对比文件名称：2016-12-07_CN205792128U_实用新型_CN205792128U 单相无刷电机及应用其的电器设备
目标专利名称：1546马达CN113273054B
本次调用的模型名称：大语言模型（基于深度学习的生成式模型）
特征比对表格
| 第一栏（技术特征描述及公开性判断结果） | 第二栏（对比文件原文引用） | 第三栏（公开性论述） |
| 特征A：其中《直接公开》 | [0004]段：“所述定子包括定子磁芯和绕设于所述定子磁芯上的绕组，所述定子磁芯包括轭部和从轭部向内延伸的若干定子齿，所述定子齿包括从轭部向内延伸的齿身和设于齿身末端的端部，所述端部包括位于齿身的中心线周向两侧的第一部分和第二部分，所述转子收容在所述定子齿的端部围合的空间内，所述端部设定位结构，所述定位结构的磁阻大于端部其他部位的磁阻…” | 该段使用“包括”“所述”等连接词，其表达的逻辑关系与“其中”完全相同，本领域技术人员可直接确定对比文件公开了该连接特征，故直接公开。 |
| 特征B：关于所述轴的轴线《直接公开》 | [0032]段：“第一极靴25和第二极靴26的内周面位于同一圆柱面上，且该圆柱面与转子30的旋转中心同心。” | 明确提及“转子30的旋转中心”，转子旋转中心即轴的轴线位置，因此直接公开了“关于轴的轴线”这一空间参考特征。 |
| 特征C：第一角度(θ1)与第二角度(θ2)《未公开》 | [0031]段：“所述端部24包括位于齿身23的中心线周向两侧的第一部分25和第二部分26。”及[0035]段：“定位凹槽60的中心线与齿身的中心线重合。” | 对比文件仅公开了第一部分和第二部分的长度不对称（如L2>L1），但未定义任何“第一角度θ1”“第二角度θ2”的概念，且其定位凹槽单设在中心，未形成与角度对应的凹槽偏置，故未公开本特征。 |
| 特征D：不同《未公开》 | 同特征C引用。 | 对比文件第一部分和第二部分的长度不同（见[0014]“第二部分的长度大于第一部分的长度”），但未涉及角度之不同，特征D以特征C为前提，因特征C未公开，故D也未公开。 |
| 特征E：所述第一角度(θ1)《未公开》 | 同特征C引用。 | 对比文件没有建立θ1这一参数及其定义，故未公开。 |
| 特征F：是由将所述齿端表面的中心和所述轴的轴线连接的虚拟线(L)与形成有所述第一凹槽的一侧的所述齿端表面形成的《未公开》 | [0031]段描述端部内表面（齿端表面），[0035]段描述定位凹槽的位置，但无第一凹槽且无虚拟线L与凹槽侧的角度定义。 | 对比文件未设置第一凹槽，也未定义齒端表面中心、虚拟线L以及形成第一凹槽的一侧齿端表面之间的角度关系，故本特征未公开。 |
| 特征G：所述第二角度(θ2)《未公开》 | 同特征C引用。 | 对比文件没有建立θ2及其定义。 |
| 特征H：是由所述虚拟线(L)与形成有所述第二凹槽的另一侧的所述齿端表面形成的《未公开》 | 同特征F。 | 无第二凹槽，无对应角度定义，故未公开。 |
| 特征I：其中《直接公开》 | [0031]段：“所述定子齿22包括从轭部向内延伸的齿身23和设于齿身末端的端部24，所述端部24包括位于齿身23的中心线周向两侧的第一部分25和第二部分26。” | 使用“包括”承担“其中”的引入作用，逻辑陈述与“其中”一致，直接公开。 |
| 特征J：所述第一凹槽和所述第二凹槽《未公开》 | [0035]段：“定位凹槽60，其截面形状优选为弧形，定位凹槽60的中心线与齿身的中心线重合。” | 对比文件仅设置单个定位凹槽（定位结构），并未设置两个凹槽（第一凹槽和第二凹槽），也未公开两个凹槽对称或不对称布置，故未公开。 |
| 特征K：形成在所述轴的轴向方向上《隐含公开》 | [0035]段：“定位凹槽60，其截面形状优选为弧形，定位凹槽60的中心线与齿身的中心线重合。”结合[0032]段第一极靴、第二极靴均沿轴向展开。 | 对比文件虽未明确写出“轴向方向”，但电机定子齿的极靴上设置的凹槽通常沿轴向贯穿整个齿端以形成定位效果，本领域技术人员根据电机常规设计（凹槽沿轴向通槽）及附图所示的贯穿延伸，能合理推断出该特征，故隐含公开。 |
