**对比文件名称**：2013-10-29_KR1020130118069A_发明公开_KR1020130118069A 윈도우 시트 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
**目标专利名称**：1641抗反射膜CN108473791B
**本次调用的模型名称**：无
## 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：包含粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层<br>《直接公开》 | [0057]“在一个具体例中，涂覆层可以由含氟（甲基）丙烯酸酯化合物、无机纳米颗粒和光聚合引发剂的组合物形成。”<br>[0066]“无机纳米颗粒可以包括中空二氧化硅、反应性二氧化硅或其混合物。”<br>[0054]“涂覆层在550nm波长下的反射率可以为2%或更小。” | 对比文件的“涂覆层”在功能上对应于目标专利的低折射率层，其由粘合剂树脂（含氟（甲基）丙烯酸酯化合物）和分散的无机纳米颗粒构成，且具有低反射率、低折射率的特性。该组合物完全覆盖了“包含粘合剂树脂和分散在粘合剂树脂中的无机细颗粒的低折射率层”这一广义描述，因此特征A被直接公开。 |
| 技术特征B：所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物<br>《未公开》 | 未公开相关内容 | 对比文件的涂覆层组合物中仅包含含氟（甲基）丙烯酸酯化合物和无机纳米颗粒，未引入聚倍半硅氧烷。虽然对比文件在单独的树脂层（B）中使用了聚倍半硅氧烷，但该层并非低折射率层，且其组合物也不含有基于氟的化合物。目标专利要求低折射率层的粘合剂树脂必须同时包含可光聚合化合物、含氟化合物和聚倍半硅氧烷的三元交联结构，对比文件没有任何涂层在同一层中同时包含这三者，也未给出任何将聚倍半硅氧烷加入含氟涂层的教导或暗示。因此特征B未被公开。 |
| 技术特征C：和硬涂层<br>《直接公开》 | [0018]“铅笔硬度为6H以上”<br>[0026]“树脂层在波长550nm时的光透射率为90%以上，玻璃化转变温度为250℃以上。” | 对比文件中的“含倍半硅氧烷的树脂层（B）”具有高铅笔硬度（≥6H）、高透光率和高玻璃化转变温度，在结构上位于基材膜与涂覆层之间，起到支撑和提供硬度的作用，完全对应于目标专利的硬涂层。该树脂层的存在直接公开了“硬涂层”这一层结构。 |
| 技术特征D：其中所述抗反射膜的内部雾度Hi与总雾度Ha的比率为97％或更小<br>《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件仅在实施例中测量了总雾度（헤이즈），未涉及内部雾度的测量或内部雾度/总雾度的比值。目标专利通过该比率控制表面雾度与内部雾度的平衡，对比文件对此没有任何记载或暗示。因此特征D未被公开。 |
| 技术特征E：所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化为0.7或更小<br>《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未提及碱处理工艺，也未测量色坐标b*值或其变化。因此特征E未被公开。 |
| 技术特征F：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量％至60重量％<br>《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件仅提及使用含氟（甲基）丙烯酸酯化合物，但未公开其具体氟含量范围。实施例中使用的商业产品的氟含量未给出，本领域技术人员无法从对比文件直接或毫无疑义地确定氟含量在1%~60%之间。因此特征F未被公开。 |
| 技术特征G：其中所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000；并且所述抗反射膜在碱处理之前和之后的色坐标值b*的变化通过在碱处理之前和之后测量所述抗反射膜的色坐标值来确定，在所述碱处理中将所述抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5％至50％的水性碱溶液中1秒至100秒<br>《未公开》 | [0059]“氟改性（甲基）丙烯酸酯共聚物是指重均分子量在500g/mol以上”<br>[0060]“氟改性（甲基）丙烯酸酯单体是指重均分子量小于500g/mol”<br>实施例中使用的TU-2180分子量550g/mol（[0109]）<br>无碱处理条件信息 | 对比文件公开的含氟化合物分子量范围（共聚物≥500，单体<500）与目标专利的2000~200000完全不同，具体实施例中分子量仅550，明显低于下限。此外，对比文件未涉及任何碱处理步骤及对应的b*值变化测量，因此该特征的两个要件均未公开。 |
| 技术特征H：其中当将所述低折射率层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.20至1.65<br>《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未使用椭圆偏光法测量低折射率层，未提及柯西模型或参数A、B、C。因此特征H未被公开。 |
| 技术特征I：B为0至0.05<br>《未公开》 | 同特征H | 同特征H。 |
| 技术特征J：C为0至0.05<br>《未公开》 | 同特征H | 同特征H。 |
| 技术特征K：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内<br>《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未公开任何柯西模型或公式，也未限定波长范围。因此特征K未被公开。 |
| 技术特征L：A、B和C为柯西参数<br>《未公开》 | 同特征H、K | 同特征H、K。 |
