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对比文件列表
2001-12-05_EP1158919A_发明公开_EP1158919A1 APPARATUS AND METHOD FOR TREATMENT OF TISSUE_+++A_B_C_X_Y_Z_d_e_f_i_j+++.docx
2026-07-22 17:41
2005-06-29_EP1158919B_发明授权_EP1158919B1 APPARATUS FOR TREATMENT OF TISSUE_+++A_B_C_I_J_X_Y_Z_a_b+++.docx
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2005-10-16_ES2240078T_发明专利_ES2240078T3 APARATO PARA EL TRATAMIENTO DE TEJIDOS_+++A_B_C_E_I_J_X_Y_Z_d_l+++.docx
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2007-07-26_US2007173813A_发明申请_US20070173813A1 System and method for tissue sealing_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Y_k_l+++.docx
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2008-02-14_US2008039831A_发明申请_US20080039831A1 System and method for measuring initial tissue impedance_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_X_Y_Z_l_r+++.docx
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2008-06-18_JP4102031B_发明专利_JP4102031B2 Apparatus and method for treating tissue_+++A_B_C_D_E_I_J_X_Y_Z_k_l_m_r_s+++.docx
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2010-09-02_WO2010098784A_发明申请_WO2010098784A1 DEVICES AND METHODS FOR PERCUTANEOUS ENERGY DELIVERY_+++A_B_C_E_F_I_J_L_M_R_X_Y_Z_d_h_k_s+++.docx
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2012-02-23_WO2012023129A_发明申请_WO2012023129A1 ELECTROMAGNETIC ENERGY APPLICATOR FOR PERSONAL AESTHETIC SKIN TREATMENT_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_L_M_P_S_X_Y_Z+++.docx
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2012-08-16_KR1020120090007A_发明公开_KR1020120090007A 경피적으로 에너지를 전달하는 장치 및 방법_+++A_B_C_E_F_I_J_M_X_Y_Z_d_k_l+++.docx
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2012-08-23_WO2012110996A_发明申请_WO2012110996A2 A METHOD AND APPARATUS FOR COSMETIC SKIN TREATMENT_+++A_B_C_D_E_I_J_K_L_M_R_S_X_Y_Z_f_h+++.docx
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2015-03-26_WO2015040049A_发明申请_WO2015040049A1 TREATMENT DEVICE FOR THE SKIN USING RADIO-FREQUENCY ELECTRIC CURRENT_+++A_B_C_E_I_J_M_X_Y_Z_d+++.docx
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DE60021063T2_Description_20260712_1547_+++A_B_C_I_J_L_X_Y_Z_d_e+++.docx
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DE60021063T2_Description_20260712_1547_+++A_B_C_I_J_L_X_Y_Z_d_e+++.docx

对比文件名称:DE60021063T2_Description_20260712_1547

目标专利名称:1357具有处理设定限定器的使用RF电流的非侵入性皮肤处理装置CN107530544B

本次调用的模型名称:未指定(用户未提供)

