对比文件名称：2006-12-21_JP2006341177A_发明专利_JP2006341177A Coating device
目标专利名称：1739狭缝式模具涂布装置CN104781016B
模型名称：本AI模型
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| A：包括狭缝式模具（直接公开） | 说明书第[2]段：“塗布ヘッドとしては、スライドホッパー（スライドビードコータともいう）や、ダイコータ（スロットダイともいう）が用いられる。” 翻译：“作为涂布头，可以使用滑动料斗（也称为滑动珠涂布机）或模具涂布机（也称为槽模）。” | 对比文件明确提到可以使用模具涂布机（槽模即狭缝式模具），因此直接公开了技术特征A。 |
| B：该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液（直接公开） | 说明书第[2]段：“スライドビードコータ84の内部には、塗布液88（ＰＶＡ）を貯留する貯留部90が設けられており、吐出スリット92に連通されている。...塗布液がスライド面86を流れ、リップ94とアルミウエブ12との間に塗布液のビードを形成し、アルミウエブ12に塗布液が転移される。” 此外，公开了模具涂布机同样用于供应涂布液。 | 对比文件公开了涂布头（包括狭缝式模具）向基材（铝卷）供应涂布液，因此直接公开了技术特征B。 |
| C：真空室（直接公开） | 说明书第[2]段：“減圧チャンバ100は、アルミウエブ12の走行方向に対してスライドビードコータ84のリップ94の上流側の空間を囲むようにして形成されている。” 翻译：“减压室100形成为围绕铝卷12行进方向上滑动珠涂布机84的唇口94上游侧的空间。” | 对比文件明确公开了减压室，即真空室，因此直接公开了技术特征C。 |
| D：该真空室安装在所述狭缝式模具的前端（直接公开） | 同上，减压室安装在涂布头的前端（上游侧）。 | 对比文件公开了减压室设置在涂布头的前端，因此直接公开了技术特征D。 |
| E：在该真空室与所述基膜之间形成有间隙（直接公开） | 说明书第[2]段：“減圧チャンバ100のサイド板102や前板104は、アルミウエブ12やバックアップローラ82に接触しないように形成されているため、減圧チャンバ100とバックアップローラ82との間には、若干の隙間が形成されている。” 翻译：“由于减压室100的侧板102和前板104形成为不与铝卷12或背辊82接触，因此在减压室100和背辊82之间形成有微小的间隙。” | 对比文件明确公开了减压室与基材（通过背辊）之间存在间隙，因此直接公开了技术特征E。 |
| F：压力振荡减低箱（直接公开） | 说明书第[2]段：“バッファタンク112は、減圧チャンバ100とファン114とを接続する配管110の途中に配設されており、...バッファタンク112には、バッファタンク112の内部と外部とを連通する開口部116が設けられている。” 其作用：“減圧チャンバ内の負圧変動を抑制することができる。” 翻译：“缓冲罐112设置在连接减压室100和风扇114的管道110的途中，...缓冲罐112设有连通其内部和外部的开口部116。” 作用：“能够抑制减压室内的负压波动。” | 对比文件公开了缓冲罐（压力振荡减低箱）用于抑制减压室内的压力波动，因此直接公开了技术特征F。 |
| G：该压力振荡减低箱连接至所述真空室（直接公开） | 同上：“減圧チャンバ100には配管110が接続されており、この配管110はバッファタンク112を介してファン114に接続されている。” | 对比文件公开了缓冲罐通过管道连接至减压室，因此直接公开了技术特征G。 |
| H：其中连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接（直接公开） | 同上，配管110连接减压室，风扇（负压源）相当于真空泵。 | 对比文件公开了管道（第一管道）连接减压室和负压源（真空泵），因此直接公开了技术特征H。 |
| I：其中连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接（未公开） | 对比文件未公开第二管道分支连接第一管道的方式。 | 对比文件中缓冲罐串联在主管道中，没有公开在主管道一侧分支连接第二管道至缓冲罐的结构，因此技术特征I未被直接公开或隐含公开。 |
