对比文件名称：2006-12-13_JP3856114B_发明专利_JP3856114B2 Solution casting method
目标专利名称：1739狭缝式模具涂布装置CN104781016B
模型名称：DeepSeek-R1
### 特征比对表格
| 技术特征描述以及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（原文及中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括狭缝式模具《直接公开》 | 【0015】“流延ダイ１２の先端からは、セルローストリアセテートなどの高分子材料を含むドープが膜状に押し出される。”<br>（翻译：从流延模头12的前端，将含有三乙酸纤维素等高分子材料的溶液以薄膜状挤出。） | 对比文件公开了流延模头，该模头用于将溶液以薄膜状挤出，本领域技术人员可以确定其为狭缝式模具，其作用与目标专利的狭缝式模具相同，均用于向基膜供应涂布液，因此直接公开。 |
| 技术特征B：该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液《直接公开》 | 【0015】“押し出されたドープは、走行する流延バンド１４の表面に仮着し、流延される。”<br>（翻译：挤出的溶液暂时附着在运行的流延带14的表面上，并被流延。） | 对比文件明确公开了流延模头向流延带（基膜）供应溶液（涂布液），作用与目标专利相同，因此直接公开。 |
| 技术特征C：真空室《直接公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６は、流延バンド１４の走行方向に対して流延ダイ１２の上流側に設けられており、吸引ダクト２２を介してブロア２４に接続されている。”<br>（翻译：减压室16设置在流延带14的行进方向相对于流延模头12的上游侧，并通过吸引管道22连接到鼓风机24。） | 对比文件公开了减压室（真空室），用于产生负压以稳定流延，作用与目标专利的真空室相同，因此直接公开。 |
| 技术特征D：该真空室安装在所述狭缝式模具的前端《直接公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６は、流延バンド１４の走行方向に対して流延ダイ１２の上流側に設けられており”<br>（翻译：减压室16设置在流延带14的行进方向相对于流延模头12的上游侧。） | 对比文件公开了减压室安装在流延模头的上游侧（即模具前端附近），作用与目标专利相同，用于稳定涂布，因此直接公开。 |
| 技术特征E：在该真空室与所述基膜之间形成有间隙《隐含公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６の内部が負圧になり、流延ダイ１２と流延バンド１４との隙間のドープの流延部２６のうちで流延バンド１４に仮着される側の表面に吸引力が付与される。”<br>（翻译：减压室16内部变为负压，在流延模头12与流延带14之间的间隙的流延部26中，对附着于流延带14一侧的表面施加吸引力。） | 对比文件虽未明确表述减压室与基膜之间的间隙，但为了对流延部施加吸引力，减压室必须与流延带保持一定距离，本领域技术人员可以合理推断出该间隙必然存在，且该间隙用于控制气流，作用与目标专利相同，因此隐含公开。 |
| 技术特征F：压力振荡减低箱《直接公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６の１０〜１００倍の容量を有するバッファタンク２８が設けられ、減圧チャンバ１６へ振動が伝達することが防止される。”<br>（翻译：设有容积为减压室10至100倍的缓冲罐28，防止振动传递到减压室16。） | 对比文件公开了缓冲罐，其容量远大于减压室，且用于防止振动传递，即降低压力振荡，作用与目标专利的压力振荡减低箱相同，因此直接公开。 |
| 技术特征G：该压力振荡减低箱连接至所述真空室《直接公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６とブロア２４との間の吸引ダクト２２には、減圧チャンバ１６の１０〜１００倍の容量を有するバッファタンク２８が設けられ”<br>（翻译：在减压室16与鼓风机24之间的吸引管道22上设有容积为减压室10至100倍的缓冲罐28。） | 对比文件明确公开了缓冲罐设于吸引管道上，从而连接至减压室，作用与目标专利相同，因此直接公开。 |
| 技术特征H：其中连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接《直接公开》 | 【0016】“吸引ダクト２２を介してブロア２４に接続されている。”<br>（翻译：通过吸引管道22连接到鼓风机24。） | 对比文件公开了吸引管道（第一管道）连接减压室和鼓风机（真空泵），作用与目标专利相同，用于调节真空室压力，因此直接公开。 |