### 特征比对表格

第一栏:技术特征描述及公开性判断第二栏:对比文件原文引用(翻译)第三栏:公开性论述
**A:RF处理信号穿过内部区域(15)施加于RF处理电极(10)与返回电极(40)之间,用于加热内部区域(15)** <br>【直接公开】对比文件“AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG”部分描述双极模式:“Bei einer bipolaren Ausführungsform (mit der dielektrischen Beschichtung auf der Gewebekontaktseite) fließt elektrischer Strom gleichmäßig aus einer ersten Elektrode 17' eines bipolaren Paars 17 durch dessen dielektrische Beschichtung in das Gewebe, dann durch die dielektrische Beschichtung der zweiten Elektrode 17'' des bipolaren Paars 17 in die zweite Elektrode und dann zurück zu der RF-Energiequelle 18.” 翻译:在双极实施方式中(具有在组织接触侧上的介电涂层),电流从双极对17的第一电极17'均匀地流过其介电涂层进入组织,然后通过双极对17的第二电极17''的介电涂层进入第二电极,然后返回到RF能源18。此外,单极配置也描述电流通过组织。对比文件明确描述了RF电流在电极之间流过组织,用于加热组织,与特征A中的RF处理信号穿过内部区域加热功能实质相同,因此直接公开。
**B:阻抗测量电路(35)** <br>【直接公开】对比文件“AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG”部分:“An der Energielieferungsoberfläche der Maske 12' oder der Energieliefervorrichtung 16 kann ein Sensor 20 angeordnet sein, um die Temperatur, die Impedanz, den Druck und dergleichen festzustellen.” 翻译:在掩模12'的能量输送表面或能量输送装置16上可以布置传感器20,以检测温度、阻抗、压力等。另外,控制系统中使用电流传感器396和电压传感器398计算阻抗,如“Der Strom, der durch die RF-Elektrode 314 geführt wird, wird mit einem Stromsensor 396 gemessen. Die Spannung wird durch einen Spannungssensor 398 gemessen. Die Impedanz und die Leistung werden dann in der Leistungs- und Impedanzberechnungsvorrichtung 400 berechnet.” 翻译:通过RF电极314的电流用电流传感器396测量。电压用电压传感器398测量。然后阻抗和功率在功率和阻抗计算装置400中计算。对比文件公开了用于测量阻抗的传感器和计算电路,这些结构相当于本特征的阻抗测量电路,因此直接公开。
**C:其被配置和布置成测量RF处理电极(10)与返回电极(40)之间的皮肤阻抗** <br>【直接公开】同上,电流传感器396和电压传感器398连接在RF电极电路上,通过测量电流和电压计算电极之间的阻抗。此外,传感器20也可直接检测阻抗。对比文件公开了测量RF电极与返回电极之间阻抗的装置(通过电流、电压传感器计算阻抗),因此直接公开。
**D:处理设定限定器(30)** <br>【隐含公开】对比文件没有明确“处理设定限定器”模块,但控制器(394, 404)执行确定处理设定的功能。例如在“Fig. 21”描述:“Der Kontroller 394 bestimmt die Energieniveaus, die Zyklen und die Dauer, über die die Radiofrequenzenergie auf die individuellen Elektroden 314 verteilt wird, um die geeigneten Energieniveaus zu erreichen und zu halten, um die gewünschten Behandlungsziele und klinischen Ergebnisse zu erreichen.” 翻译:控制器394确定能量水平、循环和持续时间,将射频能量分配到各个电极314,以达到和保持适当的能量水平,实现期望的治疗目标和临床结果。对比文件中的控制器具有确定治疗参数(能量、持续时间等)的功能,这与本特征的处理设定限定器在功能上实质相同,尽管名称不同,但本领域技术人员可以合理推断出该模块的存在,因此隐含公开。
**E:其被配置和布置成确定与RF处理信号相关联的处理设定,其特征在于,皮肤处理装置(100)还包括控制器(25)** <br>【隐含公开】同上,控制器394确定处理设定。另外,对比文件明确包括控制器,如“Ein Kontroller 394 oder Mikroprozessor 394 kann eingeschlossenen werden und in das geschlossene oder offene Schleifensystem 60 eingebaut werden.” 翻译:可以包括控制器394或微处理器394,并将其集成到闭环或开环系统60中。对比文件公开了控制器,并且该控制器被配置为确定处理设定(如能量、持续时间),因此隐含公开了处理设定限定器(由控制器实现)确定处理设定以及装置包含控制器的整体特征。
**F:控制器(25)被编程使得在操作期间,控制器在激活RF发生器(20)以施加RF处理信号之前,激活阻抗测量电路(35)以测量RF处理电极(10)与返回电极(40)之间的初始皮肤阻抗ZO** <br>【未公开】对比文件描述的治疗过程中,阻抗测量主要在能量输送期间进行(如Fig. 23的监测装置420基于输送的能量检查阻抗),未明确在激活RF发生器前测量初始阻抗。虽然有“Vorkühlung”预冷步骤,但未提及初始阻抗测量。对比文件未公开在激活RF发生器之前专门测量初始皮肤阻抗的步骤,也没有明确的操作顺序教导,因此未公开本特征。
**G:其中处理设定限定器(30)被编程使得在操作期间,处理设定限定器(30)根据所测量的初始皮肤阻抗ZO以及接触平面中的RF处理电极(10)的尺寸确定处理设定,处理设定至少包括以下:与期望的处理结果相关联的处理持续时间(TD)** <br>【未公开】对比文件未提及根据初始阻抗和电极尺寸确定处理持续时间。控制器可能根据实时阻抗调整功率,但未预先确定持续时间,且电极尺寸的影响未与初始阻抗共同用于设定处理持续时间。对比文件没有公开任何根据初始阻抗和电极尺寸来确定处理持续时间的教导或暗示,因此未公开。