| J：压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力（未公开） | 对比文件未提及压力表。 | 对比文件没有任何关于压力表的记载，因此技术特征J未被公开。 |
| K：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1（未公开） | 对比文件未公开任何体积关系公式。 | 对比文件没有公开关于真空室体积与压力振荡减低箱体积之间的关系，因此技术特征K未被公开。 |
| L：[公式1]（未公开） | 同上。 | 同K，未被公开。 |
| M：V1≤V2（未公开） | 对比文件未公开V1和V2的比较关系。 | 同K，未被公开。 |
| N：其中V1表示所述真空室的体积（隐含公开） | 对比文件公开了真空室（减圧チャンバ），但未定义符号V1。 | 对比文件明确公开了真空室，本领域技术人员可以合理推断真空室具有体积，因此技术特征N被隐含公开。 |
| O：V2表示所述压力振荡减低箱的体积（隐含公开） | 对比文件公开了缓冲罐（バッファタンク），但未定义符号V2。 | 对比文件明确公开了缓冲罐，本领域技术人员可以合理推断缓冲罐具有体积，因此技术特征O被隐含公开。 |
| P：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2（未公开） | 对比文件未公开任何公式。 | 对比文件没有公开公式2，因此技术特征P未被公开。 |
| Q：[公式2]（未公开） | 同上。 | 同P，未被公开。 |
| R：V1+V2≥A(P2-P1)DW（未公开） | 对比文件未公开该公式。 | 同P，未被公开。 |
| S：其中V1表示所述真空室的体积(m3)（隐含公开） | 对比文件公开了真空室，但未定义体积符号或单位。 | 对比文件公开了真空室，本领域技术人员可以合理推断其体积并以常规单位表示，因此技术特征S被隐含公开。 |
| T：V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m3)（隐含公开） | 对比文件公开了缓冲罐，但未定义体积符号或单位。 | 对比文件公开了缓冲罐，本领域技术人员可以合理推断其体积并以常规单位表示，因此技术特征T被隐含公开。 |
| U：A为1m3/N至20m3/N（未公开） | 对比文件未公开任何常数A。 | 对比文件没有公开常数A及其范围，因此技术特征U未被公开。 |
| V：P1表示该真空室中的压力(N/m2)（直接公开） | 说明书第[2]段：“減圧チャンバ内の負圧値” 即减压室内的负压值。 | 对比文件明确公开了减压室内的压力（负压值），因此直接公开了技术特征V。 |
| W：P2表示大气压力(N/m2)（隐含公开） | 对比文件未明确提及大气压力，但负压环境必然涉及大气压力。 | 对比文件公开了减压室负压，本领域技术人员可以合理推断大气压力作为参考压力，因此技术特征W被隐含公开。 |
| X：D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m)（直接公开） | 说明书第[2]段：“前板104の上端は、バックアップローラ82に対してクリアランスｗを持って配設される。また、サイド板102の上部にはバックアップローラ82に合わせて円弧状に形成されており、バックアップローラ82に対して一定のクリアランスｓで形成されている。” 并给出了间隙面积计算式。 | 对比文件公开了减压室与背辊之间的间隙宽度（如w、s），因此直接公开了技术特征X。 |
| Y：W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m)（未公开） | 对比文件未提及涂层水平长度。 | 对比文件未公开涂层的水平长度这一参数，因此技术特征Y未被公开。 |
| Z：其中所述基膜为通过辊供应的基膜（直接公开） | 说明书第[2]段：“バックアップローラ82に巻きかけて連続走行する被塗布物の表面に...” 翻译：“在卷绕于背辊82上连续行走的被涂布物的表面上...” | 对比文件公开了基材通过背辊（辊）供应和输送，因此直接公开了技术特征Z。 |
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