**对比文件的名称：** 2013-12-12_US2013329297A_发明申请_US20130329297A1 ANTIREFLECTION FILM, METHOD FOR PRODUCING ANTIREFLECTION FILM, POLARIZER AND IMAGE DISPLAY DEVICE
**目标专利的名称：** 1559光学层合体CN113613883B
**本次调用的模型名称：** 无特定指定（通用模型）
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译成中文） | 公开性论述 |
| **技术特征A：包括：光学功能层**<br>《直接公开》 | [0145]“本发明的防反射膜可以通过将本发明的防反射膜置于偏光元件的表面上而形成偏光片……”；[0146]“偏光元件没有特别限制，其实例包括聚乙烯醇膜、聚乙烯醇缩甲醛膜、聚乙烯醇缩乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化膜，这些膜用碘等染色后拉伸。” | 对比文件公开了偏光片包括偏光元件，该偏光元件即为光学功能层。因此，技术特征A被直接公开。 |
| **技术特征B：所述光学功能层为偏振层**<br>《直接公开》 | 同上。[0146]“偏光元件……用碘等染色后拉伸。” | 对比文件明确公开了偏光元件的具体形式，该元件即为偏振层，因此技术特征B被直接公开。 |
| **技术特征C：和形成在所述光学功能层的至少一侧上的抗变红层**<br>《直接公开》 | [0145]“……将防反射膜置于偏光元件的表面上，使得防反射膜的没有低折射率层的一侧面向偏光元件。”[0035]“低折射率层包含(甲基)丙烯酸树脂、中空二氧化硅颗粒……” | 对比文件公开了在偏光元件的一侧形成有低折射率层，该低折射率层包含中空颗粒，相当于目标专利中的含空隙层，可作为抗变红层的具体形式。因此，形成在光学功能层至少一侧上的抗变红层被直接公开。 |
| **技术特征D：其中对于波长为380nm至780nm的光的平均表面反射率为2％或更大**<br>（未公开） | [0193]使用MPC3100测量380-780nm的5°镜面反射率，转换为Y值（亮度反射率）；评价标准：Excellent＜1.0%，Good 1.0-1.5%，Poor＞1.5%。实施例中Y值均为Good或Excellent。 | 对比文件的目的是降低反射率，其反射率Y值远低于1.5%，没有达到2%或更大的教导或暗示。因此，技术特征D未公开。 |
| **技术特征E：其中所述抗变红层不包含实心颗粒**<br>（未公开） | [0051]“反应性二氧化硅颗粒是在表面上含有反应性官能团的二氧化硅颗粒。”；[0057]“反应性二氧化硅颗粒的平均粒径优选为1至25nm。”实施例中低折射率层包含反应性二氧化硅颗粒（实心颗粒）。 | 对比文件的低折射率层明确包含实心反应性二氧化硅颗粒，与技术特征E“不包含实心颗粒”相反。因此，技术特征E未公开。 |
| **技术特征F：其中所述抗变红层包含粘结剂和中空颗粒**<br>《直接公开》 | [0035]“低折射率层包含(甲基)丙烯酸树脂、中空二氧化硅颗粒……”；实施例1中具体使用了PETA（粘结剂）和中空二氧化硅颗粒（THRULYA 4320）。 | 对比文件直接公开了低折射率层含有(甲基)丙烯酸树脂（粘结剂）和中空二氧化硅颗粒，因此技术特征F被直接公开。 |
| **技术特征G：其中所述中空颗粒在颗粒尺寸分布的重量累积曲线中具有在25nm至50nm范围内的D10颗粒直径、在50nm至95nm范围内的D50颗粒直径以及在100nm至200nm范围内的D90颗粒直径**<br>（未公开） | [0045]“中空二氧化硅颗粒的平均粒径为40至80nm。”[0046]“平均粒径的下限优选45nm，上限优选70nm。”实施例中仅给出了平均粒径60nm，未提供D10、D50、D90数据。 | 对比文件只公开了平均粒径的范围，完全没有提及颗粒尺寸分布（D10、D50、D90）的具体数值。因此，技术特征G未公开。 |
| **技术特征H：其中所述抗变红层包括按照通过原子力显微镜测量的表面积比为0.02或更大的表面**<br>（未公开） | 全文未提及原子力显微镜（AFM）或表面积比。 | 对比文件没有任何关于通过AFM测量表面积比的内容。因此，技术特征H未公开。 |
