对比文件名称：2006-05-04_US2006093809A_发明申请_US20060093809A1 Optical bodies and methods for making optical bodies
目标专利名称：1668减反射膜和显示装置CN108027456B
模型名称：Claude (Anthropic)
## 特征比对表格
| 技术特征及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括硬涂层（未公开） | 无相关公开内容。对比文件涉及光学体和可剥离粗糙表皮层（strippable skin layer），未提及“硬涂层”。 | 对比文件未公开任何形式的硬涂层层结构，其光学体由光学膜和可剥离表皮层构成，与目标专利的减反射膜硬涂层不同，作用也不同。 |
| 技术特征B：在所述硬涂层上形成的低折射率层（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件没有公开低折射率层，其光学膜表面纹理是通过可剥离表皮层剥离后直接形成在光学膜上，无单独的低折射率层。 |
| 技术特征C：减反射膜表面的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5（未公开） | 段落[0090]描述了表面粗糙度参数Ra、Rq、Rz，但未提及Rsk。 | 对比文件未公开粗糙度偏度(Rsk)这一参数，更没有给出大于0.5且小于5的特定数值范围。 |
| 技术特征D：表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度（未公开） | 表8中公开了平均斜率Da（mrad），例如10% Marflex 7104的Da为77 mrad，30% Marflex 7104的Da为146 mrad，30% PE 2517的Da为69 mrad。 | 对比文件公开的倾斜角（转换为度约为4.4°～8.4°）远大于0.2°，未给出0.01°～0.2°的极低角度范围。 |
| 技术特征E：硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒（未公开） | 段落[0044]公开了粗糙可剥离表皮层包含连续相和分散相，连续相为聚合物（如聚丙烯、聚乙烯等），分散相为不混溶材料。 | 对比文件未公开硬涂层，其表皮层连续相为热塑性聚合物，不是可光聚合化合物的(共)聚合物，且该层为临时保护层而非永久硬涂层，作用和组成均不相同。 |
| 技术特征F：有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm（未公开） | 表4公开了凹陷的宽度（minor dimension）平均值约2.94～3.97μm，等效圆直径（ECD）约3.54～5.08μm，但未明确这些尺寸对应的是微粒的原始粒径。 | 对比文件未明确公开有机或无机微粒的粒径范围，其表面特征是由相分离形成的区域尺寸，并非添加的微粒本身；且无1～5μm的粒径限定。 |
| 技术特征G：硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件没有硬涂层，无厚度公开。 |
| 技术特征H：减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果（隐含公开） | 段落[0108]：“使用来自Veeco Instruments的WYKO NT-3300光学轮廓测量系统进行测量”；段落[0117]：“表面粗糙度使用Wyko（VSI模式的光学干涉测量法）测量”。 | 对比文件明确公开了使用非接触式3D光学轮廓仪（Wyko光学干涉仪）测量膜表面粗糙度。本领域技术人员能够毫无疑义地知道该仪器可以测量粗糙度偏度（Rsk）和倾斜角，并且该方法同样适用于减反射膜表面。因此，该测量技术特征被隐含公开。 |
| 技术特征I：减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未涉及反射率测量或数值范围。 |
| 技术特征J：减反射膜的内部雾度大于0且小于10％（未公开） | 段落[0092]公开了雾度范围约5%～95%，但未区分内部/外部雾度。 | 对比文件没有内部雾度的概念或测量方法，也未公开0～10%的具体范围。 |
| 技术特征K：减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未涉及外部雾度。 |
| 技术特征L：基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件没有硬涂层，也没有可光聚合化合物含量比例。 |
| 技术特征M：基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开硬涂层，也未公开该特定无机纳米粒子含量比例。 |
| 技术特征N：所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开硬涂层，也无此粒径范围的无机纳米粒子。 |
| 技术特征O：低折射率层包含粘合剂树脂（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件没有低折射率层，不涉及粘合剂树脂。 |
| 技术特征P：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开可光聚合化合物、氟系化合物以及聚倍半硅氧烷中的任何一种组分。 |
| 技术特征Q：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件没有低折射率层，不涉及此类分散体系。 |
| 技术特征R：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开任何聚倍半硅氧烷，更未公开其反应性官能团。 |
| 技术特征S：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷及非反应性官能团取代。 |
| 技术特征T：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开笼形多面体低聚倍半硅氧烷。 |
| 技术特征U：所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开POSS及其硅原子取代。 |
| 技术特征V：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未涉及此取代方式。 |
| 技术特征W：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开摩尔比。 |
| 技术特征X：所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物（未公开） | 对比文件所用的聚合物为热塑性聚烯烃等（如段落[0058]聚丙烯、聚乙烯），未提及可光聚合的(甲基)丙烯酸酯或乙烯基单体/低聚物。 | 对比文件未公开可光聚合化合物，其光学膜及表皮层均基于热塑性聚合物，非可光固化体系。 |
| 技术特征Y：所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开任何氟系化合物。 |
| 技术特征Z：所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子（未公开） | 无相关公开内容。 | 对比文件未公开中空二氧化硅粒子，更未公开10～100nm的粒径范围。 |
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