对比文件名称：发明专利_JP2013162644A Power transmitting device, power receiving device, and power transmission system
目标专利名称：用于屏蔽无线功率发射器的装置和方法
本次调用模型名称：未提供
## 特征比对表格 ##
| 技术特征描述以及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征B：《隐含公开》<br>具有限定多个槽的形状，所述多个槽从所述第一金属片的周边向内延伸 | [0009] ...上記シールド部材は少なくとも１箇所電気的に切断されている。<br>（...所述屏蔽构件至少在至少一处被电切断。）<br>[0010] 他の形態においては、上記シールド部材は、上記コイルを内部に収容し、両端部を有する筒状体である。<br>（在其他形态中，所述屏蔽构件是容纳所述线圈并且具有两端的筒状体。）<br>[0012] ...上記シールド部材は、第１シールド部材および第２シールド部材を含み...<br>（...所述屏蔽构件包括第一屏蔽构件和第二屏蔽构件...） | **公开性判断**：目标专利的“多个槽”是金属片上的切口，用于阻断涡流路径。对比文件的“筒状体”（[0010]）被“电气切断”（[0009]），形成间隙（如图6/7所示间隙C），这实质上在导电屏蔽体上制造了一个“槽”或断开。虽然对比文件主要描述筒状体，但其同样公开了片状屏蔽构件的形态（[0012]的“第1シールド部材”和“第2シールド部材”），其“电气切断”同样可适用于片状构件，形成一个从周边延伸的“槽”。本领域技术人员能够理解，为了实现电切断，必然需要从屏蔽构件的边缘（周边）向内形成物理上的切口或间隙。虽然对比文件明确记载的是“至少一处”切断，而目标专利是“多个槽”，但本领域技术人员可以从“一处切断”这一技术启示出发，为了获得更好的屏蔽或涡流抑制效果，显而易见地想到设置多个类似的切断（即多个槽）。因此，该特征被对比文件**隐含公开**。 |
| 技术特征C：《直接公开》<br>线圈，被配置为生成足以对负载充电或供电的磁场 | [0009] この発明に基づいた送電装置においては、受電部に非接触で電力を送電する送電部を備える送電装置であって、上記送電部は、コイルを有し...<br>（在本发明所基于的送电装置中，是具备以非接触方式向受电部输送电力的送电部的送电装置，所述送电部具有线圈...）<br>图1及对应说明，整个系统用于对车辆电池15充电。 | **公开性判断**：对比文件明确其发明涉及无线电力传输系统（如对电动车充电，见背景技术和图1），其送电部（或受电部）包含线圈（[0009]），该线圈用于生成磁场以进行非接触式电力传输，这必然足以对负载（如电池）充电或供电。这与目标专利中线圈的作用完全相同。因此，该特征被对比文件**直接公开**。 |
| 技术特征D：《未公开》<br>并且其中所述多个槽被配置为至少部分地消除经由所述磁场在所述第一金属片中生成的涡流 | [0009] ...上記シールド部材は少なくとも１箇所電気的に切断されている。<br>[图9及相关描述] ...筒状体２４０は、完全な環状ではなく、端部２４０Ｅ１と端部２４０Ｅ２とが対向するように間隙Ｃが設けられていることから、共鳴コイル２４に発生する電流を打ち消すような電流が筒状体２４０に流れることはない。<br>（...筒状体240不是完整的环状，因为端部240E1和240E2以具有间隙C的方式对置，所以不会在筒状体240中流过抵消谐振线圈24中产生的电流那样的电流。） | **公开性判断**：目标专利的“槽”的明确作用和配置目的是“至少部分地消除...涡流”（见说明书[0049]、[0053]、图11A-11B）。对比文件中，屏蔽构件（筒状体或片）上的“电气切断”或“间隙”的作用，如[图9及相关描述]明确解释，是为了防止在屏蔽体中形成抵消线圈电流的环流，从而避免磁场被屏蔽，其核心目的是让磁场通过而抑制电场辐射（见[0008]、[0033]）。