对比文件名称：2010-05-13_US2010117465A_发明申请_US20100117465A1 ROTATING ELECTRIC MACHINE
目标专利名称：1546马达CN113273054B
本次调用的模型名称：DeepSeek Chat
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：其中《未公开》 | 对比文件存在“wherein”等连接词，但无实质技术内容。 | 该特征仅为连接词，不构成独立技术方案，对比文件未公开与其对应的技术内容。 |
| 技术特征B：关于所述轴的轴线《直接公开》 | 段落[0044]：“rotatable about a rotational central line O”；段落[0050]：“annularly-shaped stator core centered at rotational central line O”。（可绕旋转中心线O旋转；定子芯以旋转中心线O为中心） | 对比文件明确公开了旋转电机的旋转中心线（即轴的轴线），该轴线是轴的中心基准，与目标技术特征实质相同，且作用均为定义角度和位置的参考线。 |
| 技术特征C：第一角度(θ1)与第二角度(θ2)《未公开》 | 段落[0131]：“cross angle θ2 … cross angle θ1”。（交叉角θ2和θ1） | 对比文件虽使用符号θ1、θ2，但定义的是倒角与内端面之间的夹角；目标专利的第一、第二角度是由虚拟线L与形成凹槽侧的齿端表面形成的角度。两者定义不同、形成要素不同，本领域技术人员不能毫无疑义地认定对比文件公开了相同的角度。 |
| 技术特征D：不同《未公开》 | 段落[0132]：“cross angle θ2 is made larger than cross angle θ1”。（交叉角θ2大于交叉角θ1） | 对比文件公开了θ2与θ1不同，但该不同建立在与目标专利完全不同的角度定义基础上。单独“不同”的概念与目标专利中基于特定角度定义的不同不构成等同公开。 |
| 技术特征E：所述第一角度(θ1)《未公开》 | 段落[0131]：“cross angle θ1”。 | 对比文件中的θ1定义与目标专利不同，且未涉及虚拟线L、凹槽等必要要素，无法直接对应。 |
| 技术特征F：是由将所述齿端表面的中心和所述轴的轴线连接的虚拟线(L)与形成有所述第一凹槽的一侧的所述齿端表面形成的《未公开》 | 无相关公开内容。 | 对比文件没有公开虚拟线L（连接齿端中心与轴轴线）、第一凹槽以及形成凹槽侧的齿端表面，也未公开此类角度形成方式。 |
| 技术特征G：所述第二角度(θ2)《未公开》 | 段落[0131]：“cross angle θ2”。 | 同特征E，定义不同，未公开。 |
| 技术特征H：是由所述虚拟线(L)与形成有所述第二凹槽的另一侧的所述齿端表面形成的《未公开》 | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开虚拟线L、第二凹槽及其形成侧的齿端表面。 |
| 技术特征I：其中《未公开》 | （无实质技术内容） | 同特征A。 |
| 技术特征J：所述第一凹槽和所述第二凹槽《未公开》 | 对比文件全文仅涉及倒角（chamfer），未出现“凹槽”（groove）结构。背景技术段落[0008]引用JP2006-149167提及“辅助槽”，但并非本对比文件的技术内容。 | 对比文件的技术方案采用倒角改变磁路，而非在齿端表面开设凹槽。两者结构不同，本领域技术人员无法从对比文件直接或合理推断出存在第一凹槽和第二凹槽。 |
| 技术特征K：形成在所述轴的轴向方向上《未公开》 | 对比文件倒角沿轴向延伸（参见图8），但未公开凹槽及其轴向形成。 | 对比文件没有公开凹槽本身，因此未公开凹槽在轴向形成这一特征。倒角与凹槽结构不同，不能等同。 |
| 技术特征L：其中《未公开》 | （无实质技术内容） | 同特征A。 |
| 技术特征M：关于所述轴的轴线《直接公开》 | 同特征B引用内容。 | 同特征B，对比文件直接公开了以轴的轴线为基准的相关描述。 |
| 技术特征N：由所述齿端表面的一侧与形成有所述第二凹槽的一侧的所述齿端表面形成的《未公开》 | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开齿端表面的一侧与第二凹槽一侧的关系，也未定义此类形成第四角度的结构。 |
| 技术特征O：第四角度(θ4)《未公开》 | 无相关公开内容。 | 对比文件未出现第四角度θ4的定义或描述。 |
| 技术特征P：是所述第二角度(θ2)的两倍《未公开》 | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开θ4与θ2的任何倍数关系。 |
| 技术特征Q：其中《未公开》 | （无实质技术内容） | 同特征A。 |
| 技术特征R：从将所述齿端表面的中心和所述轴的轴线连接的所述虚拟线(L)到所述第二凹槽的另一侧的第二距离(D2)《未公开》 | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开虚拟线L、第二凹槽、第二距离等概念。 |
| 技术特征S：是所述第二凹槽的深度(D)的1.578倍《未公开》 | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开凹槽深度与距离的数值关系。 |
| 技术特征T：（空白）《未公开》 | 无内容。 | 该特征无技术内容，对比文件无法公开。 |
| 技术特征U：所述第一角度(θ1)与所述第二角度(θ2)之间的差《未公开》 | 段落[0132]涉及θ2>θ1的差值，但角度定义不同。 | 对比文件中差值的概念基于不同的角度定义，不能直接等同于目标专利的差值。 |
| 技术特征V：在所述第二角度(θ2)的10％以内《未公开》 | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开任何百分比范围限制。 |
| 技术特征W：其中《未公开》 | （无实质技术内容） | 同特征A。 |
| 技术特征X：所述第一凹槽的深度(D)与在周向方向上的宽度(W)的比《未公开》 | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开凹槽，也未公开深度与宽度比。 |
| 技术特征Y：在0.24至0.29的范围内《未公开》 | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开该数值范围。 |
根据上述分析，对比文件仅直接公开了技术特征B和技术特征M（“关于所述轴的轴线”），其余技术特征均未被直接或隐含公开。
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