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2005-11-24_JP2005535934A_发明专利_JP2005535934A The anti-reflection film, polarizing plate, and image display device_+++A_B_F_I_K_P_c_s+++.docx
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2006-05-18_JP2006126799A_发明专利_JP2006126799A Manufacturing method of antireflection film, antireflection film, polarizing plate using same, and image display device using them_+++A_B_I+++.docx
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2006-05-19_KR1020060051782A_发明公开_KR1020060051782A 반사 방지 필름의 제조 방법, 반사 방지 필름, 그것을사용한 편광판 및 그것들을 사용한 화상 표시 장치_+++A_B_F_I_K_P_Q_c_e+++.docx
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2007-10-25_US2007247567A_发明申请_US20070247567A1 Optical Element, Liquid Crystal Panel, and Liquid Crystal Display_+++A_B_C_P_Q_i_r_s+++.docx
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2008-03-27_JP2008070571A_发明专利_JP2008070571A High durable polarizing plate_+++A_B_C_E_I_P_Q_R+++.docx
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2012-07-16_TW201229154A_发明专利_TW201229154A 抗反射膜、抗反射膜之製造方法、偏光板及影像顯示裝置_+++A_B_C_F_I_K_P+++.docx
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2012-07-19_JP2012516468A_发明专利_JP2012516468A Polarizing element excellent in durability and heat resistance, a polarizing plate, a manufacturing method of an image display device and the polarization e_+++A_B_I+++.docx
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2012-07-19_WO2012096400A_发明申请_WO2012096400A1 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置_+++A_B_C_F_I_K_P+++.docx
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2012-07-26_JP2012517025A_发明专利_JP2012517025A Polarizing element excellent in durability and heat resistance, a polarizing plate, an image display device_+++A_B_I+++.docx
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2013-03-20_KR101245436B_发明授权_KR101245436B1 반사 방지 필름의 제조 방법, 반사 방지 필름, 그것을사용한 편광판 및 그것들을 사용한 화상 표시 장치_+++A_B_I+++.docx
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2013-09-11_CN103299217A_发明公开_CN103299217A 防反射膜、防反射膜的制造方法、偏振片和图像显示装置_+++A_B_F_I_K_P+++.docx
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2013-12-12_US2013329297A_发明申请_US20130329297A1 ANTIREFLECTION FILM, METHOD FOR PRODUCING ANTIREFLECTION FILM, POLARIZER AND IMAGE DISPLAY DEVICE_+++A_B_C_F_I_K_P+++.docx
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2014-01-16_KR1020140006876A_发明公开_KR1020140006876A 반사 방지 필름, 반사 방지 필름의 제조 방법, 편광판 및 화상 표시 장치_+++A_B_I+++.docx
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2015-06-02_US9046645B_发明授权_US09046645B2 Antireflection film, method for producing antireflection film, polarizer and image display device_+++A_B_I+++.docx
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2016-01-20_CN103299217B_发明授权_CN103299217B 防反射膜、防反射膜的制造方法、偏振片和图像显示装置_+++A_B_C_F_I_K_P+++.docx
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2017-01-05_JP2017003906A_发明专利_JP2017003906A 両面粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置_+++A_B_I+++.docx
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2017-02-01_JP6070195B_发明专利_JP6070195B2 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置_+++A_B_F_I_K_P+++.docx
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2017-06-08_JP2017102289A_发明专利_JP2017102289A 液晶表示装置_+++A_B_F_I_K_p_q+++.docx
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2018-12-20_JP2018200463A_发明专利_JP2018200463A 光学部材用組成物、光学部材及び画像表示装置_+++A_B_I+++.docx
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2019-01-01_TW201900622A_发明专利_TW201900622A_+++A_B_I+++.docx
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2019-02-14_JP2019504361A_发明专利_JP2019504361A 偏光板_+++A_B_I+++.docx
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2019-02-21_JP2019028196A_发明专利_JP2019028196A 偏光板および画像表示装置_+++A_B_C_F_I_K_P_Q_e_r_s+++.docx
2026-07-03 01:04
WO2018207701A1_Description_20260619_1135_+++A_B_I+++.docx
2026-07-03 01:04
2019-02-21_JP2019028196A_发明专利_JP2019028196A 偏光板および画像表示装置_+++A_B_C_F_I_K_P_Q_e_r_s+++.docx

