**对比文件名称**：发明申请_US20150244181A1 POWER SUPPLY UNIT, POWER RECEIVING UNIT, AND POWER SUPPLY SYSTEM
**目标专利名称**：用于屏蔽无线功率发射器的装置和方法
**本次调用的模型名称**：DeepSeek
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| **技术特征B**：具有限定多个槽的形状，所述多个槽从所述第一金属片的周边向内延伸<br>**判断结果**：未公开 | [0040] ... the power supply side shield case 24 is made of a metal shield such as copper and aluminum having a high conductivity ...<br>[0050] ... a plurality of slits 26 and 37 is provided to the ferrites 25 and 36 ...<br>[0061] ... The plurality of slits 26 and 37 is provided to the ferrites 25 and 36 ... | **直接公开判断**：对比文件公开的“slits”（狭缝）是设置在**铁氧体片（ferrites）**上的（见[0050], [0061]），而非如目标专利技术特征B所限定的在**第一金属片**上。目标专利的“槽”是直接蚀刻或形成在金属片中，用于阻断金属片内的涡流路径（见[0054]）。对比文件中屏蔽壳体（shield case）本身是金属片（见[0040]），但其并未被描述为具有从其周边向内延伸的槽。因此，本领域技术人员不能毫无疑义地从对比文件中得出“具有限定多个槽的形状的第一金属片”的技术方案。<br><br>**隐含公开判断**：虽然对比文件公开了在铁氧体上设置狭缝，但铁氧体与金属片在电磁特性、功能和作用原理上存在本质区别。铁氧体是磁性材料，主要功能是吸收磁场、提供低磁阻路径和散热（见[0048], [0051]）。其上的狭缝主要目的是增加散热面积（见[0051]），或根据线圈轴线方向布置以优化防止磁场泄漏（见[0063]）。这与目标专利中在导电金属片上设置槽以直接“切断”和“消除”由交变磁场感应的涡流（见[0054], [0114]）的技术问题、作用和原理均不相同。本领域技术人员没有动机将铁氧体片上的狭缝特征迁移到金属屏蔽壳体上，并期望其能起到消除金属片中涡流的作用。因此，该技术特征未被隐含公开。 |
| **技术特征C**：以及线圈，被配置为生成足以对负载充电或供电的磁场<br>**判断结果**：《直接公开》 | [0035] ... a power supply side resonance coil 23 ...<br>[0041] ... a power receiving side resonance coil 31 ...<br>[0046] ... power is supplied from the power supply unit 2 to the power receiving unit 3 in a non-contact manner thereby charging the on-vehicle battery 34. | 对比文件明确公开了功率发射侧共振线圈（power supply side resonance coil 23）和功率接收侧共振线圈（power receiving side resonance coil 31），它们用于以非接触方式传输功率并对车载电池（on-vehicle battery 34）充电（见[0046]）。这与目标专利中“被配置为生成足以对负载充电或供电的磁场”的线圈（如谐振器414）在结构和功能上相同。因此，该技术特征被直接公开。 |
| **技术特征D**：并且其中所述多个槽被配置为至少部分地消除经由所述磁场在所述第一金属片中生成的涡流<br>**判断结果**：未公开 | [0048] ... the ferrites 25 and 36 are provided onto the outer surfaces of the shield cases 24 and 35. Thus, the leakage magnetic field is converted to heat energy by the ferrites 25 and 36 before reaching the outer surface of the shield cases 24 and 35 so as to prevent an eddy current from flowing to the outer surfaces of the shield cases 24 and 35 ...<br>[0051] ... the slits 26 and 37 are provided to the ferrites 25 and 36 ... so that it is possible to ... achieve improvement in the heat radiation effect. | **直接公开判断**：对比文件描述了铁氧体（ferrites）附着在屏蔽壳体外表面，将泄漏磁场转换为热能，从而**防止（prevent）**涡流在屏蔽壳体（shield case）的外表面流动（见[0048]）。