对比文件名称：2006-02-16_JP2006047504A_发明专利_JP2006047504A Antireflective stack
目标专利名称：1641抗反射膜CN108473791B
本次调用的模型名称：Claude
以下为特征比对表格：
| 第一栏（技术特征描述及公开性判断结果） | 第二栏（对比文件原文引用，翻译成中文） | 第三栏（公开性论述） |
| 技术特征A：包括：包含粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层 《直接公开》 | 对比文件[2]段记载：“低折射率层为，…（A）成分：一分子中具有2个以上全氟烷基和2个以上反应性基团的倍半硅氧烷、（B）成分：含氟单体、及（C）成分：填料。…（C）充填材包括无机微粒子。” 低折射率层通过含有这些成分的组合物形成。 | 对比文件明确公开低折射率层包含粘合剂树脂（A和B的交联物）和分散在其中的填料（无机微粒子，如硅石），因此技术特征A被直接公开。 |
| 技术特征B：所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物 《未公开》 | 对比文件[2]段公开粘合剂树脂由（A）倍半硅氧烷和（B）含氟单体交联形成，其中（B）含氟单体具有光反应性基团且含氟。未提及第三种可光聚合化合物（非氟）的存在。 | 对比文件的粘合剂树脂仅由倍半硅氧烷和含氟单体两种成分构成，缺少目标专利所要求的可光聚合化合物（如非氟的(甲基)丙烯酸酯单体或低聚物）作为独立组分。含氟单体虽可视为可光聚合化合物，但目标专利将其与可光聚合化合物并列，意味着两者为不同物质。因此技术特征B未被公开。 |
| 技术特征C：和硬涂层 《直接公开》 | 对比文件[2]段记载：“反射防止積層体において、前記他の層として、…ハードコート層を設けても良い。”以及“ハードコート層は、電離放射線硬化型樹脂組成物を使用して形成することが望ましい。” | 对比文件明确教导抗反射堆叠可以包括硬涂层，因此技术特征C被直接公开。 |
| 技术特征D：其中所述抗反射膜的内部雾度Hi与总雾度Ha的比率为97％或更小 《未公开》 | 对比文件未涉及任何关于内部雾度Hi或总雾度Ha的测量或比率。 | 对比文件未提及雾度参数，更未限定内部雾度与总雾度的比率，因此技术特征D未被公开。 |
| 技术特征E：所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化为0.7或更小 《未公开》 | 对比文件未公开任何关于碱处理或色坐标b*的测试。 | 对比文件没有涉及碱处理条件及色坐标b*变化的限定，因此技术特征E未被公开。 |
| 技术特征F：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量％至60重量％ 《未公开》 | 对比文件未公开含氟单体的氟含量数值范围。 | 对比文件没有记载含氟单体中氟含量的具体百分比，因此技术特征F未被公开。 |
| 技术特征G：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000；并且中所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化通过在碱处理之前和之后测量所述抗反射膜的色坐标值来确定，在所述碱处理中将所述抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5％至50％的水性碱溶液中1秒至100秒 《未公开》 | 对比文件未公开含氟化合物的分子量范围，也未公开任何碱处理条件。 | 对比文件的含氟单体为小分子单体，其分子量远低于2000；且没有涉及碱处理b*变化。因此技术特征G未被公开。 |
| 技术特征H：其中当将所述低折射率层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.20至1.65 《未公开》 | 对比文件未提及椭圆偏光法测量或柯西模型。 | 对比文件没有采用椭圆偏光法表征低折射率层，也没有公开柯西参数A的范围。因此技术特征H未被公开。 |
| 技术特征I：B为0至0.05 《未公开》 | 同上。 | 对比文件未公开柯西参数B，因此未被公开。 |
| 技术特征J：C为0至0.05 《未公开》 | 同上。 | 对比文件未公开柯西参数C，因此未被公开。 |
| 技术特征K：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内 《未公开》 | 对比文件未公开此公式。 | 对比文件没有公开任何关于柯西模型的公式或波长范围，因此未被公开。 |
| 技术特征L：A、B和C为柯西参数 《未公开》 | 对比文件未公开。 | 对比文件未涉及柯西参数，因此未被公开。 |
| 技术特征M：其中当将所述硬涂层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.30至1.75 《未公开》 | 对比文件未公开硬涂层的椭圆偏光法测量或柯西参数。 | 对比文件未提及硬涂层的柯西参数A，因此未被公开。 |
| 技术特征N：B为0至0.05 《未公开》 | 同上。 | 对比文件未公开柯西参数B，因此未被公开。 |
| 技术特征O：C为0至0.005 《未公开》 | 同上。 | 对比文件未公开柯西参数C，因此未被公开。 |
| 技术特征P：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内 《未公开》 | 对比文件未公开此公式。 | 对比文件未公开此公式，因此未被公开。 |
| 技术特征Q：A、B和C为柯西参数 《未公开》 | 对比文件未公开。 | 对比文件未涉及柯西参数，因此未被公开。 |
