述电磁辐射脉冲而提供的电子输出取决于所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的至少一个 | 未公开。 D1仅用于物理光电探测,未提及暴露于化学分析物样本中。 | 实质公开(核心机理)。 [0023]“对手性分子进行选择性反应后……测量晶体管的相关特性参数的改变,可以得到有关分子的类型……”。 | 实质公开(部分)。 提及传感器暴露于分析物并引起电阻变化(第10页)。 |
| 特征H: 其中,所述电子输出是基于所述石墨烯场效应晶体管与所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的所述至少一个的相互作用 | 未公开。 原因同上,不涉及化学相互作用。 | 毫无异议公开。 [0007]“将量子点材料与场效应晶体管器件结构相结合……检测手性物质分子的类型”。 | 毫无异议公开。 第14页“interaction with analyte leads to the reduction/oxidation...”。 |
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### 四、 最接近对比文件(最接近现有技术)的选择与分析
在创造性分析中,本案适合作为最接近对比文件的是:**D1(US20130032782A1)**。
#### 1. 选择D1作为最接近对比文件的理由:
* **技术领域与核心架构高度重合:** D1同样属于半导体纳米器件及光电晶体管领域。它公开了本申请权利要求1中**最难构思的硬件核心架构**——“石墨烯沟道+自组装胶体量子点”的杂化FET结构,并且明确指出了利用量子点作为“光控栅极(photogating effect)”来对石墨烯进行门控这一核心物理机制(完全覆盖了特征A、B、C、D、E以及部分的F)。
* **整体解决的技术问题与技术效果的关联性:** * **D1解决的技术问题:** 如何克服传统光电探测器缺乏光电导增益、工作电压高、难以与CMOS集成的缺陷。其技术效果是实现了高达 $10^6$ 的超高光电增益。
* **本申请解决的技术问题:** 如何制造更好的化学感测装置,实现无需化学采样的高灵敏度分类识别(说明书 `[0003]`、`[0098]`)。
* 虽然本申请的应用场景是“化学感测”,而D1是“光电探测”,但本申请正是**完全侵占并利用了D1所达到的“超高光电增益及高瞬态敏感度(光控栅效应)”这一物理效果**,将其引入到化学环境中,利用化学分析物对该光电转移过程的调制作用来实现感测。从晶体管物理结构和基础电学响应角度看,D1是最佳的演进起点。
#### 2. 为什么D2不适合作为最接近的对比文件?
D2虽然属于“化学传感器(手性传感器)”领域,与本申请的最终用途一致,但D2的器件物理机制完全不同(D2是常规的金属背栅FET,以量子点薄膜直接作为有源导电沟道,不具有石墨烯,更不涉及光敏产生的“光控栅”瞬态调制行为)。若以D2为起点,审查员需要论证在没有启示的情况下,发明人如何想到抛弃金属栅极、引入石墨烯、再引入脉冲光等一系列根本性结构变革,论证逻辑跨度过大。因此,D1作为最接近现有技术在法律和技术逻辑上最为稳固。
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### 五、 结合其余对比文件的创造性评述(无效宣告成功概率分析)
本申请权利要求1相对于D1的区别特征在于:**特征G和H(即:将该特定结构配置为暴露在化学分析物样本中,且其电子输出取决于分析物与器件的相互作用)**。
#### 1. 其余对比文件是否公开了区别特征?
* **D2和D3**均明确公开了“场效应晶体管/化学电阻结构可暴露于化学分析物样本中,通过分析物与敏感材料的相互作用(如吸附、介电环境改变、氧化还原)改变电学输出”这一通用技术手段。
* 特别是D2,明确指出了“将手性分子修饰到量子点上……对手性分子进行选择性反应后……导致载流子迁移率等参数发生变化”(参见 `[0019]`、`[0023]`)。
#### 2. 无效请求中最薄弱的技术特征(即本申请的“护城河”)
如果作为请求人对本申请提出无效宣告,**最薄弱(即最容易被攻破)的技术特征**是:**“将D1的光电晶体管置于化学样本环境下进行感测(即广义的特征G和H)”**。
* **理由:** 胶体量子点(CQD)表面通常具有配体(D1原文 `[0015]` 提到了有机配体和配体交换),在传感器领域,任何领域的技术人员都知晓量子点表面的有机配体/环境极性极易受到外界化学分子的影响(D2和D3已给出充分启示)。将一个现成的超高灵敏度光电探测器(D1)脱去封装,暴露在气体/液体分析物中以期获得高灵敏度的化学调制信号,属于本领域技术人员“合理预期能够成功”的尝试(Try to see),这种应用领域的转用极易被评述为不具备创造性。
