2008-10-23_JP2008255345A_发明专利_JP2008255345A Pressure-sensitive adhesive tape for fixing semiconductor_+++A_F_H_d_g+++.docx

### 对比文件名称

2008-10-23_JP2008255345A_发明专利_JP2008255345A Pressure-sensitive adhesive tape for fixing semiconductor

### 目标专利名称

1607光学膜、光学膜制造方法和有机发光电子器件制造方法 CN111247657B

### 本次调用的模型名称

深度思考助手(GPT-4架构)

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### 特征比对表格

第一栏(技术特征描述与公开性判断)第二栏(对比文件原文引用,翻译成中文)第三栏(公开性论述)
技术特征A:包括基础层,所述基础层包括基础膜以及各自设置在所述基础膜的两个表面上的第一抗静电层和第二抗静电层 **《直接公开》**对比文件[2]段公开:<br>“(2)至少由基材薄膜和粘合剂层构成的粘附胶带,其特征在于,基材薄膜的两面均形成有含聚噻吩类聚合物的导电树脂组合物层,并且在其中一个树脂组合物层上形成有粘合剂层。”<br>实施例3:“除了将实施例1的导电树脂组合物层形成在薄膜的两面外,与实施例1同样地得到半导体固定用粘附胶带。”对比文件明确记载了基础膜(基材薄膜)的两面均形成有导电树脂组合物层(即抗静电层),这与目标专利中基础膜两个表面分别设置第一抗静电层和第二抗静电层的结构完全相同,且作用都是提供抗静电功能。因此该技术特征被对比文件直接公开。
技术特征B:保护层,所述保护层包括保护膜、各自设置在所述保护膜的两个表面上的第三抗静电层和第四抗静电层、以及设置在所述第三抗静电层的与面对所述保护膜的表面相反的表面上的离型层 **《未公开》**对比文件全文未描述任何类似保护层的结构。对比文件仅涉及基材薄膜/导电树脂层/粘合剂层的基本结构,虽然可能使用离型膜覆盖粘合剂层,但从未公开在保护膜两面设置抗静电层以及特定离型层布置的技术方案。本领域技术人员无法从对比文件中直接或合理推导出该特征。
技术特征C:其中所述基础层和所述保护层通过粘合剂层粘结,使得所述第二抗静电层和所述离型层彼此面对 **《未公开》**对比文件未公开保护层,故无对应的粘结关系和面对关系。由于对比文件缺少保护层,自然没有基础层与保护层通过粘合剂层粘结并使第二抗静电层与离型层面对的结构。因此该特征未被公开。
技术特征D:所述粘合剂层的与所述离型层接触的表面的表面电阻大于或等于10⁹ Ω/sq且小于或等于5×10¹² Ω/sq **《隐含公开》**对比文件[2]段记载:<br>“当上述紫外固化型粘合剂经由导电树脂组合物层涂布在基材薄膜上时,粘合剂在紫外固化后的表面电阻率优选为1×10¹³ Ω/sq以下,更优选1×10¹² Ω/sq以下,特别优选1×10¹¹ Ω/sq以下。”对比文件虽然未明确提到“与离型层接触的表面”,但在实际使用中粘合剂层的暴露表面必然接触离型膜,该表面的表面电阻即为对比文件所测量的对象。对比文件优选的表面电阻值(如特别优选的1×10¹¹ Ω/sq)完全落入目标专利的10⁹~5×10¹² Ω/sq范围内。本领域技术人员根据对比文件的内容可以合理推断出粘合剂层表面电阻能够被调整至该要求范围内,从而实现相应的抗静电效果。因此该技术特征被对比文件隐含公开。
技术特征E:所述粘合剂层在100kHz下的相对介电常数为3.5或更大;并且其中所述粘合剂层对于玻璃的润湿时间为1秒至6秒 **《未公开》**对比文件全文未提及粘合剂层的相对介电常数或对玻璃的润湿时间。对比文件主要关注通过导电树脂层赋予抗静电性,未涉及粘合剂层介电常数或润湿性的任何参数或教导,因此该特征未被公开。
技术特征F:其中所述粘合剂层的厚度大于或等于10μm且小于或等于200μm **《直接公开》**对比文件[2]段记载:<br>“形成的粘合剂层的厚度为1μm~60μm,优选为3μm~30μm,更优选为5μm~10μm。”<br>实施例1:粘合剂层厚度10μm;实施例4:30μm;实施例5:60μm。对比文件公开的粘合剂层厚度具体值(10μm、30μm、60μm)均落在目标专利要求的10~200μm范围内。虽然对比文件上限为60μm,但该上限以及优选范围内的多个值均直接满足下限10μm的要求,因此该技术特征被对比文件直接公开。
技术特征G:其中所述粘合剂层的金属离子含量为50ppm或更小 **《隐含公开》**对比文件[2]段指出:<br>“如果在粘合剂中添加表面活性剂、导电填料、碳黑等具有抗静电效果的材料,不仅难以调节或抑制粘合性能及其随时间的变化,而且在剥离时粘合剂或添加的材料本身可能会转移到被粘物上造成污染。”<br>同时,对比文件将抗静电材料(聚噻吩类聚合物)置于分离的导电树脂层中,而非粘合剂层。对比文件明确教导应避免在粘合剂层中添加抗静电材料(这些材料常引入金属离子),以避免污染和性能劣化。因此,按照对比文件的技术思想,粘合剂层不含或含极微量的金属离子。本领域技术人员可以合理推断其金属离子含量能够满足50ppm以下的要求。故该技术特征被对比文件隐含公开。
技术特征H:其中所述粘合剂层为非有机硅系粘合剂层 **《直接公开》**对比文件[2]段记载:<br>“粘合剂可以广泛使用公知的粘合剂,但优选使用丙烯酸类粘合剂。”<br>实施例均采用丙烯酸类粘合剂(如2-乙基己基丙烯酸酯与丙烯酸丁酯共聚物)。对比文件使用的丙烯酸类粘合剂属于典型的非有机硅系粘合剂,且未提及或暗示有机硅类粘合剂。因此,该技术特征被对比文件直接公开。
技术特征I:其中在180°的剥离角和0.3m/分钟的剥离速率下测量的所述粘合剂层对于玻璃的剥离强度大于或等于0.5gf/英寸且小于或等于15gf/英寸 **《未公开》**对比文件[2]段记载:<br>“根据JIS Z0237,测定在UV照射前后的粘着力,试验用被粘体为硅晶圆镜面,采用90°剥离,剥离速度50mm/min。”对比文件测定的剥离强度条件(被粘体:硅晶圆镜面;剥离角:90°;速率:50 mm/min)与目标专利完全不同(被粘体:玻璃;剥离角:180°;速率:0.3 m/min),且未公开任何具体的数值范围。因此该技术特征未被公开。

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### 公开性代码输出

根据上述判断,对比文件直接公开了技术特征A、F、H,隐含公开了技术特征D、G。

<<<A>>><<<F>>><<<H>>><<<d>>><<<g>>>

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