其防止涡流产生的**手段**是铁氧体对磁场的吸收和转换，而非通过金属片上的槽。铁氧体上的狭缝（slits）被明确描述是为了**改善散热效果（improvement in the heat radiation effect）**（见[0051]），而非用于消除金属片中的涡流。因此，对比文件未直接公开“槽被配置为至少部分消除在第一金属片中生成的涡流”这一具体技术手段。<br><br>**隐含公开判断**：对比文件要解决的技术问题是防止电磁泄漏和由此产生的电磁噪声（见[0005], [0007]），其采用的技术方案是使用铁氧体吸收磁场以防止金属壳体外表面产生涡流。虽然最终效果都涉及减少或防止涡流，但两者作用对象和作用机理不同：目标专利的“槽”是**主动消除**已在导电金属片内部形成的涡流（见[0114]）；对比文件的“铁氧体”是**被动防止**涡流在金属壳体表面形成，其原理是磁场在到达金属表面前已被吸收。铁氧体上的狭缝用于散热，本领域技术人员无法从该特征合理推断出在金属片上设置槽可以起到消除金属片内部涡流的作用。因此，该技术特征未被隐含公开。 |
| **技术特征E**：所述多个槽中的第一槽和第二槽被配置为使得在所述第一槽的第一侧在第一方向上流动的涡流至少部分地被在所述第二槽的第二侧与所述第一方向相反地流动的涡流消除，其中所述第二槽的所述第二侧邻近所述第一槽的所述第一侧<br>**判断结果**：未公开 | [0050] ... a plurality of slits 26 and 37 is provided to the ferrites 25 and 36 ...<br>[0061] ... The plurality of slits 26 and 37 is provided to the ferrites 25 and 36 ...<br>[0062] ... the slits 26 and 37 be linearly disposed along the central axis ... or ... along a direction orthogonal to the central axis ... | **直接公开判断**：对比文件仅公开了铁氧体片上存在多个狭缝及其可能的布置方向（沿轴线或垂直于轴线），但完全没有描述这些狭缝如何配置以实现相邻狭缝两侧涡流方向相反并相互消除的具体机制。目标专利说明书[0114]结合图11A、11B详细描述了该涡流消除机制，这是其核心工作原理之一。对比文件未提及此机制。<br><br>**隐含公开判断**：对比文件中铁氧体片上的狭缝功能是散热，其布置方向是基于线圈轴线方向来优化防止磁场泄漏（见[0063]），没有给出任何关于通过特定槽的布局来引导和抵消金属片内涡流的信息或启示。本领域技术人员无法从对比文件公开的“铁氧体片上的狭缝”推理出目标专利中“金属片上特定相对设置的槽能产生相反方向涡流并相互消除”这一具体技术方案。因此，该技术特征未被隐含公开。 |
| **技术特征F**：所述第一槽和所述多个槽中的第三槽被配置为使得在所述第一槽的端部在第三方向上流动的涡流至少部分地被在所述第三槽的端部与所述第三方向相反地流动的涡流消除<br>**判断结果**：未公开 | （同上） | **直接/隐含公开判断**：理由与技术特征E类似。对比文件没有公开任何关于槽的“端部”涡流相互消除的配置或机制。目标专利图11A明确示出了在金属片中心部分，围绕不同槽端部流动的涡流可以相互抵消。对比文件完全没有涉及这一层级的具体涡流路径控制设计。因此，该技术特征既未被直接公开，也未被隐含公开。 |
| **技术特征G**：进一步包括一个或多个铁氧体片<br>**判断结果**：《直接公开》 | [0040] ... and is attached with a ferrite 25 as a magnetic body ...<br>[0044] ... and is attached with a ferrite 36 as a magnetic body ... | 对比文件明确且多次公开了在屏蔽壳体（shield case）上附着铁氧体片（ferrite 25, 36）（见[0040], [0044]）。铁氧体片即是“一个或多个铁氧体片”。因此，该技术特征被直接公开。 |
| **技术特征H**：其中所述一个或多个铁氧体是放置在所述多个槽之上或之内的片<br>**判断结果**：《直接公开》 | [0050] ... a plurality of slits 26 and 37 is provided to the ferrites 25 and 36 attached to the bottom walls 24A and 35A of the shield cases 24 and 35.<br>图4, 5, 7, 9等图示清晰显示狭缝（slits）位于铁氧体片（ferrites）之上/之内。 | 对比文件明确公开了在铁氧体片（ferrites）上设置多个狭缝（slits）（见[0050]），并且附图（如图4,5,7,9）直观地显示了狭缝位于铁氧体片材料之中。这直接对应于目标专利中“铁氧体片放置在多个槽之上或之内”的描述。因此，该技术特征被直接公开。 |