| 技术特征R：其中所述低折射率层的厚度为1nm至200nm 《隐含公开》 | 对比文件[2]段实施例记载：“膜厚は、反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近になるように調製した。”（膜厚被调节为使反射率极小值在550nm附近）。低折射率层折射率可低至1.39。 | 虽然未给出具体数值，但根据光学设计（反射率极小值在550nm）和折射率（约1.39），本领域技术人员可计算出厚度约为550/(4×1.39)≈99nm，该值落在1-200nm范围内。因此技术特征R被对比文件隐含公开。 |
| 技术特征S：所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm 《直接公开》 | 对比文件[2]段记载：“ハードコート層は硬化後の膜厚が０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが望ましい。”（硬涂层固化后的膜厚优选在0.1-100μm范围）。 | 对比文件明确公开了硬涂层的厚度范围为0.1-100μm，因此技术特征S被直接公开。 |
| 技术特征T：其中在所述低折射率层中包含的所述粘合剂树脂中，来源于所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分与来源于所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50 《未公开》 | 对比文件[2]段公开（A）成分与（B）成分的配比为50:50至95:5（质量比），即倍半硅氧烷与含氟单体的比例。未涉及与可光聚合化合物（非氟）的比例。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷与可光聚合化合物（非氟）的重量比，且其公开的倍半硅氧烷与含氟单体的比例在1-19，与目标专利的0.005-0.50不重合。因此技术特征T未被公开。 |
| 技术特征U：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、烯烃、聚乙二醇和硫醇 《直接公开》 | 对比文件[2]段记载：“（A）成分…一般式（1）…R0是选自（甲基）丙烯酰基、乙烯基、环氧基及氧杂环丁烷基的反应性基团的有机官能团。”倍半硅氧烷具有反应性基团，例如（甲基）丙烯酰基、乙烯基、环氧基。 | 对比文件公开的聚倍半硅氧烷的反应性官能团包括(甲基)丙烯酸酯、乙烯基（属于烯烃）、环氧基，这些均落入特征U所列的组中，满足“至少一种”。因此技术特征U被直接公开。 |
| 技术特征V：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、聚乙二醇、硫醇和乙烯基 《直接公开》 | 同上，对比文件公开了(甲基)丙烯酸酯、乙烯基、环氧基。 | 对比文件公开的官能团至少包括(甲基)丙烯酸酯和乙烯基，属于特征V所列组中。因此技术特征V被直接公开。 |
| 技术特征W：其中所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷 《隐含公开》 | 对比文件[2]段实施例记载使用“パーフルオロアルキル鎖とアクリロイル基とを有するシルセスキオキサン化合物：AC-SQ-F”。AC-SQ-F是市售笼型多面体低聚倍半硅氧烷（POSS）产品。对比文件未明确其结构，但使用了该化合物。 | 本领域技术人员公知，Toagosei公司生产的AC-SQ-F是一种具有笼型结构的甲基丙烯酰基POSS。对比文件在其实施例中使用了AC-SQ-F，因此隐含公开了该聚倍半硅氧烷为具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷。故技术特征W被对比文件隐含公开。 |
| 技术特征X：其中所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团；并且中未取代有反应性官能团的剩余硅原子取代有非反应性官能团 《隐含公开》 | 对比文件[2]段记载“（A）成分：一分子中具有2个以上全氟烷基（非反应性）和2个以上反应性基团的倍半硅氧烷。”其分子同时含有全氟烷基（非反应性）和反应性基团（如丙烯酰基）。笼型POSS的硅原子上必然同时连接有这些官能团。 | 对比文件公开的倍半硅氧烷明确具有反应性官能团（如丙烯酰基）和非反应性官能团（全氟烷基），在笼型结构背景下，该倍半硅氧烷的硅原子被不同官能团取代。因此技术特征X被对比文件隐含公开（基于W的隐含公开）。 |
| 技术特征Y：其中所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物 《直接公开》 | 对比文件[2]段在硬涂层中使用了“ペンタエリスリトールトリアクリレート（PETA）”（季戊四醇三丙烯酸酯），在低折射层中含氟单体如“1H,1H,6H,6H-パーフルオロ-1,6-ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート”，均含有(甲基)丙烯酸酯基。 | 对比文件公开的硬涂层用可光聚合树脂包含多官能丙烯酸酯（如PETA），低折射层用含氟单体也含有(甲基)丙烯酸酯，因此技术特征Y被直接公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基于氟的化合物中包含的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基 《直接公开》 | 对比文件[2]段记载含氟单体具有的光反应性基团包括(甲基)丙烯酰基、乙烯基、环氧基。 | 对比文件的含氟单体（B成分）明确具有(甲基)丙烯酸酯基、乙烯基、环氧基，这些均属于特征Z所列组中。因此技术特征Z被直接公开。 |
<<<A>>><<<C>>><<<S>>><<<U>>><<<V>>><<<Y>>><<<Z>>><<<w>>><<<x>>><<<r>>>