一种用于保护膜的粘合剂组合物，所述粘合剂组合物包含：丙烯酸类聚合物；抗静电剂，所述抗静电剂为选自含金属离子的无机盐、离子液体有机盐及其组合中的任一者；基于异氰酸酯的固化剂；和含低聚物的添加剂；所述含低聚物的添加剂为包含下式1的第一亲水性单体、下式2的第二亲水性单体和下式3的基于有机硅的单体的第一混合物的聚合物；其中基于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，所述含低聚物的添加剂的含量为0.1重量份至1.0重量份；以及其中基于100重量份的所述第一亲水性单体，所述第二亲水性单体的含量为50重量份至150重量份；[式1]其中R1和R3各自独立地为氢或者具有1至5个碳原子的线性或支化烷基，R2为具有1至5个碳原子的线性或支化亚烷基，以及n为在1至30的范围内的自然数；[式2]其中R4为氢或者具有1至5个碳原子的线性或支化烷基，以及R5和R6各自独立地为直接键或者具有1至5个碳原子的线性或支化亚烷基，R7为具有1至5个碳原子的线性或支化亚烷基，以及R8为具有2至6个碳原子的线性或支化亚烯基；[式3]其中R9为具有1至5个碳原子的线性或支化亚烷基，R10为具有1至8个碳原子的线性或支化烷基，以及m为在5至10的范围内的自然数

作为一名经验丰富的专利代理师，我将紧密结合目标专利（授权公告号：CN114402052B）的说明书，对权利要求1进行深入的法律和技术解析。同时，结合对比文件1（公开号：JP2014043558A，以下简称D1）的原文进行细致的特征比对与创造性分析，并为您指出无效请求中的薄弱环节，提供下一步的检索策略。

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### 一、 紧密结合说明书解释权利要求1

目标专利权利要求1保护的是一种“用于保护膜的粘合剂组合物”。通过研读目标专利说明书，各关键组分和限定的技术实质解释如下：

1. **丙烯酸类聚合物（技术特征A）：**

根据说明书[0043]-[0056]，该聚合物作为基础树脂（ベースポリマー），用以确保粘合剂固化产物的基本物理特性。其优选由特定比例的丙烯酸2-乙基己酯（2-EHA）、丙烯酸丁酯（BA）、丙烯酸4-羟乙酯、丙烯酸4-羟丁酯及甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯（MPEGMA）聚合而成，以控制玻璃化转变温度（Tg）和固体含量。

2. **抗静电剂（技术特征B）：**

说明书[0057]-[0062]指出，抗静电剂用以降低表面电阻和剥离静电电压，防止剥离时产生静电。无机盐优选为双(三氟甲磺酰基)酰亚胺锂（LiTFSI），离子液体有机盐优选包含吡啶鎓阳离子和双(三氟甲磺酰基)酰亚胺阴离子，其用量严格限定为0.1~1.0重量份，以在低添加量下维持低剥离静电电压。

3. **基于异氰酸酯的固化剂（技术特征C）：**

说明书[0063]-[0066]表明，该固化剂用于与丙烯酸类聚合物进行交联反应，控制固化度和物理特性。

4. **含低聚物的添加剂（技术特征D、E、F、G、H、I）：**

这是本专利的核心发明点。根据说明书[0001]和[0071]-[0083]，该添加剂是一种由**第一亲水性单体（式1，如MPEGMA）**、**第二亲水性单体（式2，如DCPMA甲基丙烯酸二环戊烯酯）**和**基于有机硅的单体（式3，如FM-0711）**组成的第一混合物的聚合物（低聚物）。

* **技术协同机理：** 第一亲水性单体（式1）和第二亲水性单体（式2）含有特殊的聚醚和环状结构，与抗静电剂（金属离子/离子液体）产生相互作用，通过分子运动促进离子解离与传导，从而大幅度降低剥离静电电压（ESD）。基于有机硅的单体（式3）由于低极性，倾向于向粘合剂表面（被着体界面）偏在（吸附/富集），从而**显著降低高速剥离强度**。同时，第二亲水性单体（式2）的嵩厚脂环族结构（如桥环结构）起到了调节相溶性平衡的作用，**能显著提高低速剥离强度**，防止保护膜在层合后自行脱落（解决“浮起或剥离”问题）。

