对比文件名称：2010-09-30_WO2010110920A_发明申请_WO2010110920A1 SCRATCH-RESISTANT COATINGS WITH IMPROVED ADHESION TO INORGANIC THIN FILM COATINGS
目标专利名称：1641抗反射膜CN108473791B
模型名称：当前模型
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：包括：包含粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层 （未公开） | 无直接或隐含公开的内容。对比文件涉及耐刮擦涂层，未提及“低折射率层”。虽然背景技术[0011–0012]提及常规二氧化硅纳米颗粒可用于耐刮擦涂层（但存在团聚问题），但本发明明确提出避免使用传统无机细颗粒，且实施例中所有涂层组合物均不含无机细颗粒（仅含POSS）。该特征中的“低折射率层”在对比文件中不存在。 | 对比文件没有公开“低折射率层”这一特定结构，也未公开该层必须由粘合剂树脂与分散的无机细颗粒构成。其耐刮擦涂层是单一涂层，且实施例中未包含无机细颗粒。因此，本领域技术人员不能从对比文件毫无疑义地得出或合理推断出具有该特征的抗反射膜。 |
| **技术特征B**：所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物 （未公开） | 对比文件[0015]–[0017]和实施例公开了可光聚合化合物（丙烯酸酯单体/低聚物）与聚倍半硅氧烷（MA0735 Methacryl POSS®）的交联聚合物，但没有公开含有光反应性官能团的基于氟的化合物。仅在[0018]提到可包含添加剂（如表面活性剂、光稳定剂等），但未指明任何含氟化合物。 | 对比文件中没有提及任何含氟组分，特别是含有光反应性官能团的基于氟的化合物。虽然其涂层可能包含添加剂，但未给出含氟化合物的启示。本领域技术人员不能从对比文件得出粘合剂树脂包含含氟组分的教导或暗示。 |
| **技术特征C**：和硬涂层 （直接公开） | [p0001]抗刮擦涂层。[0004]该涂层坚硬且非常耐磨。[0017]多官能（甲基）丙烯酸单体/低聚物用于形成高度耐刮擦的涂层。实施例中形成的涂层作为耐刮擦涂层，即为硬涂层。 | 对比文件公开的耐刮擦涂层本身即为硬涂层，具有高硬度和耐磨性。该涂层作为透镜表面的主要保护层，相当于目标专利中的硬涂层。本领域技术人员可直接识别其对应“硬涂层”。 |
| **技术特征D**：其中所述抗反射膜的内部雾度Hi与总雾度Ha的比率为97％或更小 （未公开） | 对比文件未涉及内部雾度或总雾度，没有雾度测量参数。 | 对比文件全部内容未提及雾度相关性质，特别是内部雾度与总雾度的比值。因此该特征未被公开。 |
| **技术特征E**：所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化为0.7或更小 （未公开） | 对比文件没有涉及碱处理或色坐标（b*）测量。 | 对比文件未公开任何针对涂层的碱处理或颜色变化评价，无相关数据或启示。本领域技术人员无法从对比文件获得该特征。 |
| **技术特征F**：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量％至60重量％ （未公开） | 对比文件无含氟化合物，因此无氟含量信息。 | 对比文件完全未涉及含氟化合物，该特征的前提（含氟化合物）不存在。未公开。 |
| **技术特征G**：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000；并且中所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化通过在碱处理之前和之后测量所述抗反射膜的色坐标值来确定，在所述碱处理中将所述抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5％至50％的水性碱溶液中1秒至100秒 （未公开） | 对比文件无含氟化合物，也无碱处理条件和色坐标测量。 | 对比文件既未公开含氟化合物的分子量，也未公开碱处理的具体条件。该特征的任何方面均未在对比文件中出现。 |
| **技术特征H**：其中当将所述低折射率层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.20至1.65 （未公开） | 对比文件没有涉及椭圆偏光法测量低折射率层，未给出柯西参数A。 | 对比文件未公开低折射率层的存在，更未公开通过椭圆偏光法拟合柯西模型得到的参数。 |
| **技术特征I**：B为0至0.05 （未公开） | 同上。 | 同特征H。 |
| **技术特征J**：C为0至0.05 （未公开） | 同上。 | 同特征H。 |
| **技术特征K**：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内 （未公开） | 对比文件未提及该公式。 | 对比文件无相关公式或折射率波长依赖性描述。 |
| **技术特征L**：A、B和C为柯西参数 （未公开） | 对比文件未提及柯西参数。 | 同特征H、K。 |
| **技术特征M**：其中当将所述硬涂层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.30至1.75 （未公开） | 对比文件未涉及椭圆偏光法测量硬涂层，未给出柯西参数A。 | 对比文件虽公开了硬涂层（耐刮擦涂层），但无椭圆偏光法测量数据，未公开柯西参数A的范围。 |
| **技术特征N**：B为0至0.05 （未公开） | 同上。 | 同特征M。 |
| **技术特征O**：C为0至0.005 （未公开） | 同上。 | 同特征M。 |
| **技术特征P**：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内 （未公开） | 对比文件未提及该公式。 | 对比文件无相关公式。 |
| **技术特征Q**：A、B和C为柯西参数 （未公开） | 对比文件未提及柯西参数。 | 同特征M。 |
| **技术特征R**：其中所述低折射率层的厚度为1nm至200nm （未公开） | 对比文件未公开低折射率层及其厚度。 | 对比文件无低折射率层，该特征无法被公开。 |
| **技术特征S**：所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm （未公开） | 对比文件未明确硬涂层（耐刮擦涂层）的厚度范围。实施例中通过旋涂或模内涂覆形成涂层，未提及具体厚度数值。 | 对比文件未给出任何厚度范围或具体厚度。虽然本领域技术人员知道硬涂层可在此范围，但对比文件自身未公开该特征。 |
