对比文件名称：2006-08-02_CN1813183A_发明公开_CN1813183A 用于灵敏检测渐逝场的具表面构造的载体
目标专利名称：1268用于在小样本体积中进行光学检测的载体CN101990634B
本次调用的模型名称：无
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 特征A：一种载体（11），其中所述载体包括在其表面（12）上的光学结构（50）——直接公开 | “本发明涉及一种载体，尤其是一种光盘，其具有表面构造，用于检测在该载体一个表面上的渐逝场内的至少一种光学活性物质”（对比文件开头部分） | 对比文件明确公开了载体（光盘）及其表面上的表面构造，该表面构造相当于目标专利的光学结构，因此本领域技术人员可以直接、毫无疑义地确定该技术特征被公开。 |
| 特征B：所述光学结构（50）具有至少一个激励刻面（53）和至少一个收集刻面（54）——隐含公开 | “在特别优选的实施方式中，第二面以对称的形式设置在第一斜面附近，使该区域内形成棱锥形结构（例如参见图5）。”以及“具相反方向的第二平面的倾斜度大于优选范围在60°至90°之间的第一斜面，并设置成“楔形”构造。”（对比文件关于楔形构造的描述） | 对比文件公开了具有至少两个相对斜面的表面构造（如楔形或棱锥形），虽然未明确命名“激励刻面”和“收集刻面”，但本领域技术人员可以合理推断这两个相对斜面分别对应于激励和收集功能，因为对比文件描述了光在这两个斜面处的折射和透射行为，因此隐含公开了该技术特征。 |
| 特征C：该至少一个激励刻面（53）和至少一个收集刻面（54）基本上在中间相遇并且形成凹槽——隐含公开 | “术语“深度”在本文中指两个理论平面之间的距离，这两个理论平面平行于载体表面，并且其中一平面触及所述斜面的下端，而另一平面触及所述斜面的上端（同样参见图2中“δ”）。”以及“楔形”构造的描述。 | 对比文件公开了斜面具有深度，且两个相对斜面形成楔形构造，该构造在底部相遇，形成V形凹槽，因此本领域技术人员可以合理推断出该结构形成凹槽，隐含公开了该技术特征。 |
| 特征D：所述光学结构（50）能够在所述激励刻面（54）处将输入光束（L1）折射到所述邻近样本室（2）中——直接公开 | “当入射光束的角度αNA超过βTIR-αwedge的值时，在载体和介质的界面处可以发生全内反射(TIR)，并且满足上述条件的光束部分将呈现全内反射，而剩余部分被折射和透射到介质中。”（对比文件关于全内反射和折射的描述） | 对比文件明确公开了在斜面（即激励刻面）处，部分输入光束被折射到介质（即样本室）中，因此本领域技术人员可以直接、毫无疑义地确定该技术特征被公开。 |
| 特征E：撞击到所述样本（1，1’）上——直接公开 | “光学活性物质包括能够反射、折射、吸收或散射渐逝场或者可被渐逝场激发成荧光团”（对比文件关于光学活性物质的描述） | 对比文件公开了输入光束折射到介质中后会与光学活性物质（即样本）相互作用，因此本领域技术人员可以直接确定该技术特征被公开。 |
| 特征F：能够同时从所述样本室（2）收集在所述收集刻面（54）处折射的输出光束（L2，L2’）——未公开 | 无直接或隐含公开。 | 对比文件主要涉及全内反射产生渐逝场和荧光检测，没有公开从样本室收集折射光（即输出光束）的功能，虽然在某些实施方式中可能有光从介质折射回载体，但未明确描述为收集刻面收集输出光束，因此本领域技术人员无法从对比文件直接或隐含地得出该技术特征。 |
| 特征G：其中所述输出光束包括源于所述输入光束（L1）的光——未公开 | 无直接或隐含公开。 | 对比文件中检测的光主要是全内反射光（源于输入光束）或荧光（非源于输入光束），但并非如目标专利所述经过样本室折射后收集的输出光束，因此本领域技术人员无法从对比文件得出该技术特征。 |
| 特征H：其特征在于所收集的作为所述输出光束（L2，L2’）的所述光已行经所述样本室（2）小于1000μm——未公开 | 无。 | 对比文件没有提及光在样本室中传播的距离，因此未公开。 |