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### 二、 技术特征比对表

我们将目标专利权利要求1拆解为技术特征A~I，并与对比文件1（D1: JP2014043558A）的原文进行逐一比对分析。

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### 三、 最接近的对比文件（D1）及创造性辩论

#### 1. 为什么D1最适合作为最接近的对比文件

在创造性分析中，**D1（JP2014043558A）绝对适合作为最接近的对比文件**。

* **整体解决的技术问题相同：** D1在[0012]中明确指出，其旨在解决保护膜在高速度剥离时粘着力过大导致作业性变差、在低速度剥离时易发生“浮起和剥离（浮きや剥がれ）”的问题，同时还要在低湿度恶劣环境下抑制剥离静电电压。这与目标专利说明书[0007]-[0008]中解决的“改善低速剥离强度、降低高速剥离强度、使静电最小化、防止污染”的技术问题完全一致。

* **技术方案高度重合：** 如比对表所示，D1不仅公开了丙烯酸聚合物+抗静电剂+固化剂的三组分基础框架，更极为精准地公开了由“**脂环式单体+聚氧亚树基单体+有机硅单体**”三元共聚而成的低聚物添加剂（重合体B），其组分性质与目标专利的式1、式2、式3一一对应。

#### 2. 未被D1公开的特征及其他文件情况

未被D1直接公开的特征为**特征F中的量化配比**：即“基于100重量份的第一亲水性单体（式1），第二亲水性单体（式2）的含量为50重量份至150重量份”。

* D1虽然在具体实施例中公开了重合体B的数种配比（例如DCPMA/PME-1000/X-22-2475 = 10/35/55 等），但其第一/第二单体的相对比例换算后未直接落在50~150重量份的区间内，或者其属于选择性发明。

* 目前在案的**没有其他对比文件**直接给出这一特定配比。

#### 3. 创造性评价（请求方视角）

尽管存在上述配比差异，但作为无效请求方，仍有极强的理由主张其不具备创造性：

D1明确提示了脂环式单体（式2）用于提高低速粘着力，有机硅单体（式3）用于降低高速剥离力，聚氧亚树基单体（式1）用于导电。本领域技术人员为了平衡低速剥离强度（防止浮起）和剥离静电电压，在D1给出的三元共聚物基础上，通过常规的“实验探寻”或“常规参数优化”，即可轻而易举地调整第一亲水性单体与第二亲水性单体的比例。目标专利中“50~150重量份”的配比并未带来预料不到的技术效果（从目标专利表1和表2的数据来看，其效果属于线性变化的正常范围）。因此，该配比属于**常规设计选择**，不具备创造性。

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### 四、 无效请求方最薄弱的技术特征

对于无效请求方（希望宣告该专利无效的一方）而言，**最薄弱（最难攻破）的技术特征是：特征F中关于低聚物添加剂内部各单体特定的量化配比关系（即：基于100份式1，式2为50至150份）**。

**原因分析：**

1. **防守壁垒（专利权人的抗辩点）：** 专利权人在无效答辩中一定会紧紧抓住这个“数值范围”不放。他们会主张，只有当第一亲水性单体（传导离子）与第二亲水性单体（脂环族调节相容性）的比例严格处于50~150重量份时，低聚物在丙烯酸基体中的微观相分离或界面偏在行为才能达到完美平衡，从而实现“低速剥离力显著大（≥4.0gf/英寸）”与“剥离静电电压显著低（≤0.30kV）”的**双重极端技术效果**。

2. **数据的表观支持：** 目标专利在说明书的表1和表2中故意构建了比较例。例如比较例1-2、1-3或比较例2-2，用来证明一旦偏离这个配比或缺少组分，性能就会发生断崖式下跌（污染评估为NG、或ESD电压飙升）。如果请求方不能拿出直接的有力证据反驳该变动属于常规手段，审查员很容易倾向于认可这是一个“具有改良效果的数值选择”，从而维持权利要求有效。