虽然防止环流在客观效果上可能减少了某种形式的感应电流，但对比文件既未提及“涡流（渦電流）”这一概念，也未将其技术效果描述为“消除涡流”。两者要解决的技术问题和所起的作用不同。因此，该特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征E：《未公开》<br>所述多个槽中的第一槽和第二槽被配置为使得在所述第一槽的第一侧在第一方向上流动的涡流至少部分地被在所述第二槽的第二侧与所述第一方向相反地流动的涡流消除，其中所述第二槽的所述第二侧邻近所述第一槽的所述第一侧 | 对比文件未提及相关内容。 | **公开性判断**：该特征限定了槽之间涡流相互抵消的具体空间配置和物理机制。对比文件完全没有描述屏蔽构件中电流（或涡流）的流动方向、相互作用以及抵消机制。因此，该特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征F：《未公开》<br>所述第一槽和所述多个槽中的第三槽被配置为使得在所述第一槽的端部在第三方向上流动的涡流至少部分地被在所述第三槽的端部与所述第三方向相反地流动的涡流消除 | 对比文件未提及相关内容。 | **公开性判断**：该特征进一步限定了槽端部之间涡流相互抵消的具体机制。对比文件完全没有涉及槽端部或电流在端部的流动方向及相互作用。因此，该特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征G：《未公开》<br>进一步包括一个或多个铁氧体片 | 对比文件全文未提及“铁氧体（フェライト）”材料。 | **公开性判断**：对比文件的屏蔽构件由导体（如金属、铜箔）构成（见筒状体描述），用于电屏蔽。目标专利的铁氧体片用于为磁通提供低磁阻路径、引导磁场或增加隔离（见说明书[0049]、[0054]）。两者材料、结构、功能均不同。因此，该特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征H：《未公开》<br>其中所述一个或多个铁氧体是放置在所述多个槽之上或之内的片 | 对比文件全文未提及“铁氧体（フェライト）”材料。 | **公开性判断**：该特征依赖于特征G的铁氧体片的存在。由于对比文件未公开铁氧体片，自然也未公开将其放置在槽上或槽内的具体配置。因此，该特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征I：《隐含公开》<br>进一步包括第二金属片，其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧并且所述第二金属片位于所述线圈的第二侧 | [0012] ...上記シールド部材は、第１シールド部材および第２シールド部材を含み、上記第１シールド部材は、第２絶縁部材上に配置され、上記第２シールド部材は、第３絶縁部材上に配置され、上記第１絶縁部材を上記第２絶縁部材と上記第３絶縁材とにより挟みこむことで、上記コイルが上記第１シールド部材と上記第２シールド部材とにより挟まれる。<br>（...所述屏蔽构件包括第一屏蔽构件和第二屏蔽构件，所述第一屏蔽构件配置在第二绝缘构件上，所述第二屏蔽构件配置在第三绝缘构件上，通过利用所述第二绝缘构件和所述第三绝缘构件夹持所述第一绝缘构件，所述线圈被所述第一屏蔽构件和所述第二屏蔽构件夹持。）<br>图17及对应说明。 | **公开性判断**：目标专利的“第一金属片”和“第二金属片”位于线圈两侧。对比文件在图17及相关描述（[0012]）中明确公开了“第1シールド部材240X”和“第2シールド部材240Y”分别配置在线圈（共鳴コイル24）的上下两侧（即第一侧和第二侧），并且由绝缘基板隔开。对比文件的“シールド部材”由金属层形成（メタル層，见[0012]后文），因此是金属片。虽然对比文件的屏蔽片形状可能是环状（所定の幅を有する環状の形状），而目标专利的金属片可能具有不同形状（如带槽的平板），但“位于线圈两侧的金属片”这一基本结构已被公开。本领域技术人员可以从对比文件公开的“线圈被两个金属屏蔽片夹持”的结构中，毫无疑义地得出该特征。因此，该特征被对比文件**隐含公开**。 |
