对比文件名称：2010-04-07_EP2172084A_发明公开_EP2172084A2 A METHOD FOR PROCESSING LIGHT IN A STRUCTURE AND A LIGHTING SYSTEM
目标专利名称：1343用于产生预定类型的环境照明的方法和设备CN102960071B
本次调用的模型名称：DeepSeek Chat
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：针对预定类型的环境照明（直接公开） | 对比文件具体实施方式部分：“The light properties of the light sources are sent to the master controller, for further use, such as for generating a desired light atmosphere in the room or in a part of the room.”（中文：光源的光属性被发送到主控制器，以供进一步使用，例如用于在房间或房间的一部分中产生期望的光氛围。） | 对比文件明确公开了“产生期望的光氛围”，即一种预定类型的环境照明，其作用与目标专利中为用户提供特定氛围的环境照明相同，本领域技术人员能够毫无疑义地确定对比文件公开了“针对预定类型的环境照明”。 |
| 技术特征B：确定(201,203,205,211,213)多个发光体的每一个的影响（直接公开） | 对比文件具体实施方式部分：“foot-print measurements for determining a property of the emitted light, such as intensity, often start with a so called dark room calibration, where the foot-print of each individual light source is measured.”（中文：用于确定发射光的属性（如强度）的足印测量通常从所谓的暗室校准开始，其中测量每个单独光源的足印。）以及“determining, for each individual code, at least one property related to the associated light source.”（中文：对于每个个体代码，确定与关联光源相关的至少一个属性。） | 对比文件公开了通过足印测量确定每个光源的足印（即对场景的光照影响），该足印描述了光源的强度分布等属性，直接对应于目标专利中“每个发光体的影响”。本领域技术人员能直接确定对比文件公开了此特征。 |
| 技术特征C：控制(207,209,215)多个发光体的每一个的光照（直接公开） | 对比文件具体实施方式部分：“The control unit 211 is connected to the light sources 203 for controlling their light output, for example as regards intensity, and/or colour, etc.”（中文：控制单元211连接到光源203，用于控制它们的光输出，例如关于强度和/或颜色等。） | 对比文件明确公开了控制单元对每个光源的光输出进行控制（如强度、颜色），这与目标专利中控制每个发光体的光照完全相同，属于直接公开。 |
| 技术特征D：从而基于所确定的多个发光体的每一个的影响来产生所述预定类型的环境照明（直接公开） | 对比文件具体实施方式部分：“The master controller now knows the position of the camera and the positions of the light sources relative to the camera, it can calculate how to set different light sources in order to obtain a desired light atmosphere.”（中文：主控制器现在知道相机的位置以及光源相对于相机的位置，它可以计算如何设置不同光源以获得期望的光氛围。） | 对比文件明确公开了基于确定的光源位置（影响）来计算光源设置，从而产生期望的光氛围（预定类型的环境照明），与目标专利的基于影响产生环境照明完全一致，直接公开。 |
| 技术特征E：将装置的至少一个操作状态映射(303)到多个预定类型的环境照明的至少一个（未公开） | 对比文件全文未提及任何装置的操作状态映射。 | 对比文件仅涉及光源属性确定和氛围生成，未涉及任何外部装置（如家用电器）的操作状态，也未公开将操作状态映射到环境照明，本领域技术人员无法从对比文件得出该特征。 |
| 技术特征F：确定该装置的当前操作状态（未公开） | 对比文件全文未提及确定装置的操作状态。 | 对比文件不涉及装置操作状态，故未公开此特征。 |
| 技术特征G：基于所述映射（未公开） | 对比文件无映射相关内容。 | 对比文件未公开映射，故无基于映射的步骤。 |
| 技术特征H：将多个预定类型的环境照明的对应一个应用到所述装置（未公开） | 对比文件全文未提及将环境照明应用于装置。 | 对比文件产生的氛围是用于空间环境，而非应用于特定装置，故未公开此特征。 |
| 技术特征I：所应用的预定类型的环境照明指示该装置的所述当前操作状态（未公开） | 对比文件全文未提及环境照明指示装置操作状态。 | 对比文件无指示操作状态的功能，故未公开。 |
| 技术特征J：其中该装置为家用电器、媒体播放器和音频产品中的一种（未公开） | 对比文件全文未提及这些装置类型。 | 对比文件未涉及任何特定装置类型，故未公开。 |
