**对比文件名称**：2005-11-03_US2005243253A_发明申请_US20050243253A1 Substrate with parallax barrier layer, method for producing substrate with parallax barrier layer, and three-dimensional display
**目标专利名称**：1789立体图像显示器的多功能滤光片和包括其的立体图像显示装置 CN103154802B
**本次调用的模型名称**：AI Assistant（GPT-4类模型）
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译为中文） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：包括，所述图像产生单元包括在一侧具有透明电极的上基板<br>《隐含公开》 | [0035]“三维显示装置100包括第一基板11，其布置成更靠近观察者并由透明材料制成，与第一基板11相对的第二基板21，插入在第一基板11和第二基板21之间的液晶层30，以及设置在第一基板表面上以面向观察者的视差屏障层12。”<br>[0036]“如果需要，可以额外设置电极（例如，公共电极，未示出）和/或取向膜（也未示出）。” | 对比文件明确公开了第一基板11作为上基板，并指出可设置电极（如公共电极）。本领域技术人员公知LCD的上基板（CF基板）通常具有透明ITO电极以形成电场驱动液晶，因此从对比文件可以合理推断出上基板具有透明电极，故隐含公开。 |
| **技术特征B**：与所述上基板间隔开并在一侧具有透明电极的下基板<br>《直接公开》 | [0035]“与第一基板11相对的第二基板21”<br>[0037]“在第二基板21上，如果需要，可以设置像素电极、TFT、数据线和/或取向膜（均未在图1中示出），以面向液晶层30。” | 对比文件直接公开了第二基板21与第一基板11相对设置，并且第二基板21上设置有像素电极。像素电极通常由透明导电材料（如ITO）形成，用于对液晶施加电压，故直接公开了具有透明电极的下基板。 |
| **技术特征C**：插入所述上基板和所述下基板之间的液晶晶胞<br>《直接公开》 | [0035]“插入在第一基板11和第二基板21之间的液晶层30” | 对比文件明确记载了液晶层30位于第一基板11和第二基板21之间，即液晶晶胞，故直接公开。 |
| **技术特征D**：滤光片<br>《未公开》 | 无直接对应内容。 | 目标专利的滤光片是集成了3D滤光层和滤色层的独立多功能滤光片，可附着于显示面板外侧。对比文件中，视差屏障层12和滤色层13分别形成于第一基板11的两侧，且视差屏障层直接形成于基板表面，并非独立滤光片结构，因此未公开本特征。 |
| **技术特征E**：所述滤光片包括被图案化为调整右眼图像的偏振状态的第一区域和调整左眼图像的偏振状态的第二区域的3D滤光层<br>《未公开》 | 无对应内容。 | 目标专利的3D滤光层通过图案化相位差（如光程差膜）调整偏振状态实现左右眼分离。对比文件的视差屏障层12由不透明部分12a和透明部分12b组成，通过遮光原理实现视差，而非调整偏振状态，故未公开。 |
| **技术特征F**：具有RGB图案的滤色层<br>《直接公开》 | [0036]“在第一基板11上设置有带黑矩阵14的彩色滤光层13，以面向液晶层30。”<br>[0047]“例如，依次提供R、G、B三色或C、M、Y三色的滤色器。” | 对比文件明确公开了彩色滤光层13包含RGB三色图案，故直接公开。 |
| **技术特征G**：所述滤光片设置在所述上基板的外侧。<br>《未公开》 | 无对应内容。 | 目标专利的滤光片独立设置于上基板（显示面板）外侧。对比文件中，视差屏障层12形成于第一基板11的观察者侧表面，滤色层13形成于另一侧，且无独立滤光片附着于基板外侧，故未公开。 |
| **技术特征H**：还包括，位于所述3D滤光层和所述滤色层之间的粘合层。<br>《未公开》 | 无对应内容。 | 目标专利在3D滤光层和滤色层之间设有粘合层。对比文件中，视差屏障层12和滤色层13分别位于第一基板11的两侧，中间隔有基板，无直接粘合层，故未公开。 |
| **技术特征I**：还包括，位于所述滤光片的最上层上的粘合层。<br>《未公开》 | [0059]“透光部分12b将被用于将偏振片40粘合到视差屏障层12的粘合层填充。” | 对比文件虽提及粘合层，但该粘合层位于视差屏障层12与偏振片40之间，并非滤光片（视差屏障层+滤色层）的最上层，故未公开。 |
| **技术特征J**：其中，所述滤色层通过印刷法形成。<br>《未公开》 | 无对应内容。 | 对比文件仅描述了光刻法形成滤色层，未提及任何印刷法，故未公开。 |
| **技术特征K**：其中，所述滤色层通过喷墨印刷法或凹版印刷法形成。<br>《未公开》 | 无对应内容。 | 对比文件未提及喷墨印刷法或凹版印刷法，故未公开。 |
| **技术特征L**：其中，所述滤色层通过光刻法形成。<br>《直接公开》 | [0049]“例如，如果第一颜色层13a通过光刻工艺限定，则首先将作为第一颜色层13a的第一光敏树脂层几乎沉积在第一基板11的整个背表面上，使其不与第一对准标记15重叠。接下来，将光掩模相对于第一对准标记15对准，从而将第一光敏树脂层暴露于辐射。此后，进行显影和其他工艺步骤以限定第一颜色层13a。” | 对比文件明确记载了通过光刻法（photolithographic process）形成滤色层，故直接公开。 |
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