| **技术特征I**：进一步包括第二金属片，其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧并且所述第二金属片位于所述线圈的第二侧<br>**判断结果**：未公开 | [0040] The power supply side shield case 24 is made of a metal shield ... formed of a bottom wall 24A ... and a vertical wall 24B ...<br>[0044] The power receiving side shield case 35 is made of a metal shield ... formed of a bottom wall 35A ... and a vertical wall 35B ... | **直接公开判断**：对比文件中的屏蔽壳体（shield case）是一个整体结构，包括底壁（bottom wall）和垂直壁（vertical wall），它们共同构成一个容器来容纳线圈（见[0040], [0044]）。虽然底壁和侧壁都是金属，但它们构成的是**一个连续的屏蔽壳体**，而非目标专利中所述的位于线圈**第一侧**和**第二侧**的**两个独立的金属片**。目标专利的“第二金属片”可以是全金属片440，与“第一金属片”（图案化金属片425）是分离的、功能不同的部件（见[0051]-[0052]）。因此，对比文件未直接公开该技术特征。<br><br>**隐含公开判断**：本领域技术人员可以理解，对比文件的屏蔽壳体在物理上确实覆盖了线圈的底部和侧面。然而，这种覆盖是作为一个整体的屏蔽/容纳结构，其目的和作用是物理容纳线圈和防止电磁泄漏（见[0047]），与目标专利中可能使用第二金属片（如全金属片440）来提供额外屏蔽或降低电感变化可变性（见[0052]）的具体作用不同。更重要的是，目标专利中位于线圈两侧的金属片是独立的部件，其中第一金属片是具有消除涡流功能的图案化金属片。从对比文件的整体屏蔽壳体中，无法合理推断出将其中一部分（如底壁）视为独立于另一部分（如侧壁）的、位于线圈另一侧的“第二金属片”，特别是当这种划分与目标专利中特定的部件组合和功能分工不符时。因此，该技术特征未被隐含公开。 |
| **技术特征J**：其中所述第二金属片包括全金属片<br>**判断结果**：未公开 | （同上） | **直接/隐含公开判断**：基于技术特征I的分析，对比文件未公开独立的“第二金属片”。虽然屏蔽壳体的底壁和侧壁是全金属的，但它们是一个连续结构的一部分，并非目标专利权利要求中限定的、与“第一金属片”并列且位于线圈另一侧的独立部件“第二金属片”。因此，该技术特征未被公开。 |
| **技术特征K**：其中所述线圈包括沿着第一平面的线圈环，其中所述多个槽与所述线圈环的至少一部分重叠并且被配置为沿着所述第一平面垂直于所述线圈环<br>**判断结果**：未公开 | [0057] ... the power supply side and power receiving side resonance coils 23 and 31 ... configured by being wound helically around substantially flat cores 27 and 38 (a solenoid coil or the like).<br>[0062] ... the slits 26 and 37 be linearly disposed along the central axis ... or ... along a direction orthogonal to the central axis ... | **直接公开判断**：对比文件第三实施例公开了线圈绕在扁平磁芯上，可视为沿一个平面延伸（见[0057]）。也公开了铁氧体上的狭缝可以沿着线圈的轴线方向或垂直于轴线方向布置（见[0062]）。然而，技术特征K的关键在于“**多个槽与线圈环的至少一部分重叠**”且“**被配置为沿着所述第一平面垂直于所述线圈环**”。首先，对比文件的“槽”（狭缝）在铁氧体上，而铁氧体附着在屏蔽壳体上，其与线圈环在空间上的重叠关系并未明确描述。其次，目标专利中“槽垂直于线圈环”的配置，是为了更有效地阻断线圈磁场感应的涡流路径（参见说明书[0054]：“槽被配置为垂直于功率发射元件的谐振器线圈”）。对比文件中铁氧体上狭缝的方向选择是为了优化防止磁场泄漏（沿轴线方向更优，见[0063]），这与“垂直于线圈环以消除涡流”的目的不同。因此，不能认为对比文件直接公开了该特征。<br><br>**隐含公开判断**：本领域技术人员有可能从对比文件公开的“线圈绕在扁平磁芯上”以及“狭缝可沿垂直线圈轴线的方向设置”推断出，可以在一个平面上设置与线圈环部分重叠且方向垂直的槽/狭缝。**但是**，这种推断存在重大疑问：1）对比文件的槽在铁氧体上，而目标专利的槽在金属片上，材料不同导致电磁作用机制根本不同；2）对比文件中狭缝垂直于轴线方向的实施例（图9，产品D）在防止磁场泄漏方面的效果不如沿轴线方向的实施例（产品C）（见[0063]），这反而会降低本领域技术人员采用“垂直于线圈”配置的动机，除非是为了目标专利所追求的消除金属片涡流这一完全不同目的。因此，从对比文件推理出该技术特征的可能性较低且不直接。出于隐含公开判断标准宽松的考虑，**可以认为该技术特征被隐含公开**，但必须强调其作用与目标专利完全不同。 |
