对比文件名称：WO2013076714A1 (A SAFE SKIN TREATMENT APPARATUS FOR PERSONAL USE AND METHOD FOR ITS USE)
目标专利名称：具有处理设定限定器的使用RF电流的非侵入性皮肤处理装置 (CN107530544B)
本次调用的模型名称：当前AI模型
### 特征比对表格
| 第一栏：技术特征描述及公开性判断结果 | 第二栏：对比文件原文引用（中文翻译） | 第三栏：公开性论述 |
| 技术特征A：RF处理信号穿过所述内部区域(15)施加于所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间，用于加热所述内部区域(15) **《直接公开》** | [0003]：“将电极施加到皮肤，RF电压以连续或脉冲模式施加在电极之间。选择电压特性以在待处理皮肤中产生RF感应电流。电流将皮肤加热到所需温度并产生期望效果。” | 对比文件明确公开了RF电压施加在电极之间，产生电流加热皮肤，对应于RF处理信号穿过皮肤内部区域进行加热，因此直接公开。 |
| 技术特征B：阻抗测量电路(35) **《直接公开》** | [0040]：“反馈回路128在操作过程中监测皮肤加热能量耦合质量，可以通过连续监测电极之间的阻抗并导出阻抗变化率来确定RF电极-皮肤接触质量。”<br>[0047]：“控制电路222包括反馈回路或机制128，通过测量电极之间的电流来连续监测皮肤阻抗。” | 对比文件公开了通过反馈回路/机制测量电极间电流以监测阻抗，该功能模块即为阻抗测量电路，因此直接公开。 |
| 技术特征C：其被配置和布置成测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的皮肤阻抗 **《直接公开》** | 同特征B引用。 | 对比文件明确公开了测量RF电极之间的皮肤阻抗，与目标专利中测量处理电极与返回电极之间阻抗的配置一致，因此直接公开。 |
| 技术特征D：处理设定限定器(30) **《未公开》** | 对比文件未明确公开处理设定限定器。 | 对比文件虽包含控制单元及反馈回路，但未公开专门用于确定处理设定的模块（处理设定限定器），且其控制方式为实时反馈，而非预先确定处理设定，因此未公开。 |
| 技术特征E：其被配置和布置成确定与所述RF处理信号相关联的处理设定，其特征在于，所述皮肤处理装置(100)还包括控制器(25) **《未公开》** | 对比文件有控制器（控制单元108），但未公开其确定处理设定的功能（特别是基于初始阻抗和电极尺寸）。 | 对比文件的控制器仅用于实时调整电压/能量，并未公开如目标专利中根据初始阻抗和电极尺寸预先确定处理设定的功能，因此未公开。 |
| 技术特征F：所述控制器(25)被编程使得在操作期间，所述控制器在激活所述RF发生器(20)以施加所述RF处理信号之前，激活所述阻抗测量电路(35)以测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的初始皮肤阻抗ZO **《隐含公开》** | [0040]：“连续监测电极之间的阻抗”。<br>[0045]：“通过监测皮肤阻抗检测电极-皮肤接触质量”。 | 对比文件虽未明确写明“在激活RF发生器之前”进行初始测量，但本领域技术人员可以合理推断：在开始施加RF处理信号前，为了检测接触质量，控制器必然先激活阻抗测量电路获取初始阻抗值，因此隐含公开。 |
| 技术特征G：其中所述处理设定限定器(30)被编程使得在操作期间，所述处理设定限定器(30)根据所测量的初始皮肤阻抗ZO以及所述接触平面中的所述RF处理电极(10)的尺寸确定所述处理设定，所述处理设定至少包括以下：与期望的处理结果相关联的处理持续时间(TD) **《未公开》** | 对比文件未公开根据初始阻抗和电极尺寸确定处理持续时间。 | 对比文件未提及电极尺寸用于确定处理设定，也未公开处理持续时间作为预设参数，因此未公开。 |
| 技术特征H：与所述RF处理信号相关联的RF电气参数；并且中所述控制器(25)被进一步编程使得在激活所述阻抗测量电路以测量所述初始皮肤阻抗之后，所述控制器连续地：激活所述处理设定限定器(30)，以在激活所述RF发生器以施加所述RF处理信号之前确定所述处理设定 **《未公开》** | 对比文件未公开该顺序和功能。 | 对比文件没有公开处理设定限定器，也没有公开在测量初始阻抗后激活处理设定限定器确定处理设定的步骤，因此未公开。 |
| 技术特征I：配置所述RF发生器(20)以根据所述处理设定提供所述RF处理信号 **《直接公开》** | [0076]：“控制器可以基于温度变化率和/或阻抗和/或阻抗变化率自动调整耦合到皮肤的RF电压值。” | 对比文件公开了控制器根据监测结果自动调整RF电压，即配置RF发生器提供相应的RF处理信号，因此直接公开。 |
| 技术特征J：激活所述RF发生器(20)，以施加所述RF处理信号到所述内部区域(15)持续所述处理持续时间(TD) **《未公开》** | [0075]：“温度传感器连续测量温度，并可能当温度变化率太快或绝对温度超过预设限值时关闭RF能量。” | 对比文件虽公开了激活RF发生器施加能量，但处理持续时间由实时条件（如温度限值）决定，而非预设的固定持续时间TD，因此未公开。 |
