对比文件的名称：2001-02-21_CN1285009A_发明公开_CN1285009A 具有熔体掺杂功能的晶体生长装置
目标专利的名称：1767晶锭生长设备和制造晶锭的方法CN103732807B
本次调用的模型名称：AI助手
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括含有硅熔体的坩埚 《直接公开》 | “生长室1内是一个坩埚5，源材料如多晶硅片在该坩埚5中熔化” | 对比文件明确公开了坩埚内含有硅熔体（多晶硅熔化形成），因此直接公开特征A。 |
| 技术特征B：提拉装置 《直接公开》 | “提拉室，它在生长室上方，用于从坩埚内的熔体中提拉晶体” “拉晶工具作为一个整体用标号13表示，并包括一根细长的轴或杆件15” “绞盘和缆索构成的装置用于在其下端处升降带籽晶的杆件15” | 对比文件公开了拉晶工具及其升降装置，构成提拉装置，直接公开特征B。 |
| 技术特征C：提拉装置提拉从硅熔体生长的硅单晶晶锭 《直接公开》 | “用于通过众所周知的直拉(CZ)法生产硅单晶” “用于生产掺杂的晶体C” “然后升降杆件15(和关闭的料斗)用于生产掺杂的晶体C” | 对比文件直接公开了通过拉晶工具提拉硅单晶晶锭，故直接公开特征C。 |
| 技术特征D：掺杂剂供给单元 《直接公开》 | “一个料斗，用于装流体形式的掺杂剂，供将掺杂剂填充料向下输送到坩埚内的熔体中” (权利要求1) | 对比文件公开了料斗作为掺杂剂供给单元，用于向熔体输送掺杂剂，直接公开特征D。 |
| 技术特征E：掺杂剂供给单元与提拉装置相邻布置 《直接公开》 | “料斗61由拉晶工具13携带，用于与该提拉工具一起上下移动” “料斗安装在该杆件上用于相对杆件上下滑动” “料斗的圆筒形壁63包围杆件15” | 对比文件明确料斗安装在拉晶工具的杆件上，与提拉装置相邻，直接公开特征E。 |
| 技术特征F：用于在晶锭的生长期间供给掺杂剂 《隐含公开》 | “当降落带籽晶的拉晶工具，用于将籽晶降落到熔体中，以便进行将掺杂剂向下输送到熔体中时，该封闭件就打开” “在晶体生长操作开始时降落杆件的过程中，...将掺杂剂向下输送到熔体中” | 对比文件公开了在晶体生长操作开始时（籽晶降落阶段）将掺杂剂加入熔体，虽未在生长过程中持续供给，但熔体在生长期间含有掺杂剂，且供给发生在工艺初始阶段，本领域技术人员可合理推断该供给用于生长期间掺杂，故隐含公开特征F。 |
| 技术特征G：提拉装置包括夹持晶种的晶种夹具 《直接公开》 | “籽晶夹持器21，比如一常用的籽晶卡盘，在夹持器21的下端处，用于夹持籽晶23” | 对比文件明确公开了籽晶夹持器，直接公开特征G。 |
| 技术特征H：掺杂剂供给单元与晶种夹具组合 《直接公开》 | “从料斗61底部向下延伸的细长管状延伸件，此延伸件具有一放大的下端93，该放大的下端93在杆件的下端处包围籽晶夹持器21” | 对比文件公开了料斗通过管状延伸件与籽晶夹持器组合在一起，直接公开特征H。 |
| 技术特征I：掺杂剂供给单元包括环绕晶种的外壁 《隐含公开》 | “从料斗61底部向下延伸的细长管状延伸件，此延伸件具有一放大的下端93，该放大的下端93在杆件的下端处包围籽晶夹持器21” | 对比文件公开了管状延伸件包围籽晶夹持器，而晶种由夹持器夹持，故该延伸件实质上环绕了晶种，本领域技术人员可合理推断掺杂剂供给单元具有环绕晶种的外壁，故隐含公开特征I。 |
| 技术特征J：以预定的角度从外壁向内部延伸的容纳部 未公开 | 对比文件未公开此结构。料斗的底部为水平，壁为垂直，没有从外壁向内倾斜延伸的容纳部。 | 对比文件的料斗结构为圆筒形壁和水平底部，没有预定角度从外壁向内延伸的容纳部，也未给出任何暗示，故未公开特征J。 |
| 技术特征K：掺杂剂被容纳在容纳部中 《直接公开》 | “掺杂剂填充料83，比如，粒状锑，保持在料斗中” “在料斗中掺杂剂的填充料” | 对比文件明确掺杂剂被容纳在料斗（容纳部）中，直接公开特征K。 |
| 技术特征L：掺杂剂供给单元提供浓度高于硅熔体中的掺杂剂的浓度的掺杂剂 《直接公开》 | 对比文件使用粒状锑作为掺杂剂，其本身为纯掺杂剂，浓度远高于熔体中的掺杂浓度。 | 本领域技术人员公知，粒状锑为纯掺杂剂，其掺杂剂浓度远高于硅熔体中的浓度，因此对比文件直接公开了提供更高浓度掺杂剂的特征L。 |
| 技术特征M：掺杂剂供给单元提供浓度范围为1×10^16原子/cm³至1×10^19原子/cm³的掺杂剂 未公开 | 对比文件未公开任何浓度范围。 | 对比文件未提及掺杂剂的具体浓度或浓度范围，故未公开特征M。 |
| 技术特征N：掺杂剂供给单元提供浓度范围为1×10^17原子/cm³至1×10^18原子/cm³的掺杂剂 未公开 | 对比文件未公开任何浓度范围。 | 对比文件未提及具体浓度范围，故未公开特征N。 |
| 技术特征O：容纳部包括通孔 《直接公开》 | “在所述底65中有一中央口67，它构成料斗的卸料口” | 对比文件公开了料斗底部有卸料口（通孔），直接公开特征O。 |
| 技术特征P：颈部穿透所述通孔 未公开 | 对比文件未公开颈部穿透通孔的结构。 | 对比文件中的通孔（卸料口）用于卸出掺杂剂，晶锭（晶体）从籽晶生长，不会穿过该通孔，故未公开特征P。 |
| 技术特征Q：掺杂剂供给单元被固定至提拉装置 未公开 | 对比文件公开料斗可滑动地安装在杆件上：“料斗安装在该杆件上用于相对杆件上下滑动” | 对比文件明确料斗可相对杆件滑动，而非固定连接，故未公开特征Q。 |
| 技术特征R：通过掺杂剂供给单元在晶锭中提供的掺杂剂为磷或硼 未公开 | 对比文件使用锑作为掺杂剂：“用粒状锑” “用锑作为掺杂剂”。 | 对比文件明确掺杂剂为锑，而非磷或硼，故未公开特征R。 |
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