**H:与RF处理信号相关联的RF电气参数;并且中控制器(25)被进一步编程使得在激活阻抗测量电路以测量初始皮肤阻抗之后,控制器连续地:激活处理设定限定器(30),以在激活RF发生器以施加RF处理信号之前确定处理设定** <br>【未公开】对比文件未描述测量初始阻抗后、激活RF发生器前先激活处理设定限定器确定处理设定的顺序。对比文件的控制是实时反馈型的,并非基于初始阻抗预先确定。对比文件未公开该特定顺序流程,因此未公开。
**I:配置RF发生器(20)以根据处理设定提供RF处理信号** <br>【直接公开】在“Fig. 21”描述:“Der Kontroller 394 bestimmt die Energieniveaus... und die Dauer... um die geeigneten Energieniveaus zu erreichen und zu halten.” 以及“Das Kontrollsignal wird von den Stromkreisläufen 406 verwendet, um die Leistungsausgabe auf den geeigneten Umfang einzustellen.” 翻译:控制信号由电路406用于将功率输出调整到适当范围。对比文件公开了控制器根据处理设定(如功率水平)配置RF发生器,因此直接公开。
**J:激活RF发生器(20),以施加RF处理信号到内部区域(15)持续处理持续时间(TD)** <br>【直接公开】对比文件描述RF发生器被激活以输送RF能量持续一定时间。例如,在“AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG”中:“Die Anwendung von RF-Energie erfolgt über eine ausgewählte Zeitlänge.” 翻译:RF能量的应用经过选定的时间长度。此外,Fig. 18和Fig. 19显示了包括RF开启时间的治疗循环。对比文件公开了激活RF发生器并施加RF信号持续设定的持续时间,因此直接公开。
**K:其中处理持续时间(TD)与内部区域(15)中从期望处理结果到不期望的处理结果的过渡相关联** <br>【未公开】对比文件未将处理持续时间与从期望结果到不期望结果的过渡进行关联。它提到烧伤等级,但未与持续时间建立联系。对比文件未公开这种关联,因此未公开。
**L:其中不期望的处理结果与内部区域(15)内的凝固或消融相关联** <br>【直接公开】对比文件“AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG”部分关于烧伤分类:“Verbrennungen sind das morphologische Ergebnis von Wechselwirkungen thermischer Energie mit der Haut und werden auf der Grundlage der Hauttiefe in ersten, zweiten und dritten Grades klassifiziert.” 其中第二度烧伤涉及表皮和真皮的热损伤,包括凝固和消融过程。此外,在描述治疗目标时通常避免热损伤,不期望的结果即为凝固或消融。对比文件明确将热损伤(烧伤)与凝固、消融相联系,在治疗语境中这些是不期望的处理结果,因此直接公开了本特征。
**M:其中RF处理电极(10)在RF处理电极(10)的接触平面中的最大尺寸小于或等于2mm** <br>【未公开】对比文件提到电极尺寸可变,例如“kleine Elektroden”,但未给出具体数值2mm或更小。对比文件未公开电极最大尺寸的具体范围,因此未公开。
**N:其中处理设定限定器(30)被编程使得处理设定限定器(30)根据以下公式确定处理设定:J=K.R.TT.PM.(1–exp(‑TD/TT)),其中:J是与期望的处理结果与不期望的处理结果之间的过渡相关联的皮肤损害发作因子** <br>【未公开】对比文件未提及该公式或类似关系。对比文件未公开该公式,因此未公开。
**O:K是常数,单位为每毫米‑毫焦耳,取决于皮肤组织的热和介电特性** <br>【未公开】对比文件未公开此常数。未公开。
**P:R是RF处理电极(10)在接触平面内的半径,单位为毫米** <br>【未公开】对比文件未公开将电极半径作为参数用于公式。未公开。
**Q:TT是皮肤组织的热时间常数,单位为毫秒** <br>【未公开】对比文件未公开此热时间常数。未公开。
**R:PM是与RF处理信号相关联RF功率,单位为瓦特,等于VM2/ZO,其中VM是RF处理信号的电压** <br>【未公开】对比文件公开了功率计算,但未公开PM=VM2/ZO的具体关系,而是通过电流和电压计算功率。未公开该具体等式。
**S:TD是处理持续时间,单位为毫秒** <br>【未公开】对比文件未公开将处理持续时间作为公式中的参数并赋予毫秒单位。未公开。
**T:其中K等于0.38±0.03mm-1mJ-1** <br>【未公开】对比文件未公开该数值。未公开。
**U:其中TT等于40.4±4.8毫秒** <br>【未公开】对比文件未公开该数值。未公开。
**V:其中皮肤损害发作因子(J)是以下中的一个或多个:J=1±0.3,当内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与非消融性凝固损害的发作相关联时** <br>【未公开】对比文件未公开此J值及其关联。未公开。
**W:或者J=1.7±0.5,当内部区域(15)内的从期望的处理结果到不期望的处理结果的过渡与消融性损害的发作相关联时** <br>【未公开】对比文件未公开此J值及其关联。未公开。
**X:其中与RF处理信号相关联的RF电气参数是以下一个或多个:IM,是RF处理信号的电流,单位为安培** <br>【直接公开】对比文件有电流传感器396测量电流,例如“Der Strom, der durch die RF-Elektrode 314 geführt wird, wird mit einem Stromsensor 396 gemessen.” 翻译:通过RF电极314的电流用电流传感器396测量。对比文件公开了RF处理信号电流的测量,因此直接公开电流参数。
**Y:VM,是RF处理信号的电压,单位为伏特** <br>【直接公开】对比文件有电压传感器398测量电压,例如“Die Spannung wird durch einen Spannungssensor 398 gemessen.” 翻译:电压用电压传感器398测量。对比文件公开了RF处理信号电压的测量,因此直接公开电压参数。
**Z:PM,是与RF处理信号相关联的功率,单位为瓦特** <br>【直接公开】对比文件有功率计算装置400,例如“Die Impedanz und die Leistung werden dann in der Leistungs- und Impedanzberechnungsvorrichtung 400 berechnet.” 翻译:然后阻抗和功率在功率和阻抗计算装置400中计算。对比文件公开了RF处理信号功率的计算,因此直接公开功率参数。