| **技术特征I：其中所述偏振层为基于碘的偏振层**<br>《直接公开》 | [0146]“……这些膜用碘等染色后拉伸。” | 对比文件明确公开了用碘染色的偏振层，即基于碘的偏振层。因此，技术特征I被直接公开。 |
| **技术特征J：其中所述抗变红层对于波长为800nm至1300nm的光的反射率为2％或更大**<br>（未公开） | [0193]仅测量了380-780nm的反射率；全文未涉及800-1300nm近红外反射率。 | 对比文件未公开抗变红层在近红外波段的反射率，更没有达到2%以上的任何教导。因此，技术特征J未公开。 |
| **技术特征K：其中所述抗变红层为含空隙层或者包括所述含空隙层的层**<br>《直接公开》 | [0043]“中空二氧化硅颗粒是内部含有气体和/或具有含气体多孔结构的二氧化硅颗粒。”[0035]低折射率层包含中空二氧化硅颗粒，从而构成含空隙的层。 | 对比文件的低折射率层通过中空颗粒形成了含空隙的结构，直接相当于含空隙层。因此，技术特征K被直接公开。 |
| **技术特征L：其中所述抗变红层在小角X射线散射的散射强度的对数值图中在0.06nm-1至0.209nm-1的散射矢量范围内表现出至少一个峰**<br>（未公开） | 全文未提及小角X射线散射（SAXS）或散射矢量峰位。 | 对比文件没有进行SAXS分析，也未公开任何相关散射特征。因此，技术特征L未公开。 |
| **技术特征M：其中所述抗变红层的满足以下等式6的A值为1.5或更小**<br>（未公开） | 全文未提及柯西模型或等式6，无任何关于A、B、C参数的描述。 | 对比文件完全没有公开基于等式6的折射率拟合参数。因此，技术特征M未公开。 |
| **技术特征N：所述抗变红层的满足以下等式6的B值为0至0.01**<br>（未公开） | 同上，无相关记载。 | 对比文件未公开B值的范围。因此，技术特征N未公开。 |
| **技术特征O：所述抗变红层的满足以下等式6的C值为0至0.001**<br>（未公开） | 同上，无相关记载。 | 对比文件未公开C值的范围。因此，技术特征O未公开。 |
| **技术特征P：其中所述粘结剂包含衍生自具有2至10个可聚合官能团的多官能丙烯酸酯的聚合物**<br>《直接公开》 | [0037]“(甲基)丙烯酸单体的优选实例包括季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸EO改性三(甲基)丙烯酸酯。”实施例1中使用PETA（三官能）。 | 对比文件列举的(甲基)丙烯酸酯单体均具有3至6个可聚合官能团，属于2至10的范围，其聚合后形成粘结剂。因此，技术特征P被直接公开。 |
| **技术特征Q：其中所述抗变红层的厚度为200nm或更大**<br>（未公开） | [0080]“低折射率层的膜厚dA优选满足式(I)：dA=mλ/(4nA)”；实施例中厚度被调节为使最小反射率在550nm附近，根据nA≈1.4，m=1，厚度≈98nm。 | 对比文件低折射率层的典型厚度远小于200nm，没有公开厚度≥200nm的技术方案。因此，技术特征Q未公开。 |
| **技术特征R：其中所述抗变红层不形成所述光学层合体的最外层的表面**<br>（未公开） | [0145]“……将防反射膜置于偏光元件的表面上，使得没有低折射率层的一侧面向偏光元件。”这表明低折射率层位于最外层；防反射膜本身低折射率层也是最外层。 | 对比文件中低折射率层是光学层合体（偏光片）的最外表面，与技术特征R的要求相反。因此，技术特征R未公开。 |
| **技术特征S：其中所述抗变红层与所述光学功能层之间的距离在90μm以内**<br>（未公开） | 全文未提及该距离；实施例中基材（TAC）厚度80μm，硬涂层厚度未明确但通常数微米，未给出二者之间距离的具体数值。 | 对比文件没有公开抗变红层与偏振层之间的距离，更没有限定在90μm以内。由于未记载该距离的任何信息，无法合理推断出必定满足该条件。因此，技术特征S未公开。 |
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