对比文件名称：US2015226547A1_Description_20260218_1608
目标专利名称：179亚微米晶片对准CN107850759B
模型名称：DeepSeek最新版本模型
| 技术特征描述以及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| **技术特征A**：其包括：第一透明晶片，其包括第一透镜阵列<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件全文未提及“透镜”、“透镜阵列”。透明衬底用于承载导电图案（例如[0043]段描述PET、玻璃等材料）。 | 对比文件涉及触摸屏透明衬底的对准，其“透明衬底”是用于形成触摸传感器的基板，例如承载导电网格图案（见图5、6）。目标专利的“第一透明晶片”是光学晶片，核心特征在于其包含“第一透镜阵列”，用于形成光学成像系统。两者在结构、功能上均不相同。本领域技术人员无法从对比文件中无歧义地得出或合理推断出包含透镜阵列的透明晶片。 |
| **技术特征B**：第二透明晶片，其包括第二透镜阵列，所述第二透镜阵列中的每一透镜与所述第一透镜阵列中的对应透镜形成透镜对<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件全文未提及“透镜”、“透镜阵列”或“透镜对”。描述了第二透明衬底及其上的第二导电图案（例如[0040]段，图4B）。 | 同上。对比文件中的第二透明衬底同样仅作为导电图案的载体，不包含任何光学透镜元件，更不存在与另一透镜阵列形成“透镜对”的结构和功能关系。本领域技术人员无法从对比文件中得出该技术特征。 |
| **技术特征C**：第一隔片晶片，其定位于所述第一透明晶片与所述第二透明晶片之间且包括包含开口阵列的隔片材料，每一透镜对中的至少一个透镜延伸到所述开口阵列中的开口中<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件描述了第一透明衬底与第二透明衬底可以通过粘合剂（140）层压、粘结，或通过隔离层/空气间隙（140）分离（例如[0038]、[0039]、[0040]段）。未提及具有“开口阵列”的“隔片晶片”。 | 目标专利的“第一隔片晶片”是具有特定结构（开口阵列）的功能部件，用于为透镜提供空间并形成透镜堆叠的一部分。对比文件中连接或分离两个衬底的“粘合剂”、“隔离层”或“空气间隙”是连续层，不具备“开口阵列”结构，也不起到容纳透镜、定义光轴的作用。两者结构、功能均不同。 |
| **技术特征D**：第一对准标记，其设置于所述第一透明晶片上，所述第一对准标记包括定位于所述第一透镜阵列中的第一透镜周围的第一组同心环带<br>**公开性判断**：《隐含公开》 | [0060]段：“Moiré interference pattern 800 may be a plurality of concentric circles 810 that are opaque.” 图8A示出了同心圆图案。<br>[0072]段：“Substrate 1010 may be laminated, bonded, or secured in place...” 其中Substrate 1010包含第一导电图案和多个Moiré interference patterns（参见[0067]段及图10A）。 | 对比文件公开了在透明衬底（第一透明衬底）上设置包含多个同心圆的莫尔干涉图案（Moiré interference pattern），该图案用作对准标记。虽然对比文件的图案通常设置在衬底角落用于对准导电图案（图10A），而目标专利的图案是“定位于透镜周围”，但图案本身的物理结构（一组同心环带）和作为对准标记的基本功能是相同的。本领域技术人员可以理解，为实现对准，可以将此类图案设置在任何需要对准的特征（如透镜）周围。因此，对比文件隐含公开了“设置于透明衬底上的、包含一组同心环带的对准标记”这一技术特征。 |
| **技术特征E**：及第二对准标记，其设置于所述第二透明晶片上，所述第二对准标记包括与所述第一组同心环带互补且定位于所述第二透镜阵列中的第二透镜周围的第二组同心环带<br>**公开性判断**：《隐含公开》 | [0062]段：“Inverted Moiré interference pattern 820 may be an inverted image of the corresponding Moiré interference pattern 800. As such, a plurality of concentric circles 830 of inverted Moiré interference pattern 820 correspond to the spaces, or non-patterned areas, between the plurality of concentric circles 810 of Moiré interference pattern 800.” 图8B示出了倒置的同心圆图案。<br>[0068]段描述了第二透明衬底上的 inverted Moiré interference patterns（图10B）。 | 对比文件公开了在第二透明衬底上设置“倒置莫尔干涉图案”（inverted Moiré interference pattern），该图案是前述莫尔干涉图案的“倒置图像”，具体表现为同心圆环之间的空白区域形成的环带，即与第一图案“互补”的一组同心环带。其作为对准标记与第一图案配合使用的功能与目标专利相同。尽管对比文件未明确其“定位于透镜周围”，但基于与特征D相同的推理，本领域技术人员能够合理推断出互补图案可以设置在对应对准特征（如透镜）周围。因此，该技术特征被隐含公开。 |
