对比文件的名称：2009-10-08_JP2009230045A_发明专利_JP2009230045A Anti-reflection layered body
目标专利的名称：1668减反射膜和显示装置CN108027456B
本次调用的模型名称：未指定（基于用户输入）
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译成中文） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：包括硬涂层。 | 对比文件在“3. ハードコート層”部分：“本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材と反射防止層の間に、ハードコート層をさらに備えてなる反射防止積層体が提案される。”（根据本发明的一个优选方案，提出了一种防反射层压体，其在光透射性基材和防反射层之间还包括硬涂层。）并具体给出了硬涂层的树脂材料、厚度等。 | **直接公开**。对比文件明确记载了防反射层压体包括硬涂层，且硬涂层为本领域公知的结构层，因此技术特征A被直接公开。 |
| **技术特征B**：在所述硬涂层上形成的低折射率层。 | 对比文件在“1. 特徴”部分：“光透過性基材と前記反射防止層の間に、ハードコート層及び／又は光学機能層をさらに備えてなる反射防止積層体”（在光透射性基材与防反射层之间进一步包括硬涂层和/或光学功能层的防反射层压体）。在“4. 光学機能層”及“低屈折率剤”部分指出光学功能层可包括低折射率层（低屈折率層），且低折射率层可由树脂、氟系化合物等形成，并可含有中空无机微粒。 | **隐含公开**。对比文件未在具体实施例中示出硬涂层上直接形成低折射率层的结构，但其明确教导了在硬涂层与防反射层之间可设置光学功能层（含低折射率层）。本领域技术人员根据该教导能够合理推断出在硬涂层上形成低折射率层的技术方案，故技术特征B被隐含公开。 |
| **技术特征C**：所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5。 | 对比文件未出现Rsk（粗糙度偏度）的任何描述，仅使用了Sm（凹凸平均间隔）、θa（平均倾斜角）、Rz（平均粗糙度）等参数。 | **未公开**。对比文件没有记载粗糙度偏度Rsk，更未限定其范围，因此技术特征C未被公开。 |
| **技术特征D**：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度。 | 对比文件在“2) Sm、θa、Rz”部分：“θａは１５度以上４０度以下”（θa为15度以上40度以下）。 | **未公开**。对比文件公开的平均倾斜角θa为15-40度，与目标专利要求的0.01-0.2度相差数个数量级，因此技术特征D未被公开。 |
| **技术特征E**：所述硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒。 | 对比文件在“3. ハードコート層”中仅描述了硬涂层由电离放射线硬化型树脂等制成，未提及硬涂层中含有任何有机或无机微粒。在“光学機能層”部分虽涉及微粒，但未与硬涂层关联。 | **未公开**。对比文件的硬涂层组成仅限定于树脂，未包含微粒。即使本领域公知可在硬涂层中添加微粒，但对比文件本身未给出技术启示，因此技术特征E未被公开。 |
| **技术特征F**：所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm。 | 对比文件没有公开硬涂层中的微粒及其粒径。 | **未公开**。基于技术特征E未公开，相应微粒粒径更未公开，故F未被公开。 |
| **技术特征G**：所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm。 | 对比文件在“3. ハードコート層”：“ハードコート層の厚さは１μｍ以上５０μｍ以下であり、好ましくは下限値が３μｍ以上であり上限値が３０μｍ以下であり、より好ましくは下限値が５μｍ以上であり上限値が２０μｍ以下である。”（硬涂层的厚度为1μm以上50μm以下，优选下限3μm以上上限30μm以下，更优选下限5μm以上上限20μm以下。） | **直接公开**。对比文件更优选的厚度范围（5μm以上20μm以下）完全包含目标专利的>5μm且<10μm的范围，因此技术特征G被直接公开。 |
| **技术特征H**：所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果。 | 对比文件在“2) Sm、θa、Rz”中提及测量使用的是“触針測定（SE-3400）”（触针式粗糙度计），未涉及非接触式3D光学轮廓仪。 | **未公开**。对比文件采用的测量方法为触针式，而非非接触式光学轮廓仪，且未涉及Rsk，故技术特征H未被公开。 |
| **技术特征I**：所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％。 | 对比文件在“反射Y値”部分描述了5°正反射率的测量和Y值（视感反射率）的计算，但未给出380-780nm的平均反射率数值或范围。 | **未公开**。对比文件未记载平均反射率小于4%的具体内容，因此技术特征I未被公开。 |
| **技术特征J**：所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10％。 | 对比文件在“3) ヘイズ値”部分：“内部ヘイズ（Ｈｉ）は、０％超過９０％未満”（内部雾度Hi超过0%且低于90%），并优选下限0.1%以上。 | **直接公开**。对比文件公开的内部雾度范围（>0%且<90%）完全包含目标专利的>0%且<10%的范围，因此技术特征J被直接公开。 |