| 特征L：其中《直接公开》 | [0032]段：“转子30收容在第一极靴25、第二极靴26围合的空间内，转子30包括沿转子30周向设置的若干永磁极31。” | 使用“包括”等连接词，与“其中”功能相同，直接公开。 |
| 特征M：关于所述轴的轴线《直接公开》 | [0044]段：“所述极面位于以转子30旋转中心为中心的圆柱面上。” | 明确“转子30旋转中心”，即轴的轴线位置，直接公开。 |
| 特征N：由所述齿端表面的一侧与形成有所述第二凹槽的一侧的所述齿端表面形成的《未公开》 | [0031]段描述齿端表面分为第一部分和第二部分；[0035]段定位凹槽。 | 无第二凹槽，故不存在“形成有第二凹槽的一侧的齿端表面”，更无该表面与齿端表面一侧形成的角度关系，故未公开。 |
| 特征O：第四角度(θ4)《未公开》 | 同特征N。 | 对比文件未定义任何第四角度，无相关数值，故未公开。 |
| 特征P：是所述第二角度(θ2)的两倍《未公开》 | 同特征N。 | 特征P以特征O和θ2为前提，前提未公开，故未公开。 |
| 特征Q：其中《直接公开》 | [0044]段：“每一定子齿22包括齿身23和位于齿身23末端的端部24，端部24包括沿转子周向分布的第一部分25和第二部分26，所述第一部分25与第二部分26之间设定位凹槽60，所述第一部分25与第二部分26关于齿身23的中心线非对称，所述第一部分25和第二部分26朝向转子的面形成极面，优选地，所述极面位于以转子30旋转中心为中心的圆柱面上。” | 使用多个“包括”“所述”进行逻辑连接，与“其中”表达方式一致，直接公开。 |
| 特征R：从将所述齿端表面的中心和所述轴的轴线连接的所述虚拟线(L)到所述第二凹槽的另一侧的第二距离(D2)《未公开》 | [0035]段描述定位凹槽位置和齿身中心线，但无第二凹槽及对应距离。 | 无第二凹槽，无虚拟线L到第二凹槽另一侧的距离定义，故未公开。 |
| 特征S：是所述第二凹槽的深度(D)的1.578倍《未公开》 | 同上。 | 对比文件未公开任何深度与距离的数值倍率关系，更无1.578倍，故未公开。 |
| 特征T：（空白）《不适用》 | 无。 | 本特征无实质技术内容，无需判断公开性。 |
| 特征U：所述第一角度(θ1)与所述第二角度(θ2)之间的差《未公开》 | 同特征C。 | 因θ1和θ2未定义，其差无从谈起，故未公开。 |
| 特征V：在所述第二角度(θ2)的10％以内《未公开》 | 同特征U。 | 前提角度未公开，比例范围未公开，故未公开。 |
| 特征W：其中《直接公开》 | [0035]段：“当定子20的绕组通电前，参考图4，由于第一、二极靴25、26的电感差异性，第二极靴26的磁饱和程度大于第一极靴25的磁饱和程度，因此，在定子20绕组的通电瞬间，转子30朝一个方向转动将平衡第一、二极靴25、26的磁饱和程度的差异，而朝另一个方向转动将加剧第一、二极靴25、26的磁饱和程度的差异，也就是说，转子朝一个方向的启动能力会大于朝另一个方向的启动能力。” | 使用“也就是说”等连接词，作用与“其中”相同，直接公开。 |
| 特征X：所述第一凹槽的深度(D)与在周向方向上的宽度(W)的比《未公开》 | [0035]段：“定位凹槽60的周向宽度基本上等于齿22的周向宽度。” | 仅提及凹槽宽度与齿宽相等，未公开凹槽的深度，无深度与宽度的比值，更未公开第一凹槽的深度宽度比（且无第一凹槽），故未公开。 |
| 特征Y：在0.24至0.29的范围内《未公开》 | 同上。 | 对比文件未给出任何深度‑宽度比的范围，故未公开。 |
代码输出（仅列出直接公开或隐含公开的特征）：
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