| 特征I：优选小于100μm——未公开 | 无。 | 对比文件没有提及相关距离范围，因此未公开。 |
| 特征J：最优选小于10μm——未公开 | 无。 | 同特征I。 |
| 特征K：其特征在于所述光学结构（50）包括至少一个激励刻面（53）和至少一个对应的收集刻面（54）——隐含公开 | 同特征B。 | 对比文件公开了具有至少两个相对斜面的楔形构造，其中一个斜面可用于将光折射到介质（激励），另一个对应斜面可用于收集光（收集），尽管未明确命名，但本领域技术人员可以合理推断出该对应关系，因此隐含公开。 |
| 特征L：经由所述激励刻面（53）所述输入光束（L1）的光能够发射到所述样本室（2）中——直接公开 | 同特征D。 | 同特征D，直接公开。 |
| 特征M：经由所述收集刻面（54）能够重新收集所发射的光——未公开 | 无。 | 同特征F，未公开。 |
| 特征N：其特征在于所述输出光束（L2）能够包括来自在所述样本室（2）中被所述输入光束（L1）激发的光致发光剂的光——直接公开 | “通过渐逝场来检测介质中包含的光学活性物质与载体表面的一个或多个斜面的结合或未结合情况。在本发明应用的优选实施方式中，通过荧光、光散射和/或反射调节来检测光学活性物质。”（对比文件关于检测方式的描述） | 对比文件明确公开了通过荧光（光致发光）检测光学活性物质，因此本领域技术人员可以直接确定该技术特征被公开。 |
| 特征O：其特征在于所述光学结构（50）包括在所述载体（11）的所述表面（12）中的至少一个孔或者凹槽（52）——隐含公开 | 关于斜面深度的描述，以及“图2中“δ”表示斜面深度”。 | 对比文件公开了斜面具有深度，且两个相对斜面形成楔形构造，该构造在表面中形成凹陷，因此本领域技术人员可以合理推断出该凹陷即为孔或凹槽，隐含公开了该技术特征。 |
| 特征P：其中所述孔或者凹槽（52）的横截面具有两个相反倾斜的、相对刻面（53，54）——直接公开 | “在特别优选的实施方式中，第二面以对称的形式设置在第一斜面附近，使该区域内形成棱锥形结构（例如参见图5）。”以及楔形构造的描述。 | 对比文件明确公开了具有两个相反倾斜的相对斜面的表面构造，因此本领域技术人员可以直接确定该技术特征被公开。 |
| 特征Q：其特征在于所述横截面是三角形横截面——直接公开 | 楔形构造和棱锥形构造的描述，通常为三角形横截面。 | 对比文件公开的楔形或棱锥形构造的横截面为三角形，因此本领域技术人员可以直接确定。 |
| 特征R：其特征在于所述横截面是梯形横截面——未公开 | 无明确公开。 | 对比文件没有公开梯形横截面，虽然可能由三个平面形成，但未明确描述，因此本领域技术人员无法直接或隐含地得出该技术特征。 |
| 特征S：其特征在于所述载体（11）包括接触表面（12）——直接公开 | “本发明涉及一种载体，尤其是一种光盘，其具有表面构造，用于检测在该载体一个表面上的渐逝场内的至少一种光学活性物质”（对比文件开头部分） | 对比文件明确公开了载体具有一个表面，即接触表面，因此直接公开。 |
| 特征T：所述接触表面具有带有光学结构（50）的多个独立研究区域（13，13a，13b，13c）——直接公开 | “本发明的载体包括至少一个具有这种斜面（一个或多个）的区域，优选在10个区域至1000000个区域之间。”以及“包括斜面的区域彼此之间通过表面区域隔开” | 对比文件明确公开了载体表面具有多个独立区域，每个区域包含斜面（光学结构），因此直接公开。 |
| 特征U：其特征在于所述光学结构（50）包括用于样本的目标成分（1，1’）的结合部位——直接公开 | “在本发明的一个优选实施方式中，本发明的载体具有至少一个连接在斜面上的捕获探针。”以及“捕获探针包括任何能直接或间接地连接在一表面上的化学化合物...用于捕获目标成分。” | 对比文件明确公开了斜面上连接有捕获探针，用于结合样本中的目标成分，因此直接公开。 |
直接公开：<<<A>>><<<D>>><<<E>>><<<L>>><<<N>>><<<P>>><<<Q>>><<<S>>><<<T>>><<<U>>>
隐含公开：<<<b>>><<<c>>><<<k>>><<<o>>>