| **技术特征F**：，所述第一透镜与所述第二透镜形成一个透镜对，其中所述第一组同心环带和与所述第一组同心环带互补的所述第二组同心环带可经定大小及定位使得其在所述第一及第二透明晶片为光学对准时产生跨越所有环带的实心环带且在所述第一及第二透明晶片未对准时产生波纹效应。<br>**公开性判断**：《直接公开》 | [0064]段：“Because Moiré interference pattern 800 is not center-aligned to inverted Moiré interference pattern 820, Moiré interference may be visually apparent.”<br>[0066]段：“Because the center of Moiré interference pattern 800 is aligned to the center of inverted Moiré interference pattern 820, the combination of overlapping Moiré interference pattern 800 and inverted Moiré interference pattern 820 form an opaque circle that does not exhibit Moiré interference.”<br>图9A-9D、14A-14D 系列图示了从未重叠到中心对齐过程中，从不透明圆环与互补圆环未对齐产生莫尔干涉（波纹效应），到完全对齐时形成实心不透明形状（实心环带）的视觉效果。 | 对比文件明确、直接地公开了互补的莫尔干涉图案（同心环带）在对准时（中心对齐）形成不透明的实心圆（或矩形，见图14D），而在未对准时产生莫尔干涉（即波纹效应）的视觉现象。这与技术特征F所描述的技术效果完全相同。对比文件中详细描述了该效果用于视觉指示对准状态的作用（[0064]-[0066]），与目标专利中该特征所起的作用一致。因此，该技术特征被直接公开。 |
| **技术特征G**：其中所述第一透镜、所述第二透镜及在所述开口阵列中的开口周围的所述隔片材料的一部分形成具有光轴的透镜堆叠。<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件全文未提及“透镜”、“透镜堆叠”、“光轴”。其堆叠是由透明衬底、导电图案及中间层构成的触摸传感器结构。 | 该技术特征限定了由两个透镜和隔片材料共同形成的具有特定光学属性（光轴）的“透镜堆叠”。对比文件的堆叠是电学传感结构，完全不涉及光学成像功能，不存在透镜，更不存在“光轴”。本领域技术人员无法从对比文件中得出或推断出该技术特征。 |
| **技术特征H**：其进一步包括分束器层，所述分束器层设置于所述第一对准标记的第一平面与所述第二对准标记的第二平面之间的光学路径中心点处。<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件全文未提及“分束器层”（beam splitter layer）。其对准过程依赖于直接观察重叠的莫尔图案（例如[0064]-[0066]段）。 | 分束器层是目标专利解决显微镜景深问题、实现亚微米对准的核心构件之一。对比文件的对准方法完全基于直接视觉观察两个衬底上图案的重叠效果，未使用任何光学元件来改变光路或解决聚焦问题。本领域技术人员阅读对比文件后，无法毫无疑义地得出或合理推断出需要在两个对准标记平面之间的光学路径中心点处设置分束器层。 |
| **技术特征I**：其中所述第一组同心环带及所述第二组同心环带具有5μm的线厚度。<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | [0055]段：“...one or more of the plurality of parallel conductive lines ... may have a line width less than approximately 5 micrometers.” 此描述针对的是导电图案中的导电线宽，并非对准标记的环带线厚度。 | 对比文件虽然提到了“小于约5微米”的线宽，但这是指触摸传感器中**导电图案**的线宽，而非用于对准的**莫尔干涉图案**的环带线厚度。两者在功能、位置和制造考量上可能不同。对比文件未明确公开莫尔图案环带的具体尺寸为5μm。本领域技术人员不能毫无疑义地将导电线的线宽特征直接等同于对准环带的线厚度。 |
| **技术特征J**：其进一步包括：第三透明晶片，其包含第三透镜阵列<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件仅涉及两个透明衬底的对准（例如第一衬底和第二衬底，见图4A-C，图10A-B），未提及第三个包含透镜阵列的透明晶片。 | 该特征涉及三层光学晶片的堆叠。对比文件的技术方案始终围绕两个透明衬底（及其上的导电图案）的对准，没有教导或暗示存在第三个包含透镜阵列的晶片。无法从对比文件中得出此特征。 |
