对比文件名称：2006-12-14_JP2006337038A_发明专利_JP2006337038A Analysis method of ligand in sample, and analyzing apparatus of ligands in sample
目标专利名称：1268用于在小样本体积中进行光学检测的载体CN101990634B
模型名称：DeepSeek Chat
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：载体（11），其中所述载体包括在其表面（12）上的光学结构（50）。未公开。 | 对比文件未公开载体及其表面上的光学结构。对比文件公开了棱镜2和金属薄膜7，但棱镜是独立光学元件，金属薄膜位于棱镜上，并非载体表面上的光学结构。 | 对比文件涉及SPR检测装置，未描述目标专利的载体以及载体表面上的凹槽类光学结构。本领域技术人员无法从对比文件直接得出或合理推断出该技术特征，且对比文件未部分公开该特征的核心要素（载体表面上的光学结构），故未公开。 |
| 技术特征B：光学结构（50）具有至少一个激励刻面（53）和至少一个收集刻面（54）。未公开。 | 对比文件未公开激励刻面和收集刻面。对比文件中的棱镜具有入射面和出射面，但未描述为激励刻面和收集刻面，且功能不同。 | 对比文件没有提及任何刻面结构，更未涉及激励刻面和收集刻面的概念，本领域技术人员无法从中得出该特征，故未公开。 |
| 技术特征C：该至少一个激励刻面（53）和至少一个收集刻面（54）基本上在中间相遇并且形成凹槽。未公开。 | 对比文件未公开凹槽结构。对比文件中的金属薄膜表面是平坦的，没有凹槽。 | 对比文件没有公开任何凹槽或类似结构，激励刻面和收集刻面在中间相遇形成凹槽是目标专利特有的结构，对比文件未公开，故未公开。 |
| 技术特征D：光学结构（50）能够在激励刻面（54）处将输入光束（L1）折射到邻近样本室（2）中。未公开。 | 对比文件未公开将输入光束折射到样本室中。对比文件描述测量光在金属薄膜处全反射，产生反射光，而非折射进入样本室。 | 对比文件的光学原理是SPR全反射，光不进入样本室，仅通过倏逝波探测表面。目标专利的折射进入样本室功能未被对比文件公开，故未公开。 |
| 技术特征E：撞击到所述样本（1，1’）上。未公开。 | 对比文件未公开输入光束直接撞击样本。对比文件中的光在全反射后，仅倏逝波与样本相互作用，光束本身不撞击样本。 | 目标专利要求输入光束折射后直接撞击样本，对比文件的光束未进入样本室，故未公开该特征。 |
| 技术特征F：能够同时从样本室（2）收集在收集刻面（54）处折射的输出光束（L2，L2’）。未公开。 | 对比文件未公开收集刻面及折射输出光束。对比文件收集的是反射光，而非折射输出光束。 | 对比文件没有收集刻面，也没有折射输出光束的收集，其收集的是全反射光，故未公开该特征。 |
| 技术特征G：其中所述输出光束包括源于所述输入光束（L1）的光。直接公开。 | 对比文件原文：“金属薄膜兼上側電極7に照射された計測光3は金属薄膜兼上側電極7で全反射し、反射光5が生じる。”（照射到金属薄膜兼上电极7的测量光3在金属薄膜兼上电极7处全反射，产生反射光5。） | 对比文件明确记载反射光5由入射光3产生，即输出光束（反射光）包括源于输入光束的光，与目标专利技术特征G一致，因此直接公开。 |
| 技术特征H：所收集的作为所述输出光束（L2，L2’）的所述光已行经所述样本室（2）小于1000μm。未公开。 | 对比文件未公开输出光束行经样本室的距离。对比文件中的反射光未进入样本室，仅倏逝波在纳米尺度存在，但倏逝波不是所述输出光束。 | 目标专利的输出光束是折射进入样本室后再被收集的光，其行经样本室的距离是微米级。对比文件没有这样的光束，故未公开该特征。 |
