A 该电磁波入射在所述设备上

B 所述设备包括至少一个介电材料层

C 所述至少一个介电材料层包括至少一个腔

D 所述至少一个腔填充有第一折射指数小于所述介电材料的第二折射指数的介质

E 其中

F 所述至少一个腔近似为圆柱形或锥形

G 所述至少一个腔包括至少一个底表面和至少一个侧表面

H 该至少一个底表面相对于所述入射电磁波的到达方向限定

I 其中

J 所述至少一个底表面由具有新月形状的底边缘线描绘

K 所述底边缘线包括凹底边缘线段和凸底边缘线段

L 其中

M 所述底边缘线的形状

N 所述至少一个腔的取向

O 所述至少一个底表面与所述至少一个侧面之间的相关联的底角

P 中的一个或多个控制所述至少一个倾斜聚焦束的方位角

Q 所述方位角由以下角位置限定

R 所述至少一个倾斜聚焦束在与所述入射电磁波的所述到达方向正交并且包括所述至少一个底表面的至少一部分的平面中的投影的角位置；并且中所述至少一个倾斜聚焦束由于源自所述凹底边缘线段的不同部分的纳米喷射束的重新组合而形成

S 所述至少一个倾斜聚焦束的方向与所述入射电磁波的方向不同。