| 技术特征J：《隐含公开》<br>其中所述第二金属片包括全金属片 | [0012] ...第１シールド部材および第２シールド部材は...所定の幅を有する環状の形状を有するメタル層から形成されている。<br>（...第一屏蔽构件和第二屏蔽构件...由具有预定宽度的环状形状的金属层形成。）<br>“全金属片”在目标专利中通常指未经图案化（无槽）的完整金属片。对比文件的“メタル層”是完整的导电层，没有提及在其上设置类似槽的图案。 | **公开性判断**：目标专利的“全金属片”指完整的、无槽的金属片。对比文件描述其屏蔽构件（第1/第2シールド部材）是“金属层”（メタル層）。从上下文看，该金属层用于屏蔽，是完整的导电体。虽然对比文件未明确使用“全金属”一词，但本领域技术人员能够理解，作为用于电场屏蔽的金属层，其本身应是连续的、完整的导电片，即“全金属片”。因此，该特征被对比文件**隐含公开**。 |
| 技术特征K：《未公开》<br>其中所述线圈包括沿着第一平面的线圈环，其中所述多个槽与所述线圈环的至少一部分重叠并且被配置为沿着所述第一平面垂直于所述线圈环 | 对比文件未明确描述槽（间隙）与线圈环的相对位置和方向关系。图6/7显示筒状体环绕线圈，其间隙（槽）的位置可能对应于线圈的某部分，但并未记载“重叠”及“垂直于线圈环”的具体空间配置。 | **公开性判断**：该特征限定了槽与线圈环之间特定的几何关系：重叠且垂直。对比文件虽然公开了线圈和带间隙的屏蔽体，但并未描述两者之间如此具体的位置和方向关系。本领域技术人员不能从对比文件中毫无疑义地得出或必然推导出该配置。因此，该特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征L：《隐含公开》<br>进一步包括位于所述第一金属片的第一侧的电介质片 | [0012] ...上記第１シールド部材は、第２絶縁部材上に配置され...上記第２シールド部材は、第３絶縁部材上に配置され...<br>（...所述第一屏蔽构件配置在第二绝缘构件上...所述第二屏蔽构件配置在第三绝缘构件上...）<br>图17中，绝缘基板（絶縁基板）240b、240c位于屏蔽构件和线圈之间。 | **公开性判断**：目标专利的“电介质片”用于提供物理间隔和绝缘，防止短路（见说明书[0049]）。对比文件在[0012]和图17中明确公开了“絶縁部材”（绝缘构件，如绝缘基板240b、240c）位于屏蔽构件（金属片）和线圈之间，其作用同样是绝缘和间隔。电介质是绝缘材料的一种。因此，该特征被对比文件**隐含公开**。 |
| 技术特征M：《隐含公开》<br>其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧 | 同技术特征I的引用[0012]及图17。第一屏蔽构件（第1シールド部材240X）明确位于线圈的一侧（上方）。 | **公开性判断**：如特征I所述，对比文件公开了第一屏蔽构件（金属片）位于线圈的一侧（第一侧）。因此，该特征被对比文件**隐含公开**。 |
| 技术特征N：《未公开》<br>进一步包括第三金属片，所述第三金属片包括多个槽，所述多个槽从所述第三金属片的周边延伸，其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧并且所述第三金属片位于所述线圈的第二侧 | 对比文件仅公开了两个屏蔽构件（第1和第2シールド部材），且未记载第二屏蔽构件（对应第二侧金属片）也具有槽（电气切断）。其第二屏蔽构件被描述为完整的金属层（见特征J论述）。 | **公开性判断**：该特征限定了线圈两侧的金属片都带槽。对比文件只公开了线圈两侧有金属片，但未记载位于线圈第二侧的金属片（第二屏蔽构件）也具有槽。