#### 3. 本申请可能据以抗辩的“真正发明点”(真正稳固的特征)
然而,仔细研读本申请说明书后发现,本申请权利要求1中其实隐藏了一个更深层的机理——**特征F中“电磁辐射脉冲”所激发的瞬态特性分析**。
* 说明书 `[0052]`~`[0059]` 给出核心公式,本申请不是简单测量光电流的绝对值大小(如果是绝对值大小,极易被D1+D2组合无效),而是**通过脉冲照射,测量电流上升/下降沿对应的多个弛豫时间常数($\tau_1$ 到 $\tau_4$)的分量幅度变化**。
* D1虽在 `[0013]` 提到可以用“信号脉冲(signal pulse)”来重置(reset)器件,但那是为了清除积聚电荷以恢复器件,而不是为了在感测过程中利用**瞬态动力学特征值(弛豫时间常数)**对多种化学物质进行多维度谱图分类(说明书 `[0059]` “多个不同的分析物可以为输出贡献特征时间常数……检查分量幅度来确定浓度”)。
### 代理师总结建议
1. **作为无效请求人:** 应当以 **D1 为最接近现有技术**,证明核心硬件架构和光控栅原理已被毫无异议公开;然后结合 **D2 或 D3** 证明“利用晶体管结合敏感材料与分析物相互作用进行化学感测”是本领域的公知常识或通用手段。主张将D1的设备用于化学感测属于显而易见的领域转用。
2. **作为专利权人(防御视角):** 权利要求1的字面表述较为宽泛(仅写了“电子输出取决于样本……基于相互作用”)。如果初审或无效程序中被D1+D2断路,**最具防御力的退守方案**是:将说明书 `[0008]`、`[0052]`~`[0059]` 关于“**通过监控石墨烯场效应晶体管响应脉冲的瞬态参数(响应时间常数、恢复时间常数等弛豫时间分量)对分析物进行分类**”的技术特征限缩写入权利要求。这一“利用光激发 transient 动力学进行多化学组分同时分峰检测”的特征,在D1、D2、D3中均未被实质公开,是本申请最坚固的创新护城河。
根据权利要求1所述的装置,其中,由所述石墨烯场效应晶体管响应于所述电磁辐射脉冲而提供的电子输出使所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的至少一个能够被识别。
根据权利要求1所述的装置,其中,所述石墨烯场效应晶体管包括与所述量子点耦合的配体。
根据权利要求1所述的装置,包括多个石墨烯场效应晶体管。
根据权利要求4所述的装置,其中,不同的石墨烯场效应晶体管被配置为当所述装置暴露在所述样本中时提供对电磁辐射脉冲的不同的响应。
根据权利要求4所述的装置,其中,不同的石墨烯场效应晶体管具有以下中的至少一项:不同类型的量子点、不同类型的配体、不同的厚度。
根据权利要求1所述的装置,包括: 发射器,其被配置为提供电磁辐射脉冲。
根据权利要求7所述的装置,其中,所述发射器被配置为使以下中的至少一项能够被控制:电磁辐射脉冲的波长、功率、持续时间、电磁辐射脉冲的脉冲重复频率。
根据权利要求7所述的装置,其中,所述发射器被配置为在第一时间提供第一电磁辐射脉冲以引发所述样本内的光化学反应,以及在第二时间提供第二电磁辐射脉冲以从所述石墨烯场效应晶体管获得响应。
根据权利要求1所述的装置,包括: 光电检测器,其与所述装置中的石墨烯场效应晶体管的栅电极耦合。
根据权利要求1所述的装置,包括: 电路,其用于监控所述石墨烯场效应晶体管的所述响应的参数,其中,所述参数包括以下中的至少一项:幅度、响应时间常数、恢复时间、恢复时间常数。
根据权利要求1所述的装置,包括至少一个温度传感器。
根据权利要求1所述的装置,包括至少一个压力传感器。
一种用于感测的方法,包括: 使石墨烯场效应晶体管暴露在包括一个或多个化学分析物的样本中,其中,所述石墨烯场效应晶体管包括:源电极和漏电极,其中,在所述源电极与所述漏电极之间设置石墨烯沟道,其中,量子点与所述石墨烯沟道耦合,其中所述量子点被配置为执行栅电极的功能; 通过电磁辐射脉冲照射所述石墨烯场效应晶体管,以使得由所述石墨烯场效应晶体管响应于所述电磁辐射脉冲而提供的电子输出取决于所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的至少一个,其中,所述电子输出是基于所述石墨烯场效应晶体管与所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的所述至少一个的相互作用。
根据权利要求14所述的方法,其中,由所述石墨烯场效应晶体管响应于所述电磁辐射脉冲而提供的电子输出使所述样本内的所述一个或多个化学分析物中的至少一个能够被识别。
根据权利要求14所述的方法,其中,所述石墨烯场效应晶体管包括与所述量子点耦合的配体。
根据权利要求14所述的方法,包括将多个石墨烯场效应晶体管放置在所述样本内。
根据权利要求17所述的方法,其中,不同的石墨烯场效应晶体管被配置为当所述多个石墨烯场效应晶体管暴露在所述样本中时提供对电磁辐射脉冲的不同的响应。
根据权利要求17所述的方法,其中,不同的石墨烯场效应晶体管具有以下中的至少一项:不同类型的量子点、不同类型的配体、不同的厚度。