非显而易见性评估仅供参考，不构成法律建议。
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对比文件列表
| 编号 | 名称 |
|---|
权利要求1
一种用于集成电路的密封系统，其包含： 密封环，其限定所述集成电路，所述密封环包括具有入口部分及出口部分的至少一个沟道，所述入口部分从所述出口部分偏移；及所述沟道下的衬底的掺杂区域，其具有比所述密封环之下的所述衬底的掺杂浓度低的掺杂浓度，借此对跨越所述沟道的信号传播的抵抗力得以增加。
权利要求2
根据权利要求1所述的密封系统，其中所述入口与所述出口分离开至少100um。
权利要求3
一种用于集成电路的密封系统，其包含： 密封装置，其限定所述集成电路，所述密封装置包括具有入口部分及出口部分的至少一个分离装置，所述入口部分从所述出口部分偏移；及所述分离装置下的衬底的掺杂区域，其具有比所述密封装置之下的所述衬底的掺杂浓度低的掺杂浓度，借此对跨越所述分离装置的信号传播的抵抗力得以增加。