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### 五、 进一步的检索策略

为了彻底攻破上述薄弱环节（特征F的特定配比），建议无效请求方采取以下精准检索策略：

1. **聚焦“低聚物（添加剂）”本身的制备专利：**

* **策略说明：** 很多时候，这种三元或多元共聚的丙烯酸树脂低聚物并不是为了粘合剂临时开发的，而是由某些精细化工大厂（如日油、信越、BYK、东亚合成等）作为常规的“表面改性剂”、“流平剂”或“抗静电改性剂”单独申请了专利或作为商品贩售。

* **检索方向：** 专门检索在2020年3月（目标专利申请日）之前公开的、同时包含“脂环族(甲基)丙烯酸酯（如DCPMA/IBXMA）”、“聚开二醇(甲基)丙烯酸酯（如MPEGMA）”和“有机硅大分子单体”三元共聚物的合成及应用专利。一旦在其说明书的实施例中发现有任何一款低聚物制备的单体配比落入或重叠了“50~150%”的范围，特征F的配比就属于**公知常识的直接应用**。

2. **采用“效果互补”的联合检索（多份对比文件结合）：**

* 寻觅D2或D3，其公开了一种相似的丙烯酸类保护膜粘合剂，虽然其低聚物缺少有机硅单体，但明确记载了：“为了平衡膜的低速防脱落性与离子的传导效率，亲水性单体A与脂环族单体B的重量比例通常优选为1:0.5 ~ 1:1.5（即50~150重量份）”。以此证明该比例在同类改性体系中是**技术领域的通用指导原则**。

3. **关键词与IPC分类号精准组合：**

* **IPC分类号：** `C09J133/08`（丙烯酸酯聚合物粘合剂）、`C09J11/06`（有机添加剂）、`C08F220/18`（多种单体共聚）。

* **扩展关键词：** (二环戊烯酯 OR 异ボルニル OR 脂环式) AND (メトキシポリエチレングリコール OR 分子内聚醚) AND (シリコーンマクロモノマー OR 有机硅单体) AND (比率 OR 配比 OR 質量部)。

4. **优先检索日本（JP）及韩国（KR）同行专利：**

* 鉴于目标专利的优先权来源于韩国（2020年韩国申请），且提及了Chisso（智索）、Sam Young、TAK等日韩供应商，该技术路线在日韩光学膜领域（如三星、LG、日东电工、东丽）具有极高的技术连续性。重点检索这些巨头在2015-2020年间关于“偏光片保护膜防静电粘合剂（粘着剤、剥離帯電圧、浮き、高速剥離）”的专利，常能抓到包含该特定配比的盲点证据。

您好！作为一名经验丰富的专利代理师，我将为您对本案目标专利的权利要求1进行深度解析，并结合您提供的四份对比文件（D1\~D4）进行技术特征的比对、创造性最接近对比文件的确立、无效请求最薄弱特征分析，以及下一步的补充检索策略指导。

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### 一、 目标专利权利要求1的物理解析与技术实质

目标专利（CN114402052B）的核心在于解决**用于保护膜的丙烯酸类粘合剂组合物在剥离时“低速剥离强度不足导致脱落”、“剥离时产生高静电电压导致污染/击穿”以及“在光学构件（如偏光板）上留下残留物（污染）”之间的平衡矛盾**。

权利要求1的核心技术手段是引入了一种**“特定单体比例、特定复配结构”的含低聚物添加剂**，并将其与**特定类型的抗静电剂**、**基于异氰酸酯的固化剂**及**丙烯酸类聚合物**进行复配。

根据目标专利说明书的记载，常规保护膜通过外加大量界面活性剂或常规抗静电剂来降静电，但这会严重破坏剥离力平衡并导致严重的残留污染。而本专利通过添加极微量（0.1\~1.0重量份）的、由亲水性单体（式1、式2）与基于有机硅单体（式3）共聚而成的低聚物添加剂，利用有机硅成分与亲水成分的协同微观相分离与表面迁移，既降低了剥离静电和表面电阻，又大幅提升了低速 Peel 强度（剥离力），且有效避免了糊残留。

