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权利要求与技术特征
权利要求 1
A
所述半色调掩膜具有多重半透过部分
B
并且半色调掩膜能够通过调节形成所述多重半透过部分的狭缝式光阻挡壁的图案密度来调节透射率。
权利要求 2
C
其中
D
在所述半色调掩膜中的所述多重半透过部分具有在半透过膜上形成所述狭缝式光阻挡壁的结构
E
在光阻挡层上形成狭缝式光阻挡壁的结构并且该结构上形成有半透过膜；或两种结构的复合结构。
权利要求 3
F
其中
G
所述半透过膜采用具有在4～75%范围内的透射率的半透过材料。
权利要求 4
H
其中
I
在0.1μm～1.3μm的范围内调节所述狭缝式光阻挡壁的线宽。
权利要求 5
J
其中
K
所述半透过材料是具有Cr、Si、Mo、Ta、Ti、Al中的一种作为主要元素的材料；或混合有至少两种或更多种所述元素的复合材料；或向所述具有Cr、Si、Mo、Ta、Ti、Al中的一种作为主要元素的材料或所述复合材料中加入Cox、Ox、Nx中的至少一种的材料。