对比文件名称：2016-02-19_KR1020160019367A_发明公开_KR1020160019367A 반사 방지 필름
目标专利名称：1641抗反射膜CN108473791B
本次调用的模型名称：基于深度学习的自然语言处理模型（AI专利分析模型）
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：包含粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层 《直接公开》 | [0073] “所述涂层包括含有所述光聚合性化合物与含光反应性官能团的氟化合物之间的交联聚合物的粘合剂树脂；以及分散在所述粘合剂树脂中的中空二氧化硅颗粒。” [0067] “所述涂层可以是抗反射膜的低折射率层。” | 对比文件明确公开了低折射率层（涂层）包含粘合剂树脂（交联聚合物）和分散在其中的中空二氧化硅颗粒（无机细颗粒），因此技术特征A被直接公开。 |
| 技术特征B：所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件全文未提及聚倍半硅氧烷，其粘合剂树脂仅包含可光聚合化合物和含光反应性官能团的氟化合物的交联聚合物，未包含聚倍半硅氧烷，因此技术特征B未被公开。 |
| 技术特征C：和硬涂层 《直接公开》 | [0076] “所述抗反射膜还可以包括与所述涂层一面结合的硬涂层。” | 对比文件明确公开了抗反射膜包括与低折射率层结合的硬涂层，因此技术特征C被直接公开。 |
| 技术特征D：其中所述抗反射膜的内部雾度Hi与总雾度Ha的比率为97％或更小 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未提及内部雾度和总雾度，更未公开其比率范围，因此技术特征D未被公开。 |
| 技术特征E：所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化为0.7或更小 《直接公开》 | 表2及[0121]：实施例1的Δb*为0.7，实施例2的Δb*为0.5。 | 对比文件实施例1和2的b*变化值分别为0.7和0.5，均在0.7或更小的数值范围内，因此技术特征E被直接公开。 |
| 技术特征F：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量％至60重量％ 《直接公开》 | [0022] “所述含光反应性官能团的氟化合物可以具有1重量%至20重量%的氟含量。” | 对比文件公开了含氟化合物氟含量为1-20重量%，该范围落入目标专利的1-60重量%范围内，因此技术特征F被直接公开。 |
| 技术特征G：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000；并且中所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化通过在碱处理之前和之后测量所述抗反射膜的色坐标值来确定，在所述碱处理中将所述抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5％至50％的水性碱溶液中1秒至100秒 《直接公开》 | 分子量：[0025] “所述含光反应性官能团的氟化合物可以具有2000至20000的重均分子量。” 碱处理条件：[0106] “用蒸馏水稀释至10%的60℃ NaOH水溶液，浸渍1分钟。” | 对比文件公开了含氟化合物的重均分子量为2000-20000，落入2000-200000范围内；碱处理条件采用10% NaOH水溶液、60℃、1分钟，稀释比例10%在5-50%范围内，浸渍时间1分钟（60秒）在1-100秒范围内。因此技术特征G的两部分均被直接公开。 |
| 技术特征H：其中当将所述低折射率层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.20至1.65 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未提及椭圆偏光法、柯西模型或参数A、B、C，因此技术特征H未被公开。 |
| 技术特征I：B为0至0.05 《未公开》 | 无相关内容。 | 同上，对比文件未公开柯西参数B，因此技术特征I未被公开。 |
| 技术特征J：C为0至0.05 《未公开》 | 无相关内容。 | 同上，对比文件未公开柯西参数C，因此技术特征J未被公开。 |
| 技术特征K：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开柯西模型公式及其描述，因此技术特征K未被公开。 |
| 技术特征L：A、B和C为柯西参数 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开柯西模型，因此技术特征L未被公开。 |
| 技术特征M：其中当将所述硬涂层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.30至1.75 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开硬涂层的柯西参数，因此技术特征M未被公开。 |
| 技术特征N：B为0至0.05 《未公开》 | 无相关内容。 | 同上，技术特征N未被公开。 |
| 技术特征O：C为0至0.005 《未公开》 | 无相关内容。 | 同上，技术特征O未被公开。 |
| 技术特征P：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内 《未公开》 | 无相关内容。 | 同特征K，对比文件未公开，因此技术特征P未被公开。 |
| 技术特征Q：A、B和C为柯西参数 《未公开》 | 无相关内容。 | 同特征L，对比文件未公开，因此技术特征Q未被公开。 |
| 技术特征R：其中所述低折射率层的厚度为1nm至200nm 《直接公开》 | [0066] “所述涂层可以具有1nm至300nm，或50nm至200nm的厚度。” | 对比文件公开了涂层的厚度范围包括1-300nm，该范围涵盖了1-200nm，因此技术特征R被直接公开。 |
| 技术特征S：所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm 《未公开》 | 实施例中硬涂层厚度为10μm（[0097]），但未公开范围。 | 对比文件仅公开了具体实施例中硬涂层厚度为10μm，未公开0.1-100μm的厚度范围，也未教导或暗示该范围，因此技术特征S未被公开。 |
| 技术特征T：其中在所述低折射率层中包含的所述粘合剂树脂中，来源于所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分与来源于所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷，因此技术特征T未被公开。 |
| 技术特征U：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、烯烃、聚乙二醇和硫醇 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷及取代官能团，因此技术特征U未被公开。 |
| 技术特征V：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、聚乙二醇、硫醇和乙烯基 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷及取代官能团，因此技术特征V未被公开。 |
| 技术特征W：其中所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷及其笼型结构，因此技术特征W未被公开。 |
| 技术特征X：其中所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团；并且中未取代有反应性官能团的剩余硅原子取代有非反应性官能团 《未公开》 | 无相关内容。 | 对比文件未公开笼型POSS及其取代情况，因此技术特征X未被公开。 |
| 技术特征Y：其中所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物 《直接公开》 | [0028] “所述光聚合性化合物可以包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。” | 对比文件明确公开了可光聚合化合物包括含(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物，因此技术特征Y被直接公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基于氟的化合物中包含的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基 《直接公开》 | [0021] “所述光反应性官能团的具体例子包括(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基或硫醇基。” | 对比文件明确公开了含光反应性官能团的氟化合物中的反应性官能团即为(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基，因此技术特征Z被直接公开。 |
### 结论代码
根据上述比对，对比文件直接公开了技术特征A、C、E、F、G、R、Y、Z，未隐含公开其他技术特征。
<<<A>>><<<C>>><<<E>>><<<F>>><<<G>>><<<R>>><<<Y>>><<<Z>>>