以下是特征比对表格，针对对比文件 **2017-11-27_KR1020170129669A_发明公开_KR1020170129669A 반사 방지 필름** 和目标专利 **1559光学层合体CN113613883B**，本次调用模型名称：**DeepSeek-V3**。
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：光学功能层（不公开） | 对比文件公开一种抗反射膜，主要结构为硬涂层和低折射层，未提及光学功能层（如偏振层、延迟层等）（参见段落[0001]-[0002]）。 | 对比文件的技术领域和具体结构均不涉及光学功能层，本领域技术人员无法从其内容直接或间接得出该特征。故不公开。 |
| 技术特征B：所述光学功能层为偏振层（不公开） | 对比文件无任何关于偏振层的内容。 | 对比文件未公开偏振层，故不公开。 |
| 技术特征C：和形成在所述光学功能层的至少一侧上的抗变红层（不公开） | 对比文件在硬涂层上形成低折射层，硬涂层不属于光学功能层，低折射层也不具备抗变红功能（段落[0001]-[0003]）。 | 对比文件既未公开“抗变红层”，也未公开其形成在光学功能层上。故不公开。 |
| 技术特征D：其中对于波长为380nm至780nm的光的平均表面反射率为2％或更大（不公开） | 对比文件实施例中平均反射率为0.62%-0.67%（参见实验数据表格），远低于2%。 | 对比文件教导了低反射率，与特征D要求的≥2%相反，因此不公开。 |
| 技术特征E：其中所述抗变红层不包含实心颗粒（不公开） | 对比文件低折射层明确包含实心无机纳米颗粒（솔리드형 무기 나노 입자），如[0009]：“포함하는 저굴절층”及实施例中均使用实心颗粒。 | 对比文件必须包含实心颗粒，与特征E要求的不包含相悖，故不公开。 |
| 技术特征F：其中所述抗变红层包含粘结剂和中空颗粒（隐含公开） | [0009]记载：“바인더 수지와 상기 바인더 수지에 분산된 중공형 무기 나노 입자 및 솔리드형 무기 나노 입자를 포함하는 저굴절층”（包含粘结剂和分散于其中的中空无机纳米颗粒的低折射层）。 | 对比文件公开了低折射层包含粘结剂和中空颗粒这一组成。虽该层在对比文件中用作抗反射，但本领域技术人员可合理推断其结构与目标专利的抗变红层（含空隙层）相似，因此特征F被隐含公开。 |
| 技术特征G：其中所述中空颗粒在颗粒尺寸分布的重量累积曲线中具有在25nm至50nm范围内的D10颗粒直径、在50nm至95nm范围内的D50颗粒直径以及在100nm至200nm范围内的D90颗粒直径（不公开） | 对比文件仅笼统公开中空颗粒直径约50-60nm（实施例）或1-200nm范围（[0093]），未公开重量累积曲线下的D10、D50、D90具体数值。 | 特征G的特定分布值未被对比文件涉及，故不公开。 |
| 技术特征H：其中所述抗变红层包括按照通过原子力显微镜测量的表面积比为0.02或更大的表面（不公开） | 对比文件未进行AFM表面积比测量，无相关数据。 | 该表征参数未被对比文件公开，故不公开。 |
| 技术特征I：其中所述偏振层为基于碘的偏振层（不公开） | 对比文件无偏振层相关内容。 | 不公开。 |
| 技术特征J：其中所述抗变红层对于波长为800nm至1300nm的光的反射率为2％或更大（不公开） | 对比文件未测量或公开红外反射率。 | 不公开。 |
| 技术特征K：其中所述抗变红层为含空隙层或者包括所述含空隙层的层（隐含公开） | [0090]-[0093]定义了中空无机纳米粒子（중공형 무기 나노 입자），内部或表面具有空的空间，从而低折射层含有空隙。 | 对比文件的低折射层因包含中空颗粒而成为含空隙层。本领域技术人员可合理推断该含空隙层可作为抗变红层的结构形式，故特征K被隐含公开。 |
| 技术特征L：其中所述抗变红层在小角X射线散射的散射强度的对数值图中在0.06nm-1至0.209nm-1的散射矢量范围内表现出至少一个峰（不公开） | 对比文件未进行小角X射线散射分析。 | 不公开。 |
| 技术特征M：其中所述抗变红层的满足以下等式6的A值为1.5或更小（隐含公开） | [0037]公开低折射层第二层（제2층）的柯西参数A为1.0-1.50，B为0-0.007，C为0-1×10⁻³。 | 对比文件第二层（主要含中空颗粒）的A值完全落入特征M范围。虽该参数针对特定子层，但本领域技术人员可合理推断类似含空隙层可满足该值，故特征M被隐含公开。 |
| 技术特征N：所述抗变红层的满足以下等式6的B值为0至0.01（隐含公开） | 同上[0037]，B为0-0.007，位于0-0.01内。 | 推理同M，特征N被隐含公开。 |
| 技术特征O：所述抗变红层的满足以下等式6的C值为0至0.001（隐含公开） | 同上[0037]，C为0-1×10⁻³，即0-0.001。 | 推理同M，特征O被隐含公开。 |
| 技术特征P：其中所述粘结剂包含衍生自具有2至10个可聚合官能团的多官能丙烯酸酯的聚合物（隐含公开） | [0103]列举多官能丙烯酸酯如PETA（三官能）、TMPTA（三官能）等，并在实施例中使用PETA或TMPTA作为粘结剂原料。 | 对比文件低折射层使用的粘结剂源自多官能丙烯酸酯，官能团数2-10。本领域技术人员可合理推断该粘结剂同样适用于抗变红层，故特征P被隐含公开。 |
| 技术特征Q：其中所述抗变红层的厚度为200nm或更大（隐含公开） | [0135]公开低折射层厚度为1-300nm，涵盖200nm以上范围。 | 对比文件公开的厚度范围包含≥200nm，虽然实施例厚度约120nm，但该范围的存在使本领域技术人员可合理推断可使用≥200nm的厚度，故特征Q被隐含公开。 |
| 技术特征R：其中所述抗变红层不形成所述光学层合体的最外层的表面（不公开） | 对比文件低折射层为抗反射膜的最外层（位于硬涂层之上，暴露于空气）。 | 对比文件低折射层形成最外层，与特征R要求相反，故不公开。 |
| 技术特征S：其中所述抗变红层与所述光学功能层之间的距离在90μm以内（不公开） | 对比文件无光学功能层，也无距离概念。 | 不公开。 |
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