对比文件名称：2007-10-18_JP2007268383A_发明专利_JP2007268383A Applicator, application method and manufacturing method of optical film
目标专利名称：1739狭缝式模具涂布装置CN104781016B
本次调用的模型名称：本API调用模型
### 特征比对表格
| 第一栏：技术特征描述及公开性判断 | 第二栏：对比文件原文引用（中文翻译） | 第三栏：公开性论述 |
| 技术特征A：包括狭缝式模具《直接公开》 | [2] “本実施形態のスロットダイコータ式塗布システム１０では、…ダイコータ１８（スロットダイ）”。（翻译：在本实施方式的狭缝式模具涂布系统10中，…狭缝式模具18（狭缝式模具）） | 对比文件明确记载了狭缝式模具（ダイコータ），因此该技术特征被直接公开。 |
| 技术特征B：该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液《直接公开》 | [2] “ダイコータ１８のスロット２４から塗布液が吐出され、ダイコータ１８とウェブ１４との間に塗布液のビード２０が液架橋される”。（翻译：从狭缝式模具18的狭缝24吐出涂布液，在狭缝式模具18与基膜14之间架设涂布液的珠20） | 对比文件明确公开了狭缝式模具向基膜（支持体）供应涂布液，因此直接公开。 |
| 技术特征C：真空室《直接公开》 | [2] “ビード２０のウェブ上流側の空間を減圧するための減圧チャンバー２６”。（翻译：用于对珠20的基膜上游侧空间进行减压的减压室26） | 对比文件明确公开了减压室（真空室），因此直接公开。 |
| 技术特征D：该真空室安装在所述狭缝式模具的前端《直接公开》 | [2] “減圧チャンバー２６は、ビード２０のウェブ上流側の空間を減圧するために設けられている”。（翻译：减压室26设置用于对珠20的基膜上游侧的空间进行减压）结合图2，减压室位于模具上游侧（前端）。 | 对比文件公开了减压室安装在狭缝式模具的前端（靠近涂布位置），因此直接公开。 |
| 技术特征E：在该真空室与所述基膜之间形成有间隙《直接公开》 | [2] “バックプレート２６Ａとウェブ１４の間」および「サイドプレート２６Ｂとウェブ１４の間」の各々には、所定の大きさの隙間が存在する”。（翻译：在背板26A与基膜14之间以及侧板26B与基膜14之间，分别存在预定大小的间隙） | 对比文件明确公开了真空室与基膜之间存在间隙，因此直接公开。 |
| 技术特征F：压力振荡减低箱《直接公开》 | [2] “バッファタンク３４は、主として減圧チャンバー２６内の圧力変動を小さくするための緩衝部としての役割を果たし、０．３ｍ３以上の大きさを有する”。（翻译：缓冲罐34主要发挥缓冲部的作用，用于减小减压室26内的压力变动，具有0.3m3以上的大小） | 对比文件明确公开了缓冲罐（压力振荡减低箱），因此直接公开。 |
| 技术特征G：该压力振荡减低箱连接至所述真空室《直接公开》 | [2] “減圧チャンバー２６とブロア３０との間のエアー配管２８にはバッファ装置３３が設けられ、減圧チャンバー２６とバッファ装置３３との間のエアー配管２８にはオリフィス３２が設けられている”。并且“バッファタンク３４は、エアー配管２８と連通する”。（翻译：在减压室26与鼓风机30之间的空气配管28上设置有缓冲装置33，在减压室26与缓冲装置33之间的空气配管28上设置有节流孔32。缓冲罐34与空气配管28连通） | 对比文件公开了缓冲罐通过空气配管连接至减压室，因此直接公开。 |
| 技术特征H：其中连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接《直接公开》 | [2] “ボトムプレート２６Ｄには吸引口４０が形成され、この吸引口４０にはエアー配管（減圧管）２８が接続されている。減圧チャンバー２６は、吸引口４０およびエアー配管２８を介してブロア（減圧手段）３０に接続され”。（翻译：在底板26D上形成吸引口40，该吸引口40连接有空气配管（减压管）28。减压室26通过吸引口40和空气配管28与鼓风机（减压手段）30连接） | 对比文件公开了真空室通过管道（第一管道）连接至真空泵（鼓风机），因此直接公开。 |
| 技术特征I：其中连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接《隐含公开》 | [2] “減圧チャンバー２６とブロア３０との間のエアー配管２８にはバッファ装置３３が設けられ”。（翻译：在减压室26与鼓风机30之间的空气配管28上设置有缓冲装置33）对比文件未明确显示第二管道与第一管道分支连接，但公开了缓冲罐连接在管道中。 | 对比文件虽然未明确描述分支连接，但本领域技术人员根据对比文件公开的缓冲罐连接在管道上的内容，可以合理推断出可以采用第二管道与第一管道一侧连接的方式来实现缓冲罐的并联或串联接入。由于隐含公开标准宽松，且对比文件未排除这种连接方式，因此该技术特征被隐含公开。 |