| **技术特征K**：第二隔片晶片，其定位于所述第二透明晶片与所述第三透明晶片之间且包括包含开口阵列的所述隔片材料<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 同特征C，对比文件没有“隔片晶片”的概念，更没有描述位于第二与第三晶片之间的此类结构。 | 同特征C及J的论述。对比文件的技术方案中不存在此类结构。 |
| **技术特征L**：及第三对准标记，其设置于所述第三透明晶片上，所述第三对准标记包括与所述第一组同心环带及所述第二组同心环带互补且定位于所述第三透镜阵列中的第三透镜周围的第三组重复标记，所述第三透镜与所述第一透镜及所述第二透镜形成光学堆叠。<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件仅描述了两个衬底上的两套互补对准图案（Moiré pattern和inverted Moiré pattern），未涉及第三套对准标记，也未涉及与两套图案均互补的图案。 | 该特征涉及三层堆叠中复杂的对准标记互补关系。对比文件仅公开了两个衬底之间一对互补图案的对准方案，没有公开或暗示需要第三个对准标记，更没有公开该标记需要与前两个标记的集合“互补”。本领域技术人员无法从对比文件中合理推断出此特征。 |
| **技术特征M**：其进一步包括：第三透明晶片，其包含第三透镜阵列<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 同特征J。 | 同特征J。 |
| **技术特征N**：第二隔片晶片，其定位于所述第二透明晶片与所述第三透明晶片之间且包括包含开口阵列的所述隔片材料<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 同特征C、K。 | 同特征C、K。 |
| **技术特征O**：第三对准标记，其设置于所述第三透明晶片上，所述第三对准标记包括定位于所述第三透镜阵列中的第三透镜周围的第三组重复标记，所述第三透镜与所述第二透镜阵列中的第四透镜形成一对<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件未提及“第三对准标记”、“第三透镜”、“第四透镜”或“形成一对”。 | 该特征描述了另一种三层堆叠的配置。对比文件仅涉及两个衬底的对准，完全未公开此配置中的任何元素。 |
| **技术特征P**：第四对准标记，其设置于所述第二透明晶片上，所述第四对准标记包括与所述第三组重复标记互补且定位于所述第四透镜周围的第四组重复标记。<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件未提及“第四对准标记”、“第四透镜”或与第三组标记互补的第四组标记。 | 同特征O。 |
| **技术特征Q**：其包括：将第一组同心环带安置于第一透明晶片的第一透镜阵列中的第一透镜周围<br>**公开性判断**：《隐含公开》 | [0060]段描述了Moiré interference pattern（包含同心圆）被设置（disposed）在透明衬底上。<br>[0067]段及图10A示出多个Moiré interference patterns被设置在第一透明衬底上。 | 对比文件公开了“将莫尔干涉图案（包含一组同心环带）设置在透明衬底上”的方法步骤。虽然目标专利限定了“安置于第一透镜周围”，而对比文件通常设置在衬底角落，但“设置图案在衬底上”这一基本操作步骤已被公开。本领域技术人员可以理解，为实现特定部件（如透镜）的对准，可将图案设置在该部件周围。因此，该步骤被隐含公开。 |
| **技术特征R**：将第二组同心环带安置于第二透明晶片的第二透镜阵列中的第二透镜周围，所述第二组同心环带与所述第一组同心环带互补<br>**公开性判断**：《隐含公开》 | [0062]段描述了inverted Moiré interference pattern（互补的同心环带）被设置在透明衬底上。<br>[0068]段及图10B示出多个inverted Moiré interference patterns被设置在第二透明衬底上。 | 同理，对比文件公开了“将与第一图案互补的第二组同心环带设置在第二透明衬底上”的方法步骤。尽管未限定“在透镜周围”，但设置互补图案的基本操作已被公开。该步骤被隐含公开。 |
| **技术特征S**：通过所述第一透明晶片及所述第一组同心环带来检视所述第二组同心环带<br>**公开性判断**：《隐含公开》 | [0064]-[0066]段、图9A-9D、图14A-14D描述了通过观察第一衬底上的Moiré pattern与第二衬底上的inverted Moiré pattern的重叠效果来进行对准。这必然隐含了观察者或设备是通过第一透明衬底（以及其上的第一图案）来检视第二衬底上的第二图案。 | 对比文件虽然未明确写出“通过第一透明晶片来检视”这样的字眼，但其描述的对准过程（一个衬底叠在另一个上面观察重叠效果）在物理上必然包含了“通过第一衬底观察第二衬底上的图案”这一步骤。本领域技术人员能够毫无疑义地理解这一点。因此，该技术特征被隐含公开。 |