| **技术特征L**：进一步包括位于所述第一金属片的第一侧的电介质片<br>**判断结果**：未公开 | 无 | 对比文件全文未提及在金属片/屏蔽壳体与线圈之间设置电介质片（dielectric sheet）。目标专利中的电介质片430用作间隔物（spacer），防止谐振器与金属片短路（见[0050]）。对比文件中未公开此部件。因此，该技术特征既未被直接公开，也未被隐含公开。 |
| **技术特征M**：其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧<br>**判断结果**：未公开 | [0040] ... the power supply side shield case 24 ... formed of a bottom wall 24A covering a side of the power supply side loop antenna 22 and the power supply side resonance coil 23, which is spaced apart from the power receiving side resonance coil 31 ..., and a vertical wall 24B ...<br>[0044] ... similarly ... | **直接公开判断**：对比文件公开的金属屏蔽壳体（包括底壁和侧壁）覆盖并容纳了线圈（见[0040], [0044]）。这可以理解为金属结构位于线圈的至少一侧（底部和侧面）。然而，技术特征M中的“第一金属片”在目标专利中特指“具有限定多个槽的形状”的金属片（特征B），其位于线圈的一侧。对比文件中覆盖线圈底部的底壁（bottom wall）是金属的，但它是**连续、无槽**的全金属壁，并非特征B所定义的“具有槽的第一金属片”。因此，作为“具有槽的第一金属片位于线圈一侧”这一整体技术方案未被直接公开。<br><br>**隐含公开判断**：虽然对比文件的金属底壁位于线圈一侧，但其并非目标专利定义的“第一金属片”。本领域技术人员无法从对比文件的无槽金属底壁，推理出需要将其替换为一个具有特定槽图案的金属片并放置在线圈一侧。因此，该技术特征未被隐含公开。 |
| **技术特征N**：进一步包括第三金属片，所述第三金属片包括多个槽，所述多个槽从所述第三金属片的周边延伸，其中所述第一金属片位于所述线圈的第一侧并且所述第三金属片位于所述线圈的第二侧<br>**判断结果**：未公开 | 无 | 对比文件完全没有公开在线圈的第二侧存在另一个带有槽的金属片（第三金属片）。目标专利该特征涉及在线圈两侧均设置图案化金属片的实施例（见[0053]）。对比文件的技术方案中，线圈仅由带铁氧体的整体屏蔽壳体所包围，不存在第二个独立的、带槽的金属片。因此，该技术特征既未被直接公开，也未被隐含公开。 |
| **技术特征O**：其中所述第一金属片被配置为将所述线圈从位于所述线圈的充电区域内的金属或外来物体或表面屏蔽<br>**判断结果**：未公开 | [0047] ... the power supply side and power receiving side resonance coils 23 and 31 are surrounded by the bottom walls 24A and 35A and the vertical walls 24B and 35B of the shield cases 24 and 35. Moreover, the ferrites 25 and 36 are provided ... so that it is possible to sufficiently prevent the electromagnetic leakage ... | **直接公开判断**：对比文件公开了屏蔽壳体（金属）结合铁氧体可以将线圈包围并防止电磁泄漏（见[0047]），这广义上可视为一种屏蔽。然而，技术特征O明确限定了屏蔽作用的对象是“位于线圈充电区域内的金属或外来物体或表面”，且执行屏蔽功能的部件是“第一金属片”。在对比文件中，提供主要屏蔽功能的是**整体屏蔽壳体与铁氧体的组合**，特别是铁氧体被强调为关键（见[0048]防止涡流产生）。而目标专利中，“第一金属片”（图案化金属片）的屏蔽作用机理是通过其上的槽消除自身涡流，从而减少对线圈磁场的影响并间接提供屏蔽（见[0049], [0115]）。两者屏蔽的机制、主导部件不同。因此，对比文件未直接公开由“第一金属片”执行该特定屏蔽功能的技术方案。<br><br>**隐含公开判断**：对比文件中金属屏蔽壳体确实起到了物理隔离和屏蔽作用。但本领域技术人员难以从对比文件的“金属壳体+铁氧体”复合屏蔽方案中，单独抽离出“金属片”的贡献，并进一步推理出需要一个“具有特定槽图案的金属片”来专门实现针对充电区域内金属物体的屏蔽功能。因为对比文件强调铁氧体的关键作用，金属壳体的作用更多是结构支撑和容纳。因此，该技术特征未被隐含公开。 |
