对比文件：2018-11-07_KR1020180121425A_发明公开_KR1020180121425A 광변조 디바이스
目标专利：1509光调制元件CN113330358B
模型名称：专利创造性评估AI（深度思维模型）
特征比对表格：
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译成中文并注明段落编号） | 公开性论述 |
| A：包括第一光调制层《直接公开》 | 段落[0119]：“所述光调制设备可以包括两个或更多个光调制层。”；实施例2段落[0216]：“制造了第一光调制层。” | 对比文件明确公开了光调制设备包含第一光调制层，本领域技术人员可直接得到该特征。 |
| B：所述第一光调制层包含向列型液晶、二色性染料和导电添加剂《隐含公开》 | 向列型液晶：段落[0095]：“液晶化合物可以使用向列型液晶化合物。”；二色性染料：段落[0104]：“光调制层可以包含二色性染料。”；导电添加剂：段落[0097]列出DS（动态散射）模式作为驱动模式，而DS模式通常需要导电添加剂（本领域公知）。 | 对比文件公开了向列型液晶和二色性染料的使用，同时通过公开DS模式使本领域技术人员认识到为实现动态散射，光调制层需含导电添加剂，因此该特征被隐含公开。 |
| C：在其中施加电压的状态下实现散射模式《隐含公开》 | 段落[0097]：“DS（动态散射）模式。” | DS模式本身即散射模式，施加电压时实现散射符合DS模式原理，故隐含公开。 |
| D：和第二光调制层《直接公开》 | 段落[0119]：“光调制设备可以包括两个或更多个光调制层。”；实施例2段落[0217]：“以相同方法制造第二光调制层。” | 对比文件明确公开了第二光调制层。 |
| E：所述第二光调制层包含向列型液晶、二色性染料和导电添加剂《隐含公开》 | 同特征B的引用。 | 论述同特征B。 |
| F：在其中施加电压的状态下实现散射模式《隐含公开》 | 同特征C引用。 | 论述同特征C。 |
| G：其中所述第一光调制层和所述第二光调制层各自为雾度可变层《隐含公开》 | 段落[0140]：“光调制设备可以调节雾度”；段落[0097]公开DS模式。 | DS模式会导致雾度大幅变化，且对比文件明确指出可通过外部信号调节雾度，因此隐含公开光调制层可作为雾度可变层。 |
| H：其中根据外部能量的施加所述雾度可变层在雾度不同的第一状态与第二状态之间转换《隐含公开》 | 同G。 | 对比文件公开通过外部电压调节雾度，DS模式中电压施加引起雾度状态变化，隐含公开了在不同雾度状态间转换。 |
| I：所述第一状态与所述第二状态之间的雾度差为10%或更大《未公开》 | 无。 | 对比文件未给出任何雾度差数值，亦无足够依据推断具体范围。 |
| J：其中所述导电添加剂包括反应性液晶元《未公开》 | 无。 | 对比文件未提及反应性液晶元作为导电添加剂的具体类型。 |
| K：其中将所述第一光调制层和所述第二光调制层设置成彼此重叠《直接公开》 | 段落[0119]-[0120]：“第一至第三聚合物薄膜基板顺序重叠……第一光调制层和第二光调制层。”；图3、4。 | 对比文件明确公开了第一光调制层和第二光调制层彼此重叠的结构。 |
| L：其中所述光调制元件的如通过以下方程式1计算的对比度CR为10或更大《未公开》 | 无。 | 对比文件未以方程式1定义CR，且其公开的CR值基于28V而非60V，故未公开。 |
| M：[方程式1]CR＝T(0V)/T(60V)《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开该方程式。 |
| N：其中T(0V)为在其中不向所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者施加电压的状态下所述光调制元件的以％计的总透射率《直接公开》 | 实施例2表3：투과율(0V)=44.4%，段落[0229]记载了0V透射率测量。 | 对比文件明确测量并公开了不施加电压时的总透射率（44.4%），直接公开了T(0V)的定义。 |
| O：T(60V)为在其中向所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者施加60V的电压的状态下所述光调制元件的以％计的总透射率《未公开》 | 无。 | 对比文件未使用60V电压。 |
| P：其中所述光调制元件的如通过以下方程式2计算的雾度差ΔH为50%或更大《未公开》 | 无。 | 对比文件无雾度数据。 |
| Q：[方程式2]ΔH＝H(60V)‑H(0V)《未公开》 | 无。 | 对比文件未公开该方程式。 |
| R：其中H(0V)为在其中不向所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者施加电压的状态下所述光调制元件的以％计的雾度《未公开》 | 无。 | 对比文件未测量或定义雾度。 |
| S：H(60V)为在其中向所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者施加60V的电压的状态下所述光调制元件的以％计的雾度《未公开》 | 无。 | 对比文件未测量或定义雾度。 |
| T：其中所述第一光调制层和所述第二光调制层各自包含在其中不施加电压的状态下处于垂直取向状态的所述向列型液晶和所述二色性染料《直接公开》 | 实施例2段落[0216]使用垂直取向膜（수직 배향막）；段落[0132]定义垂直取向状态。 | 对比文件实施例2明确使用垂直取向膜，使液晶在0V时垂直取向，直接公开该特征。 |
| U：其中包含在所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者中的所述向列型液晶具有负的介电常数各向异性《直接公开》 | 实施例2段落[0216]液晶HNG730200：Δε=‑5.7（负值）。 | 对比文件直接公开了所用液晶的负介电各向异性。 |
| V：其中所述导电添加剂的电导率在2×10⁻⁴ μS/cm至5×10⁻³ μS/cm的范围内《未公开》 | 无。 | 对比文件未提及导电添加剂电导率。 |
| W：其中包含在所述第一光调制层和所述第二光调制层中的每一者中的所述二色性染料的浓度在0.01重量％至5重量％的范围内《直接公开》 | 实施例2段落[0217]：液晶2g，二色性染料28mg，浓度≈1.4wt%。 | 对比文件实施例2中染料浓度落在0.01‑5wt%范围内，直接公开该浓度特征。 |
| X：其中所述第一光调制层和所述第二光调制层各自具有在4μm至25μm的范围内的厚度《直接公开》 | 实施例2段落[0218]：“第一和第二光调制层的厚度（盒间隙）分别为12μm。” | 对比文件实施例2中光调制层厚度12μm在4‑25μm范围内，直接公开。 |
| Y：其中所述第二基底和所述第三基底通过粘合剂附接《直接公开》 | 段落[0158]：“在另一个实施例中，第一和第二光调制层可以通过粘合剂彼此附接。” | 对比文件明确公开使用粘合剂附接第一和第二光调制层，该附接直接涉及第二基底与第三基底的连接，故直接公开。 |
| Z：其中所述第二基底和所述第三基底通过压敏粘合剂附接《直接公开》 | 同Y，“점착제”通常包括压敏粘合剂。 | 对比文件中“점착제”为粘合剂统称，包含压敏粘合剂，本领域技术人员可直接理解，故直接公开。 |
公开性代码：
直接公开：<<<A>>><<<D>>><<<K>>><<<N>>><<<T>>><<<U>>><<<W>>><<<X>>><<<Y>>><<<Z>>>
隐含公开：<<<b>>><<<c>>><<<e>>><<<f>>><<<g>>><<<h>>>