| 技术特征M：其中当将所述硬涂层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下一般公式1的柯西模型时，满足条件A为1.30至1.75<br>《未公开》 | 无相关内容 | 对比文件未对硬涂层进行椭圆偏光法测量，未涉及柯西参数。因此特征M未被公开。 |
| 技术特征N：B为0至0.05<br>《未公开》 | 同特征M | 同特征M。 |
| 技术特征O：C为0至0.005<br>《未公开》 | 同特征M | 同特征M。 |
| 技术特征P：[一般公式1] 其中，在以上一般公式1中，n(λ)是波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内<br>《未公开》 | 同特征M | 同特征M。 |
| 技术特征Q：A、B和C为柯西参数<br>《未公开》 | 同特征M | 同特征M。 |
| 技术特征R：其中所述低折射率层的厚度为1nm至200nm<br>《直接公开》 | [0056]“涂覆层的厚度可以是10nm~500nm。”<br>实施例中涂覆层厚度为100nm（[0123]“使干膜厚度为100nm”） | 对比文件明确公开了涂覆层厚度范围为10~500nm，该范围与目标专利的1~200nm重叠（10~200nm），且具体实施例厚度100nm完全落在目标专利范围内。因此特征R被直接公开。 |
| 技术特征S：所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm<br>《未公开》 | [0024]“基材薄膜的厚度可以为50μm~800μm。”<br>[0045]“叠层膜的厚度可以为50μm~500μm。” | 对比文件未单独给出含倍半硅氧烷树脂层（硬涂层）的厚度范围，仅给出了基材膜或叠层膜的总厚度。本领域技术人员无法从对比文件中直接或毫无疑义地确认硬涂层厚度必然在0.1~100μm内。因此特征S未被公开。 |
| 技术特征T：其中在所述低折射率层中包含的所述粘合剂树脂中，来源于所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分与来源于所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50<br>《未公开》 | 无相关内容 | 低折射率层中不包含聚倍半硅氧烷，因此该重量比无从谈起。对比文件未给出任何低折射率层中聚倍半硅氧烷与可光聚合化合物比例的相关信息。因此特征T未被公开。 |
| 技术特征U：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、烯烃、聚乙二醇和硫醇<br>《直接公开》 | [0031]“R是（甲基）丙烯酰基、缩水甘油基或乙烯基。”<br>[0038]“R1是乙烯基、碳数1-10的烷基、苯基、（甲基）丙烯酰基、烯丙基或具有环氧环的基团。”<br>以上官能团属于环氧化物、(甲基)丙烯酸酯、烯烃（乙烯基、烯丙基）。 | 对比文件公开的倍半硅氧烷树脂中，反应性官能团明确包括环氧化物（缩水甘油基、环氧环基）、(甲基)丙烯酰基、乙烯基和烯丙基。这些均属于特征U列举的官能团中的环氧化物、(甲基)丙烯酸酯、烯烃。因此特征U被直接公开（至少包括以上几种，符合“选自”要求）。 |
| 技术特征V：其中取代在所述聚倍半硅氧烷上的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、聚乙二醇、硫醇和乙烯基<br>《直接公开》 | 同特征U。对比文件公开了环氧化物、(甲基)丙烯酸酯和乙烯基。 | 对比文件明确公开了乙烯基、环氧化物、(甲基)丙烯酸酯，这些属于特征V列举的官能团中的乙烯基、环氧化物、(甲基)丙烯酸酯。因此特征V被直接公开（至少包括其中几种，符合“选自”要求）。 |
| 技术特征W：其中所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷<br>《直接公开》 | [0035]化学式2：[RSiO3/2]n（n=8,10,12,14）<br>[0037]“笼型倍半硅氧烷树脂”<br>[0038]化学式3中m+n=10~20，具有笼结构。 | 对比文件使用的倍半硅氧烷树脂明确为笼型（cage型）结构，化学式2和3均表示多面体低聚倍半硅氧烷（POSS）。因此特征W被直接公开。 |
| 技术特征X：其中所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团；并且中未取代有反应性官能团的剩余硅原子取代有非反应性官能团<br>《直接公开》 | [0038]化学式3：R1中至少两个为反应性有机官能团（不饱和双键等），R2为甲基（非反应性）。 | 化学式3中，R1为反应性官能团（乙烯基、(甲基)丙烯酰基等），R2为非反应性甲基，且m个R1中有至少两个反应性基团，其余硅原子取代有非反应性官能团。完全公开了取代模式。因此特征X被直接公开。 |
| 技术特征Y：其中所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物<br>《直接公开》 | [0087]“多官能（甲基）丙烯酸酯单体：DPHA等”<br>[0031]倍半硅氧烷树上的(甲基)丙烯酰基或乙烯基。 | 对比文件涂覆层组合物中使用多官能（甲基）丙烯酸酯单体，树脂层倍半硅氧烷树脂也含有(甲基)丙烯酰基或乙烯基，这些均属于含(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。因此特征Y被直接公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基于氟的化合物中包含的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基<br>《直接公开》 | [0057]“含氟（甲基）丙烯酸酯化合物” | 对比文件的含氟化合物明确为“氟改性（甲基）丙烯酸酯”，其必然含有(甲基)丙烯酸酯基光反应性官能团。因此特征Z被直接公开。 |
<结论>
直接公开的技术特征：A、C、R、U、V、W、X、Y、Z
未公开的技术特征：B、D、E、F、G、H、I、J、K、L、M、N、O、P、Q、S、T
<<<A>>><<<C>>><<<R>>><<<U>>><<<V>>><<<W>>><<<X>>><<<Y>>><<<Z>>>