| 技术特征I：优选小于100μm。未公开。 | 无相关描述。 | 基于H未公开，该优选范围同样未公开。 |
| 技术特征J：最优选小于10μm。未公开。 | 无相关描述。 | 基于H未公开，该最优选范围同样未公开。 |
| 技术特征K：光学结构（50）包括至少一个激励刻面（53）和至少一个对应的收集刻面（54）。未公开。 | 同特征B，对比文件未公开任何刻面。 | 同特征B，未公开。 |
| 技术特征L：经由激励刻面（53）输入光束（L1）的光能够发射到样本室（2）中。未公开。 | 同特征D，对比文件未公开光发射到样本室。 | 同特征D，未公开。 |
| 技术特征M：经由收集刻面（54）能够重新收集所发射的光。未公开。 | 同特征F，对比文件未公开收集刻面收集折射光。 | 同特征F，未公开。 |
| 技术特征N：输出光束（L2）能够包括来自在样本室（2）中被输入光束（L1）激发的光致发光剂的光。未公开。 | 对比文件未涉及光致发光。对比文件检测的是SPR反射光强度变化，未提及光致发光。 | 对比文件没有公开任何光致发光检测，故未公开。 |
| 技术特征O：光学结构（50）包括在载体（11）的表面（12）中的至少一个孔或者凹槽（52）。未公开。 | 对比文件未公开孔或凹槽。对比文件中的金属薄膜表面平坦，无孔或凹槽。 | 对比文件没有公开任何孔或凹槽结构，故未公开。 |
| 技术特征P：其中孔或者凹槽（52）的横截面具有两个相反倾斜的、相对刻面（53，54）。未公开。 | 对比文件未公开倾斜刻面。对比文件没有孔或凹槽，也没有倾斜刻面。 | 对比文件未公开该结构特征，故未公开。 |
| 技术特征Q：横截面是三角形横截面。未公开。 | 对比文件未公开三角形横截面。 | 对比文件没有凹槽，更无三角形横截面，故未公开。 |
| 技术特征R：横截面是梯形横截面。未公开。 | 对比文件未公开梯形横截面。 | 同Q，未公开。 |
| 技术特征S：载体（11）包括接触表面（12）。隐含公开。 | 对比文件原文：“サンプルと前記金属薄膜とを接触させて”（使样本与所述金属薄膜接触）。金属薄膜表面为接触样本的表面。 | 对比文件公开了金属薄膜表面与样本接触，该表面可视为接触表面。虽然对比文件未明确称“载体”，但棱镜和金属薄膜构成的整体可作为支撑结构，本领域技术人员可合理推断出载体包括接触表面。该特征部分被公开（接触表面），有可能与其他对比文件组合公开完整的载体特征，故隐含公开。 |
| 技术特征T：接触表面具有带有光学结构（50）的多个独立研究区域（13，13a，13b，13c）。未公开。 | 对比文件未公开多个独立研究区域。对比文件仅有一个金属薄膜区域，未提及多个区域。 | 对比文件没有公开多个独立研究区域，也没有光学结构划分区域，故未公开。 |
| 技术特征U：光学结构（50）包括用于样本的目标成分（1，1’）的结合部位。隐含公开。 | 对比文件原文：“レセプター9を金属薄膜兼上側電極7に固定”（将受体9固定在金属薄膜兼上电极7上）。受体为结合部位。 | 对比文件公开了结合部位（受体）固定在金属薄膜上，金属薄膜是光学检测结构（SPR传感器），可视为光学结构的一部分。虽然目标专利的光学结构特指凹槽刻面，但对比文件部分公开了“光学结构包括结合部位”这一要素，有可能与其他对比文件组合公开完整特征，故隐含公开。 |
根据上述比对，对比文件直接公开了技术特征G，隐含公开了技术特征S和U。
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