对比文件的名称：2013-11-25_KR1020130127984A_发明公开_KR1020130127984A 방현성 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
目标专利的名称：1668减反射膜和显示装置CN108027476B
本次调用的模型名称：DeepSeek
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译及段落标号） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括硬涂层。《直接公开》 | [0014]：“本发明的目的在于提供一种防眩光膜、偏光板和图像显示装置，即使硬涂层为单层且厚度小于10μm的薄层，也能够保持硬度和防眩光性……” [0025]：“防眩光层（相当于硬涂层）为单层且厚度小于10μm的薄层……” | 对比文件明确公开了防眩光膜包含硬涂层（防眩光层），该层形成表面凹凸以实现防眩光，与目标专利硬涂层作用相同。因此技术特征A被直接公开。 |
| 技术特征B：在所述硬涂层上形成的低折射率层。《直接公开》 | [0129]：“本发明的防眩光膜，由于能够更适宜地防止白浊的发生，因此优选在上述防眩光层（硬涂层）上具有低折射率层。” | 对比文件明确教导在硬涂层上设置低折射率层，用于降低反射率，与目标专利低折射率层作用相同。因此技术特征B被直接公开。 |
| 技术特征C：其中，所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5。《未公开》 | 对比文件全文未提及粗糙度偏度(Rsk)参数。仅涉及Sm、θa、Ra、Rz等表面粗糙度参数。 | 对比文件完全没有公开或暗示Rsk参数及其数值范围，本领域技术人员无法从中获知Rsk大于0.5且小于5的技术方案。因此技术特征C未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征D：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度。《未公开》 | [0105]：“0.1°<θa<1.5°”；[0114]：“0.10°<θa<0.80°”；[0119]：“0.10°<θa<0.42°”。（θa为平均倾斜角，类似目标专利的倾斜角） | 对比文件公开的θa下限为0.1°，上限为0.42°-1.5°，与目标专利的0.01°-0.2°范围不同（目标专利上限0.2°小于对比文件下限0.1°）。对比文件未公开低于0.1°的倾斜角，因此技术特征D未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征E：其中，所述硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒。《直接公开》 | [0085]：“含有上述两种以上微粒和粘合剂粒子、上述电离辐射固化型树脂等粘合剂树脂、光聚合引发剂及后述溶剂等的防眩光层用组合物……” [0043]-[0061]详细描述了有机微粒和无机微粒的添加。 | 对比文件公开的防眩光层（硬涂层）由粘合剂树脂（可光聚合化合物如丙烯酸酯的聚合物）与分散的有机/无机微粒构成，用于形成表面凹凸。组成与作用与目标专利相同。因此技术特征E被直接公开。 |
| 技术特征F：其中，所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm。《直接公开》 | [0051]：“有机微粒的平均粒径为0.3-5.0μm，优选1.0-4.0μm”；[0061]：“无机微粒的平均粒径为500nm-5.0μm”。实施例中采用有机微粒2.0μm、无机微粒2.0μm。 | 对比文件公开的有机和无机微粒粒径范围覆盖1-5μm，且实施例使用2.0μm的微粒。因此技术特征F被直接公开。 |
| 技术特征G：其中，所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm。《未公开》 | [0054]：“防眩光层的厚度为2-6μm，优选2-4μm。” | 对比文件公开的防眩光层厚度最大为6μm，且优选范围为2-4μm，均小于5μm，未公开大于5μm且小于10μm的厚度。因此技术特征G未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征H：其中，所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果。《未公开》 | [0253]：“使用表面粗糙度测量仪：SE-3400/株式会社小坂研究所产品，用触针法测量Sm、Ra、θa、Rz。” | 对比文件使用接触式触针测量仪，而非非接触式3D光学轮廓仪。未公开该测量方法。因此技术特征H未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征I：其中，所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％。《未公开》 | 对比文件全文未提及平均反射率数值。 | 对比文件没有公开或暗示减反射膜在可见光区的平均反射率。因此技术特征I未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征J：其中，所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10％。《直接公开》 | [0126]：“内部扩散引起的雾度值为0.1%以上、20%以下，优选0.1%以上、10%以下。” | 对比文件明确公开内部雾度（内部扩散雾度）范围为0.1%以上且10%以下，该范围完全对应于目标专利的“大于0且小于10%”（0.1%>0）。因此技术特征J被直接公开。 |
| 技术特征K：其中，所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％。《直接公开》 | [0126]：“表面雾度值为0.1%以上、20%以下，优选0.1%以上、10%以下，更优选0.1%以上、5%以下，最优选0.1%以上、2%以下。” | 对比文件公开的表面雾度（相当于外部雾度）范围包括0.1%以上且2%以下，该范围包含了0.1%至0.5%的区间，因此目标专利的“大于0且小于0.5%”被覆盖。故技术特征K被直接公开。 |
| 技术特征L：其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒。《直接公开》 | [0177]-[0188]实施例：硬涂层组合物包含可光聚合化合物（PETA 60份+聚氨酯丙烯酸酯40份=100重量份），有机微粒1-12重量份（实施例1-5等），无机微粒0.3-8重量份（实施例1-5等）。 | 对比文件实施例中可光聚合化合物总量为100重量份，有机或无机微粒含量在1-12重量份（有机）和0.3-8重量份（无机）之间，这些含量均落在1-20重量份范围内。因此技术特征L被直接公开。 |
