对比文件名称：WO2017051827A1_Description_20260618_1852
目标专利名称：1494用于显示装置或柔性显示装置的基底以及使用其的显示装置或柔性显示装置CN115884949B
本次调用的模型名称：先进的自然语言模型
以下根据目标专利权利要求的划分，逐一进行特征比对与公开性判断。特征比对表格中，“公开性判断结果”列于第一栏，第二栏为对比文件原文引用（日文原文及中文翻译），第三栏为专业论述。
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（日文→中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：Td 1％为570℃或更高以及黄度指数为25或更大且60或更小的第一聚酰亚胺树脂层（未公开） | 无直接对应。对比文件公开聚酰亚胺膜的黄色度（YI）为20以下（例如“黄色度（YI値）が２０以下”），且未提及Td1%为570℃或更高。 | 对比文件未公开黄度指数在25‑60范围且Td1%≥570℃的聚酰亚胺层。对比文件的膜黄度低（<20），且没有测量或提及特定Td1%值。因此该特征未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征B：黄度指数小于25的第二聚酰亚胺树脂层（直接公开） | 对比文件多处公开：“黄色度（YI値）が２０以下”（权利要求20、表2、表4等），“膜厚１０μｍにおける黄色度ＹＩが３０以下であることができる”（树脂膜特性部分）；且具体测量的聚酰亚胺膜厚度为10μm。 | 对比文件公开了厚度10μm的聚酰亚胺树脂膜的黄度指数小于20（小于25），该膜在对比文件中用于柔性显示基底，其功能与目标专利的第二聚酰亚胺树脂层（靠近TFT、高电阻）实质相同。数值范围明确落入要求。因此该特征被直接公开。 |
| 技术特征C：第一无机材料层（未公开） | 无直接对应。对比文件仅在单个聚酰亚胺膜上形成无机层（SiNx），从未公开位于两个聚酰亚胺层之间的无机层。 | 对比文件没有记载任何在两个聚酰亚胺层之间设置第一无机材料层的方案，也未暗示此类结构。因此该特征未被公开。 |
| 技术特征D：所述第一无机材料层定位在所述第一聚酰亚胺树脂层与所述第二聚酰亚胺树脂层之间（未公开） | 同上。 | 同特征C，未公开。 |
| 技术特征E：具有100nm或更大且700nm或更小的厚度（未公开） | 无对应。 | 对比文件未公开第一无机层及其厚度范围，未公开。 |
| 技术特征F：和第二无机材料层（直接公开） | “ポリイミド樹脂膜上に、ＣＶＤ法により、無機膜である窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）膜を３５０℃において１００ｎｍの厚さで形成”（<無機膜を形成したポリイミド樹脂膜の反り評価>）。 | 对比文件明确在聚酰亚胺树脂膜上形成无机膜（SiNx），该无机膜即为第二无机材料层。因此特征F被直接公开。 |
| 技术特征G：所述第二无机材料层形成在所述第二聚酰亚胺树脂层上（直接公开） | 同上，“ポリイミド樹脂膜上に…形成”。该聚酰亚胺膜即为后续形成TFT等器件的基底层，相当于第二聚酰亚胺树脂层。 | 对比文件公开了第二无机材料层（SiNx）直接形成在聚酰亚胺树脂层（第二聚酰亚胺层）上，位置关系一致。因此直接公开。 |
| 技术特征H：具有100nm或更大且500nm或更小的厚度（直接公开） | 同上，“１００ｎｍの厚さ”。 | 对比文件中的SiNx膜厚度为100nm，落在100‑500nm范围内。因此厚度特征被直接公开。 |
| 技术特征I：其中所述第一聚酰亚胺树脂层和所述第二聚酰亚胺树脂层各自的黄度指数是基于10±1μm的厚度测量的（直接公开） | 对比文件在黄色度评价中明确：“膜厚１０μｍにおける黄色度”（树脂膜特性部分及<黄色度（YI値）の評価>）。 | 对比文件公开了黄度指数在10μm膜厚下测量，该测量方法可直接用于任何聚酰亚胺层（包括第一和第二）。本领域技术人员毫无疑义地得出该特征。因此直接公开。 |
| 技术特征J：其中，所述Td 1％为在以下条件下测量当聚酰亚胺树脂层的重量减少率为1％时的温度：（未公开） | 对比文件未提及Td1%或任何重量减少率测量条件。 | 对比文件中没有关于Td1%的测量方法或数值，完全不涉及。因此未公开。 |
| 技术特征K：在50℃下保持等温5分钟（未公开） | 同上。 | 未公开。 |
| 技术特征L：并在将温度升至200℃之后，保持等温30分钟（未公开） | 同上。 | 未公开。 |
| 技术特征M：在冷却至50℃然后稳定之后，以10℃/分钟的速率将温度升至600℃（未公开） | 同上。 | 未公开。 |
| 技术特征N：在稳定之后，基于在100℃下的质量计算当重量减少率为1％时的温度（未公开） | 同上。 | 未公开。 |
| 技术特征O：其中：整个用于显示装置或柔性显示装置的基底的黄度指数为36或更小（未公开） | 对比文件仅公开单层聚酰亚胺膜的黄度指数（≤20），未公开包含第一聚酰亚胺层、第一无机层、第二聚酰亚胺层、第二无机层的整个基底的黄度指数。 | 目标专利的基底为多层结构，整体黄度指数由各层综合决定。对比文件没有记载整体基底的黄度指数，也无法直接推得。因此未公开。 |
| 技术特征P：其中：对于整个用于显示装置或柔性显示装置的基底，（未公开） | 同上。 | 同特征O。 |
| 技术特征Q：在将温度升高2小时至430℃，（未公开） | 对比文件的热处理一般为430℃/1小时（例如“４３０℃において１時間の加熱硬化処理”），未公开升温2小时至430℃的程序。 | 目标专利限定了特定的升温‑保温‑冷却程序及整体基底在程序后的黄度指数。对比文件的程序不同且未涉及整个基底，因此未公开。 |
| 技术特征R：经历2小时430℃下等温过程，（未公开） | 同上。 | 未公开。 |
| 技术特征S：然后冷却2小时至50℃的热处理步骤之后的黄度指数为50或更小（未公开） | 对比文件仅公开单层膜在430℃/1h后YI≤20，但非整个基底，且程序不同。 | 未公开。 |
| 技术特征T：其中：在将温度升高2小时至430℃，（未公开） | 同Q。 | 未公开。 |
| 技术特征U：经历2小时430℃下等温过程，（未公开） | 同R。 | 未公开。 |
| 技术特征V：然后冷却2小时至50℃的热处理步骤之后的黄度指数为30或更大且50或更小（未公开） | 对比文件单层膜热处理后YI<30，不满足“30或更大”；且未涉及整个基底。 | 对比文件没有公开在30‑50范围内的整体基底黄度指数。因此未公开。 |
| 技术特征W：其中：基于整个用于显示装置或柔性显示装置的基底的初始黄度指数，（未公开） | 对比文件未讨论初始黄度指数与热处理后的变化百分比。 | 未公开。 |
| 技术特征X：在将温度升高2小时至430℃，（未公开） | 同Q。 | 未公开。 |
| 技术特征Y：经历2小时430℃下等温过程，（未公开） | 同R。 | 未公开。 |
| 技术特征Z：然后冷却2小时至50℃的热处理步骤之后的黄度指数的百分比为130％或更小（未公开） | 对比文件无此百分比数据。 | 未公开。 |
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