对比文件的名称：2010-09-16_JP2010201773A_发明专利_JP2010201773A Manufacturing method of surface functionality light curing sheet
目标专利的名称：1668减反射膜和显示装置CN108027456B
本次调用的模型名称：DeepSeek-V3
### 特征比对表格
| 技术特征描述以及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：硬涂层 **[直接公开]** | 对比文件[0013]记载：“所述功能层优选为硬涂层、防静电层、防反射层、防污层、抗菌层、气体阻挡层、耐光层或这些功能中两种以上的组合。”<br>实施例2记载：“使用具有硬涂层（厚度1μm）的转印膜（薄膜基材：聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，宽度300mm，厚度0.1mm）的硬涂层侧朝向涂布的光固化树脂层叠，从两面压合后，用金属卤化物灯以500mJ/cm²的紫外线从两面照射。然后，剥离透明基膜和转印膜的薄膜基材，得到表面带硬涂层的光固化片。” | 对比文件明确公开了硬涂层作为功能层，并给出了包含硬涂层的具体实施例。因此技术特征A被直接公开。 |
| 技术特征B：在所述硬涂层上形成的低折射率层 **[隐含公开]** | 对比文件[0013]记载功能层可以是防反射层（低折射率层），并且功能层可以是两种以上的组合。制造方法中，转印膜上的功能层通过转印形成在光固化树脂层表面，功能层的顺序由转印膜结构决定。 | 对比文件没有同时公开硬涂层和低折射率层的具体实施例，但公开了硬涂层和防反射层作为可选功能层，且允许功能层组合。本领域技术人员根据转印膜的结构（可在同一转印膜上形成多层功能层），可以合理推断通过组合硬涂层和防反射层，能够在光固化树脂层上依次形成硬涂层和低折射率层（防反射层），且低折射率层位于硬涂层上。因此技术特征B被隐含公开。 |
| 技术特征C：所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5 **[未公开]** | 对比文件中未记载任何关于表面粗糙度偏度(Rsk)的内容。 | 对比文件不涉及减反射膜的表面粗糙度参数。 |
| 技术特征D：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度 **[未公开]** | 对比文件中未记载任何关于表面倾斜角的内容。 | 对比文件不涉及减反射膜的表面粗糙度参数。 |
| 技术特征E：所述硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒 **[未公开]** | 对比文件中的硬涂层是转印膜上的功能层，其具体组成未公开。光固化树脂层由可光聚合化合物和笼形倍半硅氧烷组成，未含有分散的有机或无机微粒；仅提到可添加填料，但未具体指明为有机或无机微粒且未公开其分散形态。 | 对比文件未公开硬涂层的内部组成，特别是未公开硬涂层包含有机或无机微粒分散在粘合剂树脂中的结构。 |
| 技术特征F：所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm **[未公开]** | 对比文件中未提及微粒粒径。 | 对比文件未公开任何微粒的尺寸。 |
| 技术特征G：所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm **[未公开]** | 对比文件实施例2中硬涂层厚度为1μm，光固化树脂层厚度为200μm。 | 对比文件未公开硬涂层在该特定厚度范围。 |
| 技术特征H：所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果 **[未公开]** | 对比文件中未提及任何测量方法或设备。 | 对比文件未涉及粗糙度测量。 |
| 技术特征I：所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％ **[未公开]** | 对比文件中未提及反射率。 | 对比文件不涉及反射率参数。 |
| 技术特征J：所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10％ **[未公开]** | 对比文件中未提及雾度。 | 对比文件不涉及内部雾度。 |
| 技术特征K：所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％ **[未公开]** | 对比文件中未提及外部雾度。 | 对比文件不涉及外部雾度。 |
| 技术特征L：基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒 **[未公开]** | 对比文件未公开硬涂层中微粒含量。 | 对比文件未公开硬涂层中微粒的量。 |
| 技术特征M：基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子 **[未公开]** | 对比文件未公开任何纳米粒子及其含量。 | 对比文件未涉及无机纳米粒子。 |
| 技术特征N：所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子 **[未公开]** | 对比文件未公开任何纳米粒子。 | 对比文件未涉及此类无机纳米粒子。 |
| 技术特征O：所述低折射率层包含：粘合剂树脂 **[未公开]** | 对比文件未公开低折射率层（防反射层）的具体组成，仅列为可选功能层。 | 对比文件未公开低折射率层包含粘合剂树脂的结构细节。 |
| 技术特征P：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物 **[未公开]** | 对比文件未公开任何氟系化合物；光固化树脂层仅包含可光聚合化合物和笼形倍半硅氧烷，不含氟系化合物。 | 对比文件未公开含有氟系化合物和聚倍半硅氧烷交联的粘合剂树脂。 |
| 技术特征Q：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒 **[未公开]** | 对比文件未公开低折射率层（防反射层）中含有无机微粒。 | 对比文件未公开低折射率层中分散有无机微粒。 |
| 技术特征R：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团 **[直接公开]** | 对比文件[0011]记载：“所述笼形倍半硅氧烷树脂优选为由下式（2）表示： [RSiO₃/₂]ₙ (其中R是包含(甲基)丙烯酰基、缩水甘油基或乙烯基中的任一个的有机官能团，n为8、10、12或14)。” 以及[0012]记载类似内容。 | 对比文件明确公开了笼形倍半硅氧烷上的反应性官能团为(甲基)丙烯酰基（属于(甲基)丙烯酸酯）、缩水甘油基（属于环氧化物）和乙烯基，这些均属于特征R列表中的至少一种，因此直接公开。 |
| 技术特征S：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代 **[未公开]** | 对比文件通式中R仅为反应性官能团，未提及非反应性官能团。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷含有非反应性官能团。 |
| 技术特征T：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷 **[直接公开]** | 对比文件[0011]及[0012]明确记载了“笼形倍半硅氧烷树脂”（かご型シルセスキオキサン樹脂），即具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷。实施例中使用“シルセスキオキサンオリゴマー”。 | 对比文件直接公开了笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷（POSS），因此直接公开。 |
| 技术特征U：所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代 **[直接公开]** | 对比文件通式(2)中，每个硅原子均连接R（反应性官能团），即所有硅原子均被反应性官能团取代。 | 所有硅原子均被反应性官能团取代，显然满足至少一个硅原子被取代，因此直接公开。 |
| 技术特征V：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代 **[未公开]** | 对比文件未公开非反应性官能团，通式中所有硅原子均被反应性官能团取代。 | 对比文件未公开非反应性官能团的存在，因此未公开。 |
| 技术特征W：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上 **[未公开]** | 对比文件未公开非反应性官能团，无法涉及比例。 | 对比文件未公开该比例。 |
| 技术特征X：所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物 **[直接公开]** | 对比文件实施例1-5均使用“トリメチロールプロパントアクリレート”（三羟甲基丙烷三丙烯酸酯），其含有(甲基)丙烯酸酯基。 | 对比文件实施例明确使用了含(甲基)丙烯酸酯基的单体作为可光聚合化合物，因此直接公开。 |
| 技术特征Y：所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种 **[未公开]** | 对比文件未公开任何氟系化合物。 | 对比文件未涉及氟系化合物。 |
| 技术特征Z：所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子 **[未公开]** | 对比文件未公开中空二氧化硅粒子。 | 对比文件未涉及此类无机微粒。 |
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