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### 二、 技术特征比对表格及详细出处分析

为了清晰比对，我们将权利要求1拆解为9个技术特征（A至I），并将对比文件进行如下代称：

* **D1**: JP2011063712A (*Surface protective film*)

* **D2**: JP2013185007A (*Adhesive composition and surface protecting film*)

* **D3**: JP2014189716A (*Re-releasable tackifier and tacky sheet*)

* **D4**: JP2016003245A (*粘着剤組成物、粘着シート、及び、光学部材*)

#### 1. 技术特征比对表

#### 2. 各对比文件原文的详细出处说明

* **D1 (JP2011063712A)**：

* **特征A/C/G**：见原文【ベースポリマー】部分：“アルキレンオキサイド基を有するアクリルモノマー...水酸基を含有するアクリルモノマー”，并明确提及“ＭＰＥＧＭＭ、２ＥＨＡ、ＢＡ”。固化剂公开于“硬化剤（架橋剤）...イソシアネート系”。

* **特征B**：见原文【带电防止剂】部分：“金属塩、イオン性液体のような有機塩...リチウム＝ビス（トリフルオロメチルスルフォニル）イミド”。

* **特征F（外添量）**：见原文：“アクリル系粘着剤１００質量部に対して、０．００５質量部よりも多く、５質量部よりも少ない範囲...更には０．１〜１．０質量部程度の少量で十分な効果が得られる。”（**高度吻合目标专利的0.1\~1.0重量份限制**）。

* **D2 (JP2013185007A)**：

* **特征A/B/C/G**：见原文【课题解决手段】：“（A）アクリル酸エステルモノマー...（B）水酸基を含有するモノマー...（C）カルボキシル基を含有するモノマー...（D）ポリアルキレングリコールモノ...（E）３官能以上のイソシアネート化合物...（H）帯電防止剤（イオン性化合物）”。

* **特征D/F/I**：见原文关于（I）聚醚改性硅氧烷化合物的描述，HLB值为7\~12，添加量为“共重合体の100重量部に対して0.01〜0.5重量部”。

* **D3 (JP2014189716A)**：

* **特征D/I**：该文通过**共聚**方式将有机硅引入丙烯酸聚合物侧链，见一般式（1）\~（6）的“ポリジメチルシロキサン構造を有するモノマー（A）”，用以解决外添型聚醚改性硅氧烷与丙烯酸相容性差、易发生相分离和糊污染的问题。

* **D4 (JP2016003245A)**：

* **特征A/B/C/D**：明确公开了炭素数1\~14的丙烯酸聚合物、抗静电剂（离子性化合物）、氧代烷撑链聚硅氧烷及架桥剂的复配组合。

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### 三、 创造性分析：最接近对比文件的确立

在创造性评述中，**最接近的对比文件（最接近的现有技术）**应当选择与目标专利**技术领域相同、所解决的技术问题最相似、且公开的技术特征最多**的文件。

本案中，适合作为最接近对比文件的有**两个**（双路线出发）：

#### 最佳最接近对比文件：D2 (JP2013185007A) 或 D1 (JP2011063712A)

##### 理由分析：

1. **技术领域与整体解决的技术问题完全一致**：D1、D2与目标专利均属于“用于液晶显示器光学构件（偏光板等）保护膜的丙烯酸类粘合剂组合物”领域。它们整体解决的技术问题完全相同，即：**如何在实现高效抗静电（降低剥离静电电压）的同时，维持低速与高速剥离力的平衡，并且防止糊残留（被着体污染）**。

2. **技术架构和组分最为接近**：D1和D2均采用了“丙烯酸聚合物 + 异氰酸酯固化剂 + 离子液体/金属盐抗静电剂 + 改性聚硅氧烷（硅氧烷化合物）”的四组分共混架构。