| **技术特征T**：其中在所述低折射率层中包含的所述粘合剂树脂中，来源于所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分与来源于所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50 （未公开） | 对比文件[0018]公开聚倍半硅氧烷含量为10wt%至100wt%（相对于单体+聚倍半硅氧烷），对应重量比≥0.111；实施例C的比例约为0.4286。但该比例是对于其整个耐刮擦涂层而非低折射率层。 | 特征T明确限定在“低折射率层中包含的粘合剂树脂中”。对比文件未公开低折射率层，因此不能将对比文件中耐刮擦涂层的比例关系直接对应到该特征。故未公开。 |
| **技术特征U**：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、烯烃、聚乙二醇和硫醇 （直接公开） | [0015]“the polyhedral oligomeric silsesquioxane compound contains one or more substituent groups that are capable of chemically bonding to the materials used for plastic lenses to permit in-mold coating such as epoxy groups or groups that are ethylenically unsaturated, such as allyl, vinyl, acrylic or methacrylic groups.” 实施例使用MA0735（甲基丙烯酸酯型POSS）。 | 对比文件明确公开了环氧化物（环氧基）、(甲基)丙烯酸酯（acrylic or methacrylic）、烯烃（allyl、vinyl等）。这些基团属于特征U列表中的“环氧化物”、“(甲基)丙烯酸酯”、“烯烃”。因此，对比文件直接公开了特征U中的至少一种选项，满足“选自至少一种”。 |
| **技术特征V**：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、聚乙二醇、硫醇和乙烯基 （直接公开） | 同上[0015]，特别是“epoxy groups”、“groups that are ethylenically unsaturated, such as allyl, vinyl, acrylic or methacrylic groups”。实施例使用MA0735（甲基丙烯酸酯型POSS）。 | 对比文件明确公开了环氧化物（环氧基）、(甲基)丙烯酸酯（acrylic or methacrylic）、乙烯基（vinyl）。这些基团属于特征V列表中的“环氧化物”、“(甲基)丙烯酸酯”、“乙烯基”。因此，对比文件直接公开了特征V中的至少一种选项，满足“选自至少一种”。 |
| **技术特征W**：其中所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷 （直接公开） | [0014]“polyhedral oligomeric silsesquioxanes having the general formula [(RSiO1.5)n]∑n(Tn)”; [0015]“polyhedral oligomeric silsesquioxane compound, e.g., MA0735 Methacryl POSS®”。 | 对比文件直接定义并举例了多面体低聚倍半硅氧烷（POSS），其具有笼状结构且带有官能团。特征W被明确公开。 |
| **技术特征X**：其中所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团；并且中未取代有反应性官能团的剩余硅原子取代有非反应性官能团 （隐含公开） | [0015]“at least one of the substituent (R) group or groups are selected that are capable of forming chemical bonds...”; 典型POSS结构中每个硅原子均有一个R基团，若R不是反应性基团则为非反应性基团。 | 对比文件明确要求至少一个反应性基团，但未明确剩余硅原子的取代基。然而，本领域技术人员熟知POSS的结构为每个硅原子连接一个R取代基；当部分R为反应性基团时，其余Si上的R必然为非反应性基团（如烷基、芳基等）。因此，虽然对比文件未明说，但本领域技术人员可以合理推断出该特征。 |
| **技术特征Y**：其中所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物 （直接公开） | [0017]“Multifunctional (meth)acrylic monomers (and/or oligomers) are particularly useful for forming highly scratch-resistant coatings. Examples... include: pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate... aliphatic and aromatic urethane acrylates and methacrylates, polyester acrylates and methacrylates.” 实施例使用BR101D（脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物）、Ebecryl 1290（六官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物）等。 | 对比文件大量使用含(甲基)丙烯酸酯的单体和低聚物作为可光聚合化合物。这些明确属于特征Y所述的“含有(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物”。因此直接公开。 |
| **技术特征Z**：其中所述基于氟的化合物中包含的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基 （未公开） | 对比文件无任何基于氟的化合物，因此无从谈及其中包含的光反应性官能团。 | 特征Z依赖含氟化合物的存在，对比文件未公开含氟化合物，该特征的前提不成立。未公开。 |
### 公开性代码输出
根据上述分析，对比文件直接公开了技术特征C、U、V、W、Y，隐含公开了技术特征X。因此，在回答结尾插入以下代码：
<<<C>>><<<U>>><<<V>>><<<W>>><<<Y>>><<<x>>>