| 技术特征I：其中连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接《隐含公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６とブロア２４との間の吸引ダクト２２には、減圧チャンバ１６の１０〜１００倍の容量を有するバッファタンク２８が設けられ”<br>（翻译：在减压室16与鼓风机24之间的吸引管道22上设有容积为减压室10至100倍的缓冲罐28。） | 对比文件公开了缓冲罐设于吸引管道上，本领域技术人员可以合理推断出缓冲罐必然通过连接管道（第二管道）与吸引管道（第一管道）连接，该连接方式与目标专利相同，用于共同提供真空环境，因此隐含公开。 |
| 技术特征J：压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力（未公开） | 对比文件未记载压力表的相关内容。 | 对比文件未公开任何压力表，本领域技术人员无法从对比文件直接或隐含得出该特征，因此未公开。 |
| 技术特征K：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1《直接公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６の１０〜１００倍の容量を有するバッファタンク２８”<br>（翻译：容积为减压室10至100倍的缓冲罐28。） | 对比文件公开了缓冲罐容量为减压室10-100倍，即V2≥10V1，因此满足V1≤V2（公式1），作用与目标专利相同，通过体积关系降低压力振荡，因此直接公开。 |
| 技术特征L：[公式1]《直接公开》 | 同上，实际公开了V1≤V2的关系。 | 对比文件虽未以公式形式书写，但明确公开了V1与V2的比例关系，即V1≤V2，内容与目标专利的公式1等同，因此直接公开。 |
| 技术特征M：V1≤V2《直接公开》 | 同上。 | 对比文件公开了V2≥10V1，必然满足V1≤V2，因此直接公开。 |
| 技术特征N：其中V1表示所述真空室的体积《直接公开》 | 【0016】“減圧チャンバ１６の容量”<br>（翻译：减压室16的容量。） | 对比文件提及了减压室的容量，即V1，作用与目标专利相同，因此直接公开。 |
| 技术特征O：V2表示所述压力振荡减低箱的体积《直接公开》 | 【0016】“バッファタンク２８の容量”<br>（翻译：缓冲罐28的容量。） | 对比文件提及了缓冲罐的容量，即V2，作用与目标专利相同，因此直接公开。 |
| 技术特征P：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2（未公开） | 对比文件未记载公式2或任何类似关系。 | 对比文件未公开公式2，本领域技术人员无法从对比文件得出该特征，因此未公开。 |
| 技术特征Q：[公式2]（未公开） | 对比文件未记载公式2。 | 对比文件未公开公式2，因此未公开。 |
| 技术特征R：V1+V2≥A(P2-P1)DW（未公开） | 对比文件未记载该不等式。 | 对比文件未公开该不等式，因此未公开。 |
| 技术特征S：其中V1表示所述真空室的体积(m3)（未公开） | 对比文件未公开公式2，故未公开该参数定义。 | 对比文件未公开，因此未公开。 |
| 技术特征T：V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m3)（未公开） | 同上。 | 对比文件未公开，因此未公开。 |
| 技术特征U：A为1m3/N至20m3/N（未公开） | 对比文件未公开A的值或范围。 | 对比文件未公开，因此未公开。 |
| 技术特征V：P1表示该真空室中的压力(N/m2)（未公开） | 对比文件未公开该参数。 | 对比文件未公开，因此未公开。 |
| 技术特征W：P2表示大气压力(N/m2)（未公开） | 对比文件未公开该参数。 | 对比文件未公开，因此未公开。 |
| 技术特征X：D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m)（未公开） | 对比文件未公开该参数。 | 对比文件未公开，因此未公开。 |
| 技术特征Y：W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m)（未公开） | 对比文件未公开该参数。 | 对比文件未公开，因此未公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基膜为通过辊供应的基膜《直接公开》 | 【0014】“流延バンド１４は、無端状に形成され、流延ドラム２０と駆動用ドラム（不図示）との間に巻き掛けられている。この流延ドラム２０は、駆動用ドラムを回転させることによって、駆動ドラムと流延ドラム２０の回りを周回するように走行する。”<br>（翻译：流延带14形成为环形，卷绕在流延鼓20和驱动鼓（未图示）之间。通过旋转驱动鼓，流延带14在驱动鼓和流延鼓20周围循环运行。） | 对比文件公开了流延带（基膜）通过辊（流延鼓和驱动鼓）驱动运行，该基膜接收涂布液，作用与目标专利的基膜通过辊供应相同，因此直接公开。 |
根据上述比对，对比文件直接公开了技术特征A、B、C、D、F、G、H、K、L、M、N、O、Z，隐含公开了技术特征E、I。
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