对比文件名称:2019-02-21_JP2019028196A_发明专利_JP2019028196A 偏光板および画像表示装置

目标专利名称:1559光学层合体CN113613883B

本次调用的模型名称:DeepSeek-Chat

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(翻译)公开性论述
**技术特征A:包括:光学功能层 《直接公开》**[0011] “偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂にヨウ素を吸着配向させてなる偏光素子層、偏光素子の両面に積層された透明保護フィルム層、及び断熱層を有することを特徴とする偏光板。” 翻译:“偏光板的特征在于,具有:使碘吸附取向于聚乙烯醇系树脂而成的偏振元件层、层叠于偏振元件两面的透明保护薄膜层、以及断热层。”对比文件明确公开了偏光板包括偏振元件层(即光学功能层),该层实现偏振功能,属于光学功能层的一种。目标专利中光学功能层是包含偏振层在内的功能层,两者对应,因此该特征被直接公开。
**技术特征B:所述光学功能层为偏振层 《直接公开》**[0019] “本発明のポリビニルアルコール系樹脂層にヨウ素を吸着配向させてなる偏光素子は、周知の偏光素子を用いることができる。” 翻译:“本发明的使碘吸附取向于聚乙烯醇系树脂层而成的偏振元件可以使用公知的偏振元件。”对比文件明确指出偏振元件(偏光素子)即偏振层,且由碘吸附取向形成,属于基于碘的偏振层。因此,光学功能层为偏振层这一特征被直接公开。
**技术特征C:和形成在所述光学功能层的至少一侧上的抗变红层 《直接公开》**[0013] “前記断熱層が前記透明保護フィルム(PF)層の少なくともいずれかの面に直接または他の層を介して形成されていることを特徴とする(1)に記載の偏光板。” 翻译:“所述断热层直接或通过其他层形成于所述透明保护薄膜层的至少任一面上。” 此外,[0052]给出了多种层构成,举例了断热层位于偏振元件一侧的配置。对比文件中的断热层对应于本申请的“抗变红层”,其功能都是隔热以防止元件劣化(目标专利中防止变红,对比文件中提高耐冷热冲击和湿热带)。该断热层可以形成于透明保护薄膜层上,而透明保护薄膜层层叠于偏振元件,因此断热层相当于形成于光学功能层(偏振元件)的至少一侧。该特征被直接公开。
**技术特征D:其中对于波长为380nm至780nm的光的平均表面反射率为2%或更大 《未公开》**无相关内容。对比文件未记载任何关于表面反射率的具体数值,也未提及该参数与断热层的关联。因此本特征未被公开。
**技术特征E:其中所述抗变红层不包含实心颗粒 《隐含公开》**[0014] “前記断熱層が、中空シリカ微粒子とバインダー樹脂を含み、前記中空シリカ微粒子を10質量%以上70質量%以下の範囲で含み、前記バインダー樹脂を30質量%以上90質量%の範囲で含むことを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の偏光板。” 翻译:“所述断热层包含中空二氧化硅微粒和粘结剂树脂,以10质量%以上70质量%以下的范围包含所述中空二氧化硅微粒,以30质量%以上90质量%的范围包含所述粘结剂树脂。”对比文件仅使用了中空颗粒(中空シリカ微粒子)作为空隙来源,从未提及、暗示或需要使用实心颗粒。本领域技术人员在技术上可以合理推断出断热层中不包含实心颗粒,因为未记载任何实心颗粒成分,且仅用中空颗粒即可实现隔热功能。因此该特征被隐含公开。
**技术特征F:其中所述抗变红层包含粘结剂和中空颗粒 《直接公开》**同上[0014]:断热层包含中空二氧化硅微粒和粘结剂树脂。对比文件明确记载断热层由中空二氧化硅微粒和粘结剂树脂构成,完全对应本特征。因此直接公开。
**技术特征G:其中所述中空颗粒在颗粒尺寸分布的重量累积曲线中具有在25nm至50nm范围内的D10颗粒直径、在50nm至95nm范围内的D50颗粒直径以及在100nm至200nm范围内的D90颗粒直径 《未公开》**[0030] “本発明の中空シリカ微粒子の平均粒径は10〜200nmであることが好ましく、20〜150nmであることがより好ましく、30〜120nmであることが更に好ましい。” 翻译:“本发明的中空二氧化硅微粒的平均粒径优选为10~200nm,更优选为20~150nm,进一步优选为30~120nm。”对比文件仅限定了平均粒径范围,未公开D10、D50、D90的具体数值分布,也未提及重量累积曲线。本领域技术人员无法从中直接且毫无疑义地确定所述特定粒径分布,因此本特征未被公开。
**技术特征H:其中所述抗变红层包括按照通过原子力显微镜测量的表面积比为0.02或更大的表面 《未公开》**无相关内容。对比文件未记载任何关于原子力显微镜(AFM)测量表面积比的内容。