| **技术特征T**：及使用所述第一组同心环带与所述第二组同心环带的重叠而将所述第一透明晶片对准到所述第二透明晶片，其中所述第一组同心环带和与所述第一组同心环带互补的所述第二组同心环带可经定大小及定位使得其在所述第一及第二透明晶片为光学对准时产生跨越所有环带的实心环带且在所述第一及第二透明晶片未对准时产生波纹效应。<br>**公开性判断**：《隐含公开》 | [0060]段开头：“a method of aligning transparent substrates includes disposing one or more Moiré interference patterns on a side of a first transparent substrate, disposing one or more inverted Moiré interference patterns on a side of a second transparent substrate, and aligning the first transparent substrate to the second transparent substrate using Moiré interference.” <br>[0064]-[0066]段详细描述了如何利用图案重叠产生的莫尔干涉（波纹效应）或实心形状来判断和实现对准。 | 对比文件明确公开了一种对准透明衬底的方法，其核心步骤就是：设置互补图案，然后利用这些图案重叠时产生的视觉效果（实心形状指示对准，莫尔干涉指示未对准）来将第一衬底与第二衬底对准。这与技术特征T描述的方法步骤和所依赖的物理效应完全相同。因此，该方法特征被隐含公开。 |
| **技术特征U**：其中所述检视包括捕捉所述第一组同心环带及所述第二组同心环带的图像数据，且其中所述对准包括经由硬件处理器而比较所述图像数据与至少一个模板图像以确定所述第一组同心环带与所述第二组同心环带是否对准。<br>**公开性判断**：《隐含公开》 | [0064]段：“The arrowhead effect may indicate a vector for further alignment in applications or designs that use automation.” <br>这暗示了自动化对准的可能性，即系统可以识别莫尔干涉图案并计算对准向量。自动化识别通常涉及图像捕捉和处理器比较。 | 虽然对比文件没有明确描述“捕捉图像数据”、“硬件处理器比较模板”等具体自动化实现细节，但其明确提到了该技术可用于“自动化（automation）”应用，并且箭头效应可指示用于进一步对准的“向量（vector）”。这强烈暗示了通过图像传感器捕捉图案、由处理器分析图像数据以实现自动化对准的技术路径。在宽松的隐含公开判断标准下，本领域技术人员能够合理推断出自动化实现可能包含图像捕捉和处理器比较的步骤。因此，该特征被隐含公开。 |
| **技术特征V**：其进一步包括：将分束器层安置于所述第一组同心环带与所述第二组同心环带之间的光学路径中心点处<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 同特征H。对比文件未提及分束器层。 | 同特征H。分束器层是目标专利特有的构件，对比文件的方法中不存在对应的步骤。 |
| **技术特征W**：使显微镜物镜聚焦于所述第二组同心环带上<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件描述的是视觉观察（visually apparent），未提及使用显微镜物镜进行聚焦。 | 目标专利此步骤与分束器层配合，是解决高精度光学对准中景深问题的关键。对比文件的对准方法基于肉眼或普通光学观察，不涉及使用显微镜物镜并精确聚焦于某一图案上的步骤。 |
| **技术特征X**：检视所述第二组同心环带以及所述第一组同心环带经由所述分束器层的反射<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 对比文件的检视是直接观察两个图案的重叠（例如图9），未涉及通过分束器层反射来观察其中一个图案。 | 此步骤依赖于分束器层这一特定光学元件，对比文件中不存在。 |
| **技术特征Y**：及使用通过所述显微镜物镜所检视的所述第一组同心环带与所述第二组同心环带的重叠而将所述第一透明晶片对准到所述第二透明晶片。<br>**公开性判断**：未直接公开，未隐含公开 | 此步骤是特征W、X、以及使用分束器层方法的必然延续。由于对比文件未公开使用显微镜物镜和分束器层进行检视，因此该使用特定方式检视到的重叠进行对准的步骤也未公开。 | 该特征限定了基于一种特定观察手段（通过显微镜物镜和分束器反射）下的重叠进行对准。对比文件的对准基于直接观察，手段不同。 |
| **技术特征Z**：其中所述聚焦、所述检视及所述对准由一或多个物理计算装置以编程方式执行。<br>**公开性判断**：《隐含公开》 | [0064]段：“The arrowhead effect may indicate a vector for further alignment in applications or designs that use automation.” <br>这明确指出了在自动化应用中使用该方法。自动化通常意味着由物理计算装置（如控制器、处理器）以编程方式控制执行过程。 | 对比文件明确提到了该对准方法可用于“自动化（automation）”。虽然未详述具体硬件和软件架构，但本领域技术人员能够合理推断，实现自动化对准必然涉及使用物理计算装置（如带有图像传感器的控制器、电机驱动器等）并通过编程（软件指令）来控制聚焦（如果使用自动对焦）、图像捕捉（检视）和对准调整（对准）等步骤。在宽松的隐含公开判断标准下，该特征被隐含公开。 |
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