| **技术特征K**：所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％。 | 对比文件在“3) ヘイズ値”部分：“表面ヘイズ（Ｈｓ）は０．１以上６．０未満”（表面雾度Hs为0.1以上且低于6.0）。 | **未公开**。对比文件公开的表面雾度范围为0.1-6.0，与目标专利的>0且<0.5%相比，虽然存在0.1-0.5%的重叠，但整体范围不同，且对比文件未公开小于0.1%的部分；同时，目标专利的外部雾度依赖于特定的表面形貌参数（C、D），而对比文件不具有该参数方案，因此技术特征K未被公开。 |
| **技术特征L**：基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒。 | 对比文件未公开硬涂层中微粒的含量。 | **未公开**。由于对比文件未公开硬涂层含有微粒，故相关含量更未公开，技术特征L未被公开。 |
| **技术特征M**：基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子。 | 对比文件未公开硬涂层中含有此类无机纳米粒子及其含量。 | **未公开**。对比文件没有涉及硬涂层中添加无机纳米粒子的内容，故M未被公开。 |
| **技术特征N**：所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子。 | 对比文件未公开硬涂层中含有此类无机纳米粒子。 | **未公开**。同M，对比文件未公开硬涂层中的无机纳米粒子，故N未被公开。 |
| **技术特征O**：所述低折射率层包含：粘合剂树脂。 | 对比文件在“低屈折率剤”部分描述低折射率层（低屈折率層）由树脂（如氟系树脂、丙烯酸树脂等）形成。 | **直接公开**。对比文件明确低折射率层包含树脂作为粘合剂，因此技术特征O被直接公开。 |
| **技术特征P**：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物。 | 对比文件在低折射率层部分提及了可光聚合化合物（电离放射线硬化型树脂）和氟系化合物，但通篇未出现任何聚倍半硅氧烷或类似物。 | **未公开**。对比文件完全没有公开聚倍半硅氧烷，因此技术特征P未被公开。 |
| **技术特征Q**：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒。 | 对比文件在“低屈折率剤”部分：“空隙を有する微粒子”（如中空二氧化硅、多孔质粒子等）可用于低折射率层，并分散在树脂中。 | **直接公开**。对比文件明确低折射率层中可以包含无机微粒（中空二氧化硅等），因此技术特征Q被直接公开。 |
| **技术特征R**：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷。 | **未公开**。无聚倍半硅氧烷，故R未被公开。 |
| **技术特征S**：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷。 | **未公开**。 |
| **技术特征T**：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷。 | **未公开**。 |
| **技术特征U**：所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷。 | **未公开**。 |
| **技术特征V**：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷。 | **未公开**。 |
| **技术特征W**：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷。 | **未公开**。 |
| **技术特征X**：所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物。 | 对比文件在低折射率层（光学功能层）的树脂部分列举了例：“エチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、スチレン…”等含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体/低聚物。 | **直接公开**。对比文件明确低折射率层中可使用的可光聚合化合物包括(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物，因此技术特征X被直接公开。 |
| **技术特征Y**：所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种。 | 对比文件在“低屈折率剤”及“レベリング剤”部分提到氟系化合物通常包含(甲基)丙烯酸酯基、环氧基等光反应性基团（如含氟UV固化树脂含有(甲基)丙烯酸酯基）。 | **直接公开**。对比文件公开的用于低折射率层的氟系化合物具有光反应性官能团，且明确可包含(甲基)丙烯酸酯基等，因此技术特征Y被直接公开。 |
| **技术特征Z**：所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子。 | 对比文件在“低屈折率剤”的“空隙を有する微粒子”中记载：“平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。”（平均粒径5nm以上300nm以下，优选8-100nm，更优选10-80nm）。并具体提到二氧化硅（シリカ）作为优选材料。 | **直接公开**。对比文件明确公开了中空二氧化硅粒子用于低折射率层，且其粒径范围完全包含10-100nm，因此技术特征Z被直接公开。 |
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