根据特征J的论述，第二侧的金属片是完整的金属层。因此，该特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征O：《隐含公开》<br>其中所述第一金属片被配置为将所述线圈从位于所述线圈的充电区域内的金属或外来物体或表面屏蔽 | [0002] これらの電力伝送システムにおいては、送電部をシールド部材で覆い、漏洩電磁界を低減するシールド構造が開示されている。<br>（在这些电力传输系统中，公开了用屏蔽构件覆盖送电部、降低泄漏电磁场的屏蔽结构。）<br>[0033] ...非接触で電力伝送を行なう場合に、電磁界を構成する電界成分と磁界成分のうち、電界成分を低減することが可能となる。<br>（...在非接触进行电力传输时，能够降低构成电磁场的电场成分和磁场成分中的电场成分。）<br>屏蔽构件（シールド部材）的作用即是屏蔽/降低电磁场。 | **公开性判断**：目标专利的金属片用于将线圈从附近的金属或外来物体屏蔽。对比文件中的屏蔽构件（筒状体或片）的根本作用就是进行电磁屏蔽（[0002]），其技术效果是降低电场辐射（[0033]）。虽然对比文件强调了对电场的抑制，但屏蔽构件的存在客观上也会影响磁场与外部金属物体的耦合，从而提供一定程度的隔离作用。本领域技术人员可以理解，设置屏蔽构件的目的是为了保护系统或减少对外部环境的影响，这隐含了屏蔽外部物体的功能。因此，该特征被对比文件**隐含公开**。 |
| 技术特征P：《直接公开》<br>进一步包括谐振电路，所述谐振电路包括所述线圈 | [0009] ...送電部は、コイルを有し...<br>[0014] ...上記送電部の固有周波数と上記受電部の固有周波数との差は、上記受電部の固有周波数の１０％以下である。<br>（...所述送电部的固有频率与所述受电部的固有频率之差为所述受电部的固有频率的10%以下。）<br>[0015] ...上記送電部は...特定の周波数で振動する磁界...を通じて...電力を送電する。<br>（...所述送电部...通过以特定频率振动的磁场...输送电力。）<br>整个系统基于磁共振耦合工作，线圈是谐振电路的一部分。 | **公开性判断**：目标专利的谐振电路用于提高无线功率传输效率。对比文件明确其电力传输基于共振（共鳴）原理（见[0014]关于固有频率，[0015]关于特定频率振动的磁场），其送电部和受电部包含线圈和电容，构成谐振电路（LC谐振电路）。因此，该特征被对比文件**直接公开**。 |
| 技术特征Q：《未公开》<br>其中所述多个槽从所述第一金属片的相对侧水平地向内延伸，并且其中来自所述第一金属片的相对侧的槽对在所述第一金属片的中央区域内竖直地重叠 | 对比文件未描述槽（间隙）具有从相对侧水平延伸并在中央竖直重叠的具体图案。 | **公开性判断**：该特征限定了非常具体的槽布局图案（如图8A所示）。对比文件的“电气切断”可能只是一个简单的间隙，并未公开这种复杂的交叉重叠图案。因此，该特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征R：《未公开》<br>其中所述多个槽跨所述第一金属片对角地延伸 | 对比文件未描述槽（间隙）对角延伸的图案。 | **公开性判断**：该特征限定了槽的特定走向（对角延伸，如图9A）。对比文件未公开此具体图案。因此，该特征未被对比文件公开。 |
| 技术特征S：《未公开》<br>其中所述多个槽包括定向在所述第一方向上的第一组槽和定向在第二方向上的第二组槽，所述第二方向垂直于所述第一方向，所述第一组槽包括所述第一槽和所述第二槽 | 对比文件未描述具有相互垂直方向的两组槽的图案。 | **公开性判断**：该特征限定了槽分组成垂直方向排列的特定图案（如图9B）。对比文件未公开此具体配置。因此，该特征未被对比文件公开。 |
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