| 技术特征M：其中，基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子。《未公开》 | 对比文件含煅制二氧化硅（平均一次粒径12nm，属1-50nm），其在硬涂层中的含量为防眩光层的0.1-5质量%（[0070]），但未基于有机/无机微粒及无机纳米粒子总重量限定比例。实施例中微粒总量（有机1+无机3+煅制二氧化硅1=5份），煅制二氧化硅占20%，不在3-10%范围。 | 对比文件没有公开以有机/无机微粒及无机纳米粒子总重量为基准的无机纳米粒子含量范围，实施例中的比例也不符。因此技术特征M未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征N：其中，所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子。《未公开》 | 对比文件全文未提及直径大于50nm且120nm以下的无机纳米粒子。煅制二氧化硅一次粒径1-100nm，但可能聚集形成20-600nm的二次粒子，但并未作为单独的纳米粒子添加剂公开。 | 对比文件没有公开或暗示在硬涂层中添加直径50-120nm的无机纳米粒子。因此技术特征N未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征O：其中，所述低折射率层包含：粘合剂树脂。《直接公开》 | [0129]：“优选在上述防眩光层上具有低折射率层”；[0130]：“低折射率层由1）硅石或氟化镁的树脂、2）氟系树脂、3）硅石或氟化镁的氟系树脂等构成”。 | 对比文件公开的低折射率层必然包含树脂作为粘合剂树脂，因此技术特征O被直接公开。 |
| 技术特征P：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物。《未公开》 | 对比文件低折射率层组合物（[0270]）仅包含中空硅石、PETA、引发剂、改性硅油，无氟系化合物及聚倍半硅氧烷。[0130]-[0139]虽提到氟系树脂，但未提及聚倍半硅氧烷，更无三者交联聚合物。 | 对比文件完全没有公开聚倍半硅氧烷，也未公开粘合剂树脂由可光聚合化合物、氟系化合物和聚倍半硅氧烷交联而成。因此技术特征P未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征Q：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒。《直接公开》 | [0131]：“上述硅石优选为中空硅石微粒”；[0272]实施例：低折射率层组合物含中空硅石微粒40质量份（固体含量20%），分散在树脂中。 | 对比文件公开的低折射率层包含中空硅石微粒作为无机微粒，分散在粘合剂树脂中。因此技术特征Q被直接公开。 |
| 技术特征R：其中，在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团。《未公开》 | 对比文件无任何关于聚倍半硅氧烷或其官能团的记载。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷，更未涉及其反应性官能团种类。因此技术特征R未被公开。 |
| 技术特征S：其中，所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代。《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷的取代模式，因此技术特征S未被公开。 |
| 技术特征T：其中，所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷。《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 对比文件未公开多面体低聚倍半硅氧烷，因此技术特征T未被公开。 |
| 技术特征U：其中，所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代。《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 对比文件未公开此类结构，因此技术特征U未被公开。 |
| 技术特征V：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代。《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 对比文件未公开，因此技术特征V未被公开。 |
| 技术特征W：其中，在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上。《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷的官能团摩尔比，因此技术特征W未被公开。 |
| 技术特征X：其中，所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物。《直接公开》 | [0078]：“作为电离辐射固化型树脂，例如可举出丙烯酸酯系等的具有官能团的化合物等的一种或两种以上不饱和键的化合物。” [0272]实施例中低折射率层使用PETA（季戊四醇三丙烯酸酯）。 | 对比文件在硬涂层和低折射率层中均使用了含(甲基)丙烯酸酯基的可光聚合化合物，如PETA。因此技术特征X被直接公开。 |
| 技术特征Y：其中，所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种。《直接公开》 | [0135]-[0136]：“作为所述电离辐射固化性官能团具有的聚合性化合物，可以广泛使用具有乙烯性不饱和键的含氟单体。更具体地，可以例示(甲基)丙烯酸酯化合物等。” | 对比文件公开的氟系化合物可含有(甲基)丙烯酸酯基作为光反应性官能团，该基团属于目标专利所列种类之一。因此技术特征Y被直接公开。 |
| 技术特征Z：其中，所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子。《直接公开》 | [0131]：“上述硅石优选为中空硅石微粒”。[0272]实施例：“中空硅石微粒（该硅石微粒的固体成分：20质量%，溶液：甲基异丁基酮，平均粒径：50nm）”。 | 对比文件明确公开低折射率层中使用中空硅石微粒，且实施例中粒径为50nm，落在10-100nm范围内。因此技术特征Z被直接公开。 |
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