| 技术特征K：其中该方法还包括下述步骤（未公开） | 对比文件未公开后续步骤L、M、N。 | 特征K引出的步骤L、M、N涉及装置映射和组合调适，对比文件未公开，故特征K未公开。 |
| 技术特征L：基于所述多个发光体确定多个预定类型的环境照明的组合（隐含公开） | 对比文件具体实施方式部分述及通过足印测量确定光源属性，并用于产生期望氛围，虽未明确“确定组合”，但系统必然知晓基于光源能力可实现的氛围种类。 | 本领域技术人员根据对比文件公开的足印测量和氛围生成方法，可以合理推断系统能够基于发光体确定可能的环境照明组合（例如不同氛围效果），因此隐含公开。 |
| 技术特征M：基于所确定的预定类型的环境照明的组合（隐含公开） | 同上，对比文件可基于光源能力设置不同氛围。 | 在特征L隐含公开的基础上，基于确定的组合进行操作是合理延伸，故隐含公开。 |
| 技术特征N：调适该装置的多个操作状态条件的映射（未公开） | 对比文件无装置操作状态映射，也无调适。 | 对比文件不涉及装置映射，故未公开。 |
| 技术特征O：其中确定(201,203,205,211,213)多个发光体的每一个的影响的步骤包括下述步骤（隐含公开） | 对比文件具体实施方式部分公开了确定影响的具体步骤：注册图像、导出代码、确定属性（如位置、强度）。 | 对比文件虽然措辞不同，但公开了确定影响所需的子步骤，本领域技术人员可以合理推断对比文件的方法包括这些步骤，因此隐含公开该过渡特征。 |
| 技术特征P：确定(201,203,205,211,213)多个发光体的每一个对多个预定类型的环境照明的每一个的影响（隐含公开） | 对比文件公开了确定每个光源的足印（影响），该足印可用于计算任何目标氛围的贡献，即对每个可能的环境照明都有影响。 | 本领域技术人员根据对比文件公开的足印测量，能够合理推断每个光源的影响可应用于多个预定类型的环境照明（例如通过计算不同色温或亮度分布），因此隐含公开。 |
| 技术特征Q：其中确定(201,203,205,211,213)多个发光体的每一个对多个预定类型的环境照明的每一个的影响的步骤包括下述步骤（隐含公开） | 对比文件具体实施方式部分公开了确定影响的步骤（注册、导出、确定属性），这些步骤同样适用于确定每个光源对每个氛围的影响。 | 在特征P隐含公开的基础上，对比文件公开的确定步骤自然延伸，本领域技术人员可合理推断该过渡特征。 |
| 技术特征R：采集(203)多个光照模式（直接公开） | 对比文件具体实施方式部分：“registering, by means of said camera, images of said spots of light; deriving said individual codes from the registered images;”以及足印测量中通过相机注册每个光源的足印。 | 对比文件通过相机注册图像，这些图像包含每个光源的足印（光照模式），并可通过代码分离，实质上是采集了多个光照模式，直接公开。 |
| 技术特征S：将多个所采集的光照模式的每一个与多个预定类型的环境照明的每一个关联(205)（未公开） | 对比文件全文未公开将足印模式与特定环境照明类型关联。 | 对比文件中的足印测量仅用于确定光源属性，之后用于计算目标氛围，并无预先将足印关联到特定氛围类型的步骤，故未公开。 |
| 技术特征T：其中控制多个发光体的每一个的光照从而产生所述预定类型的环境照明的步骤包括下述步骤（未公开） | 对比文件未公开后续U、V的选择和根据模式光照步骤。 | 由于特征U、V未公开，该过渡特征未公开。 |
| 技术特征U：选择(207)与所要求的预定类型的环境照明关联的所采集的光照模式（未公开） | 对比文件未公开选择关联模式，而是通过计算设置光源。 | 对比文件产生期望氛围是通过计算光源设置，并非预先选择关联的光照模式，故未公开。 |
| 技术特征V：根据所选择的采集的光照模式来光照(209)多个发光体（未公开） | 对比文件无此步骤。 | 同特征U，未公开。 |
| 技术特征W：其中确定(201,203,205,211,213)多个发光体的每一个的影响的步骤包括下述步骤（隐含公开） | 对比文件具体实施方式部分公开了确定影响因素（如光源位置、强度）和基于这些因素确定影响（足印）。 | 对比文件公开了确定光源位置、强度等属性，并基于这些确定足印，本领域技术人员可合理推断确定影响包括确定影响因素和基于影响因素确定影响，故隐含公开。 |
| 技术特征X：确定(211)多个影响因素（隐含公开） | 对比文件具体实施方式部分公开了确定光源位置（相对于相机或布局）、强度等属性，这些属于影响因素。 | 对比文件至少确定了光源位置和强度等影响因素，虽然未涵盖目标专利列举的所有因素（如对象位置、阴影），但本领域技术人员可合理推断其部分公开了“确定多个影响因素”，故隐含公开。 |
| 技术特征Y：基于多个所确定的影响因素的至少一个来确定(213)影响（直接公开） | 对比文件具体实施方式部分：“The master controller now knows the position of the camera and the positions of the light sources relative to the camera, it can calculate how to set different light sources in order to obtain a desired light atmosphere.”以及足印测量基于位置和强度确定足印。 | 对比文件明确公开了基于确定的光源位置（影响因素）来计算光源设置（影响），直接公开了基于影响因素确定影响。 |
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