| 技术特征K：其中所述处理持续时间(TD)与所述内部区域(15)中从期望处理结果到不期望的处理结果的过渡相关联 **《隐含公开》** | [0075]通过预设温度限值防止不期望结果。[0076]通过实时监测调整能量。 | 对比文件虽未直接写明关联，但本领域技术人员可以合理推断：处理持续时间过长必然导致从期望结果（如加热）向不期望结果（如烧伤）的过渡，且对比文件通过监测温度变化率来避免该过渡，因此隐含公开。 |
| 技术特征L：其中所述不期望的处理结果与所述内部区域(15)内的凝固或消融相关联 **《隐含公开》** | [0009]提到“burns, blisters and other skin damage”。 | 本领域技术人员知晓RF过度加热会导致组织凝固或消融，对比文件所述皮肤损伤包含这些情况，因此可以合理推断，隐含公开。 |
| 技术特征M：其中所述RF处理电极(10)在所述RF处理电极(10)的所述接触平面中的最大尺寸小于或等于2mm **《未公开》** | [0048]描述电极形状，但未公开尺寸。 | 对比文件未公开电极尺寸的具体限制，因此未公开。 |
| 技术特征N：其中所述处理设定限定器(30)被编程使得所述处理设定限定器(30)根据以下公式确定所述处理设定：J＝K.R.TT.PM.(1–exp(‑TD/TT))，其中：J是与期望的处理结果与不期望的处理结果之间的过渡相关联的皮肤损害发作因子 **《未公开》** | 对比文件未公开任何公式。 | 对比文件完全没有记载该公式，因此未公开。 |
| 技术特征O：K是常数，单位为每毫米‑毫焦耳，取决于皮肤组织的热和介电特性 **《未公开》** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开该常数，因此未公开。 |
| 技术特征P：R是所述RF处理电极(10)在所述接触平面内的半径，单位为毫米 **《未公开》** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开该参数，因此未公开。 |
| 技术特征Q：TT是皮肤组织的热时间常数，单位为毫秒 **《未公开》** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开该参数，因此未公开。 |
| 技术特征R：PM是与所述RF处理信号相关联RF功率，单位为瓦特，等于VM2/ZO，其中VM是所述RF处理信号的电压 **《未公开》** | 对比文件未公开该关系。 | 对比文件未公开功率与电压、阻抗的特定关系，因此未公开。 |
| 技术特征S：TD是所述处理持续时间，单位为毫秒 **《未公开》** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开该参数，因此未公开。 |
| 技术特征T：其中K等于0.38±0.03mm-1mJ-1 **《未公开》** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开该具体数值，因此未公开。 |
| 技术特征U：其中TT等于40.4±4.8毫秒 **《未公开》** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开该具体数值，因此未公开。 |
| 技术特征V：其中所述皮肤损害发作因子(J)是以下中的一个或多个：J＝1±0.3，当所述内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与非消融性凝固损害的发作相关联时 **《未公开》** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开该J值，因此未公开。 |
| 技术特征W：者J＝1.7±0.5，当所述内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与消融性损害的发作相关联时 **《未公开》** | 对比文件未公开。 | 对比文件未公开该J值，因此未公开。 |
| 技术特征X：其中与所述RF处理信号相关联的所述RF电气参数是以下一个或多个：IM，是所述RF处理信号的电流，单位为安培 **《直接公开》** | [0047]：“通过测量电极之间的电流来连续监测皮肤阻抗。” | 对比文件公开了测量RF电流，电流是RF处理信号的电气参数，因此直接公开。 |
| 技术特征Y：VM，是所述RF处理信号的电压，单位为伏特 **《直接公开》** | [0003]：“RF电压以连续或脉冲模式施加在电极之间。”<br>[0076]：“自动调整RF电压值。” | 对比文件明确公开了RF电压，因此直接公开。 |
| 技术特征Z：PM，是与所述RF处理信号相关联的功率，单位为瓦特 **《隐含公开》** | [0003]提及RF能量加热皮肤；[0076]通过调整电压改变能量输出。 | 对比文件虽未直接使用“功率”一词，但本领域技术人员公知RF处理必然涉及功率，且电压调整隐含功率变化，因此可以合理推断，隐含公开。 |
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