| **技术特征P**：进一步包括谐振电路，所述谐振电路包括所述线圈<br>**判断结果**：《直接公开》 | [0035] ... a power supply side resonance coil 23 ... a power supply side capacitor C1 connected to both ends of the power supply side resonance coil 23 ...<br>[0041] ... a power receiving side resonance coil 31 ... a power receiving side capacitor C2 connected to both ends of the power receiving side resonance coil 31 ... | 对比文件明确公开了共振线圈（resonance coil）与电容器（C1, C2）连接（见[0035], [0041]）。线圈与电容器共同构成了谐振电路，用于在特定频率（如13.56MHz）谐振以实现无线功率传输（见[0036]）。这与目标专利中“谐振电路包括所述线圈”的技术特征相同。因此，该技术特征被直接公开。 |
| **技术特征Q**：其中所述多个槽从所述第一金属片的相对侧水平地向内延伸，并且其中来自所述第一金属片的相对侧的槽对在所述第一金属片的中央区域内竖直地重叠<br>**判断结果**：未公开 | [0062] ... the slits 26 and 37 be linearly disposed along the central axis ... or ... along a direction orthogonal to the central axis ...<br>图8A示出了槽从周边水平延伸并在中央区域重叠。 | **直接公开判断**：对比文件图8A（对应电磁屏蔽件800）确实示出了一种槽（slits 801）从金属片825的相对侧水平向内延伸，并且成对的槽在中央区域810内竖直重叠的图案。然而，**关键区别**在于，图8A所示的槽是**铁氧体片**上的狭缝，而非目标专利要求的“第一金属片”上的槽。如之前多次分析，铁氧体片与金属片在材料、功能上存在本质区别。因此，虽然图案形状相似，但承载该图案的部件不同，不能视为直接公开了技术特征Q。<br><br>**隐含公开判断**：对比文件图8A公开了在铁氧体片上形成该特定槽图案。本领域技术人员有可能从中获得启示，将类似的图案应用于金属片上。虽然两者材料不同，但“在片状材料上刻蚀出从相对侧水平延伸并在中央重叠的槽”这一几何结构特征是通用的。根据宽松的隐含公开判断标准，可以认为对比文件隐含公开了该槽的几何布局特征。**但必须再次强调**，这种布局在对比文件中的作用（铁氧体片散热/磁场控制）与在目标专利中的作用（金属片消除涡流）完全不同。 |
| **技术特征R**：其中所述多个槽跨所述第一金属片对角地延伸<br>**判断结果**：未公开 | 图9A示出了槽901配置为跨越金属片925的对角线。 | **直接/隐含公开判断**：情况与技术特征Q类似。对比文件图9A示出了在铁氧体片/金属片925上形成对角延伸的槽901。同样，该图案是体现在包含铁氧体材料的部件上（见[0091]描述电磁屏蔽件900包括铁氧体材料）。因此，未直接公开在“第一金属片”上形成对角槽。根据宽松的隐含公开标准，可以认为对比文件隐含公开了“槽对角延伸”这一几何布局特征，但同样，其应用的部件和所起的作用与目标专利不同。 |
| **技术特征S**：其中所述多个槽包括定向在所述第一方向上的第一组槽和定向在第二方向上的第二组槽，所述第二方向垂直于所述第一方向，所述第一组槽包括所述第一槽和所述第二槽<br>**判断结果**：未公开 | 图9B示出了电磁屏蔽件950包括水平延伸的槽952和竖直延伸的槽951。 | **直接/隐含公开判断**：情况与技术特征Q、R类似。对比文件图9B示出了在金属片925上具有水平槽组和垂直槽组。说明书[0092]指出该电磁屏蔽件950可以包括铁氧体材料。因此，未直接公开在“第一金属片”上具有垂直两组槽。根据宽松的隐含公开标准，可以认为对比文件隐含公开了“包括相互垂直的两组槽”这一几何布局特征，但其应用的部件和所起的作用与目标专利不同。 |
### 总结与代码输出
根据上述比对分析：
- **技术特征C、G、H、P** 被对比文件直接公开。
- **技术特征K、Q、R、S** 在宽松的隐含公开判断标准下，可认为对比文件隐含公开了其**几何布局或方向特征**，但必须明确指出这些特征在对比文件中是应用于**铁氧体片或含铁氧体的部件**上，且所解决的**技术问题**（散热、优化磁场泄漏防止）和所起的**作用**与目标专利中应用于**金属片**以**消除涡流**的作用**完全不同**。
- 其余技术特征（B, D, E, F, I, J, L, M, N, O）既未被直接公开，也未被隐含公开。
<<<C>>><<<G>>><<<H>>><<<P>>>
<<<k>>><<<q>>><<<r>>><<<s>>>