| 技术特征J：压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力《隐含公开》 | [2] “減圧チャンバー２６内には、圧力計３６が設けられており”。（翻译：在减压室26内设置有压力计36）对比文件压力计安装在真空室内部，而非管道上。 | 对比文件公开了压力计用于测量真空室压力，但未明确安装在管道上。然而，本领域技术人员根据对比文件公开的压力计功能，可以想到将压力计安装在管道上也能实现相同目的，这种安装方式属于常规选择。因此，该技术特征被隐含公开。 |
| 技术特征K：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1《隐含公开》 | [2] 实施例中：減圧チャンバー２６の容積が略０．０４５ｍ３，バッファタンク３４の容積が０．５ｍ３。并且“バッファタンク３４は、０．３ｍ３以上の大きさを有することが好ましい”。（翻译：减压室容积约0.045m3，缓冲罐容积0.5m3。缓冲罐优选具有0.3m3以上大小） | 对比文件未明确写出公式1，但实施例及优选数值均满足V1≤V2，且本领域技术人员可以合理推断出为了降低压力振荡，需要满足真空室体积不大于压力振荡减低箱体积。因此，该技术特征被隐含公开。 |
| 技术特征L：[公式1]《隐含公开》 | 同上，公式1的内容在对比文件中通过数值关系隐含体现。 | 与特征K相同，对比文件隐含公开了公式1的存在，因此该技术特征被隐含公开。 |
| 技术特征M：V1≤V2《隐含公开》 | 同特征K，实施例中V1=0.045m3，V2=0.5m3，满足V1≤V2。 | 对比文件通过具体数值隐含公开了V1≤V2的关系，因此该技术特征被隐含公开。 |
| 技术特征N：其中V1表示所述真空室的体积《直接公开》 | [2] “減圧チャンバー２６の容積が略０．０４５ｍ３”。（翻译：减压室26的容积约为0.045m3） | 对比文件明确记载了真空室的体积，因此直接公开了V1的含义。 |
| 技术特征O：V2表示所述压力振荡减低箱的体积《直接公开》 | [2] “バッファタンク３４として０．５ｍ３の容積を有するタンクを使用した”。（翻译：使用了具有0.5m3容积的缓冲罐） | 对比文件明确记载了压力振荡减低箱的体积，因此直接公开了V2的含义。 |
| 技术特征P：该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2《未公开》 | 对比文件全文未记载公式2或任何类似关系。 | 对比文件没有公开公式2，本领域技术人员也不能从对比文件合理推断出该公式，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征Q：[公式2]《未公开》 | 同特征P。 | 对比文件未公开公式2，因此未公开。 |
| 技术特征R：V1+V2≥A(P2-P1)DW《未公开》 | 对比文件未记载该不等式。 | 对比文件未公开该公式，因此未公开。 |
| 技术特征S：其中V1表示所述真空室的体积(m3)《直接公开》 | 同特征N，对比文件明确公开了减压室体积，单位采用m3（如0.045m3）。 | 对比文件直接公开了真空室体积及其单位，因此直接公开。 |
| 技术特征T：V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m3)《直接公开》 | 同特征O，对比文件明确公开了缓冲罐体积，单位采用m3（如0.5m3）。 | 对比文件直接公开了压力振荡减低箱体积及其单位，因此直接公开。 |
| 技术特征U：A为1m3/N至20m3/N《未公开》 | 对比文件未提及任何关于A的数值范围。 | 对比文件未公开A，因此未公开。 |
| 技术特征V：P1表示该真空室中的压力(N/m2)《直接公开》 | [2] “減圧チャンバー２６内の空気の圧力が０．４ｋＰａに保たれる”。（翻译：减压室26内的空气压力保持在0.4kPa，即400N/m2） | 对比文件直接公开了真空室内的压力值，因此直接公开了P1的含义。 |
| 技术特征W：P2表示大气压力(N/m2)《隐含公开》 | 对比文件未明确记载大气压力，但本领域技术人员熟知大气压力值。 | 大气压力是公知常识，对比文件在真空室减压的背景下必然涉及大气压力，本领域技术人员可以合理推断出该参数，因此该技术特征被隐含公开。 |
| 技术特征X：D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m)《直接公开》 | [2] “隙間を１００μｍに設定した”。（翻译：将间隙设定为100μm） | 对比文件直接公开了间隙宽度，因此直接公开。 |
| 技术特征Y：W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m)《直接公开》 | [2] “塗布幅が１４４０ｍｍに設定”。（翻译：涂布宽度设定为1440mm） | 对比文件直接公开了涂层的水平长度（涂布宽度），因此直接公开。 |
| 技术特征Z：其中所述基膜为通过辊供应的基膜《直接公开》 | [2] “バックアップローラ１２により支持された状態で連続走行するウェブ１４”。（翻译：由支撑辊12支撑且连续行走的基膜14） | 对比文件明确公开了基膜通过辊（支撑辊）供应，因此直接公开。 |
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