因此本特征未被公开。
**技术特征I:其中所述偏振层为基于碘的偏振层 《直接公开》**[0019] “ポリビニルアルコール系樹脂層にヨウ素を吸着配向させてなる偏光素子” 翻译:“使碘吸附取向于聚乙烯醇系树脂层而成的偏振元件。”对比文件明确偏振元件的形成方式为碘吸附取向,属于基于碘的偏振层。因此直接公开。
**技术特征J:其中所述抗变红层对于波长为800nm至1300nm的光的反射率为2%或更大 《未公开》**无相关内容。对比文件未记载任何关于红外反射率的数据或要求。因此本特征未被公开。
**技术特征K:其中所述抗变红层为含空隙层或者包括所述含空隙层的层 《直接公开》**[0030] “中空シリカ微粒子は、シリカ系無機酸化物からなる外殻(シェル部)の内部に空洞を有する微粒子であり、また「空洞」とは、粒子内部に形成された球形や異形の空隙部に空気などのガス状物質が含まれている状態をいう。” 翻译:“中空二氧化硅微粒是具有由硅系无机氧化物构成的外壳内部有空腔的微粒,所谓‘空腔’是指粒子内部形成的球形或异形的空隙部含有空气等气体状物质的状态。”对比文件的断热层由中空微粒构成,每个微粒内部具有空腔(空隙),因此断热层整体是包含大量空隙的层,即含空隙层。该特征被直接公开。
**技术特征L:其中所述抗变红层在小角X射线散射的散射强度的对数值图中在0.06nm⁻¹至0.209nm⁻¹的散射矢量范围内表现出至少一个峰 《未公开》**无相关内容。对比文件未记载任何关于小角X射线散射(SAXS)测试及其结果的数据。因此本特征未被公开。
**技术特征M:其中所述抗变红层的满足以下等式6的A值为1.5或更小 《未公开》**无相关内容。对比文件未记载柯西模型参数A、B、C相关内容。因此本特征未被公开。
**技术特征N:所述抗变红层的满足以下等式6的B值为0至0.01 《未公开》**同上同上。
**技术特征O:所述抗变红层的满足以下等式6的C值为0至0.001 《未公开》**同上同上。
**技术特征P:其中所述粘结剂包含衍生自具有2至10个可聚合官能团的多官能丙烯酸酯的聚合单元 《直接公开》**[0041] “エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては多官能(メタ)アクリレートを好ましく用いることができる。” 翻译:“作为具有烯属不饱和双键的化合物,可以优选使用多官能(甲基)丙烯酸酯。” [0072] 实施例中使用“A-TMMT(ペンタエリスリトールテトラアクリレート,即四官能丙烯酸酯)”等。对比文件明确使用多官能(甲基)丙烯酸酯作为粘结剂成分,固化后形成具有聚合单元的层。A-TMMT等具有4个可聚合基团,符合2-10个的范围。因此该特征被直接公开。
**技术特征Q:其中所述抗变红层的厚度为200nm或更大 《直接公开》**[0050] “本発明の断熱層の膜厚は、0.1〜30μmであることが好ましい。” 翻译:“本发明的断热层的膜厚优选为0.1~30μm。” 0.1μm=100nm,范围上限30μm。对比文件公开的厚度范围0.1~30μm包含了200nm(0.2μm)以上的所有厚度。本领域技术人员可以直接从该范围得出厚度可以为200nm或更大,因此该特征被直接公开。
**技术特征R:其中所述抗变红层不形成所述光学层合体的最外层的表面 《隐含公开》**[0052~0054] 列举了多种层构成,例如“(基材層/断熱層)/偏光素子/基材層”等,其中断热层位于基材层内侧而非最外层。对比文件虽未明确限定断热层不能为最外层,但给出的示例中包含了断热层位于内层(非最外层)的构成(如断热层被其他层覆盖)。本领域技术人员在实施时可选择这些构成使断热层不形成最外层,因此该特征被隐含公开。
**技术特征S:其中所述抗变红层与所述光学功能层之间的距离在90μm以内 《隐含公开》**[0021] “本発明の偏光素子の厚みは3〜35μmが好ましい” 翻译:“本发明的偏振元件的厚度优选为3~35μm。” [0026] “透明保護フィルム層の膜厚は5〜100μm” 翻译:“透明保护薄膜层的膜厚为5~100μm。” 实施例中保护薄膜层厚度为40μm,偏振元件厚度15μm。对比文件指出保护薄膜层(包含断热层)与偏振元件之间仅通过薄薄的粘合层(<1μm)连接。当选择适当的保护薄膜层厚度(如小于90μm)时,断热层与偏振元件之间的距离可以轻易控制在90μm以内。对比文件的实施例厚度组合(保护薄膜40μm、偏振元件15μm、粘合层忽略)使得距离仅为数十微米。因此本领域技术人员可以合理推断出该距离能在90μm以内,该特征被隐含公开。

**公开性代码输出:**

直接公开:A、B、C、F、I、K、P、Q

隐含公开:E、R、S

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