<<<A>>><<<B>>><<<C>>><<<I>>><<<J>>><<<L>>><<<X>>><<<Y>>><<<Z>>><<<d>>><<<e>>>

权利要求与技术特征

A RF处理信号穿过所述内部区域(15)施加于所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间,用于加热所述内部区域(15)
B 阻抗测量电路(35)
C 其被配置和布置成测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的皮肤阻抗
D 处理设定限定器(30)
E 其被配置和布置成确定与所述RF处理信号相关联的处理设定,其特征在于,所述皮肤处理装置(100)还包括控制器(25)
F 所述控制器(25)被编程使得在操作期间,所述控制器在激活所述RF发生器(20)以施加所述RF处理信号之前,激活所述阻抗测量电路(35)以测量所述RF处理电极(10)与所述返回电极(40)之间的初始皮肤阻抗ZO
G 其中所述处理设定限定器(30)被编程使得在操作期间,所述处理设定限定器(30)根据所测量的初始皮肤阻抗ZO以及所述接触平面中的所述RF处理电极(10)的尺寸确定所述处理设定,所述处理设定至少包括以下:与期望的处理结果相关联的处理持续时间(TD)
H 与所述RF处理信号相关联的RF电气参数;并且中所述控制器(25)被进一步编程使得在激活所述阻抗测量电路以测量所述初始皮肤阻抗之后,所述控制器连续地:激活所述处理设定限定器(30),以在激活所述RF发生器以施加所述RF处理信号之前确定所述处理设定
I 配置所述RF发生器(20)以根据所述处理设定提供所述RF处理信号
J 激活所述RF发生器(20),以施加所述RF处理信号到所述内部区域(15)持续所述处理持续时间(TD)
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