3. **数值范围高度重合**：D1和D2中关于改性硅氧烷添加剂的加入量（D1公开了0.1\~1.0重量份，D2公开了0.01\~0.5重量份），与目标专利权利要求1限定的“0.1重量份至1.0重量份”高度重合。

#### 辅助最接近对比文件（路线二）：D3 (JP2014189716A)

##### 理由分析：

目标专利虽然将含有机硅的组分称为“添加剂”，但其本质是一个由三种单体共聚而成的“低聚物聚合物”。D3的核心发明点正是发现“直接外添聚醚改性硅氧烷会导致相容性差、在高温下相分离产生透明度下降和剥离力恶化”，从而发明了**“将基于有机硅的丙烯酸单体（式3类似物）与丙烯酸酯单体进行共聚”**的技术方案。这与目标专利“合成一个特定低聚物再外添”的构思在“解决硅氧烷与丙烯酸树脂相容性/糊污染”的思路上高度契合。

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### 四、 区别技术特征与现有技术公开情况

以 **D2（或D1）** 作为最接近的现有技术，目标专利权利要求1的技术方案存在的**区别技术特征**为：

> **区别特征1（特征E/G/H/I）**：D2/D1中加入的含低聚物添加剂是市售的成品聚醚改性硅氧烷（如KF-351A等）；而目标专利限定该添加剂必须是由**式1（第一亲水单体）+ 式2（第二亲水单体）+ 式3（基于有机硅的单体，m=5-10）**三种特定单体聚合而成的低聚物。

> **区别特征2（特征F）**：限定了该低聚物内部，第二亲水性单体基于第一亲水性单体的特定配比（50\~150重量份）。

#### 没有被最接近对比文件（D2/D1）公开的特征，是否被其他对比文件公开？

1. **关于特征I（式3的有机硅单体）**：被 **D3** 实质公开。D3公开了具有聚ジメチルシロキサン结构的丙烯酸酯单体（一般式2\~6），明确指出了这种带有硅氧烷链段的单体可以参与丙烯酸类共聚。

2. **关于特征G（式1单体）**：被 **D1、D2、D3** 普遍完全公开。即聚烷撑二醇单(甲基)丙烯酸酯（如MPEGMA）属于本领域的常用亲水/抗静电共聚单体。

3. **关于特征H（式2单体）以及特征F的内部比例限制**：**未被任何一篇对比文件公开**。所有对比文件（D1\~D4）均未提及式2所代表的特定直接键/亚烷基/亚烯基组合的环状或复杂侧链亲水单体，更没有提到这两种亲水单体在低聚物内部必须满足50\~150重量份的精细配比。

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### 五、 无效请求方最薄弱的技术特征（专利权人的“护城河”）

如果您代表**无效请求方**尝试无效这篇专利，以下技术特征是目前证据链中**最薄弱、最难攻克**的痛点：

1. **【最薄弱点】特征H（式2第二亲水性单体结构）的结合启示缺失**：

现有技术（D1\~D4）中，为了使硅氧烷与丙烯酸基体相容或者提高抗静电性，通常只懂得引入式1类的聚醚链（聚氧乙烯/聚氧丙烯）。目标专利在此基础上进一步引入了**式2结构的第二亲水单体**。在现有技术没有公开式2结构化合物可用于保护膜粘合剂的前提下，请求方极难论证“本领域技术人员有动机引入式2单体与式1、式3单体进行三元低聚物共聚”。

2. **【次薄弱点】特征F内部数值比例（50\~150重量份）的“预料不到的技术效果”**：

目标专利在说明书实施例2-1\~2-4中展示了，当添加剂采用式1+式2+式3三元共聚，且第二亲水单体比例在限定范围内时，剥离静电电压能降到 0.30kV 以下，且低速剥离力显著维持在 4.0gf/inch 以上的高水平。专利权人会极力主张该特定配比带来了“剥离力不下降且静电超低”的**选择发明/预料不到的协同效应**。请求方若无相反的实验数据或反证，很难仅凭推论推翻其创造性。

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### 六、 针对无效方的下一步进一步检索策略

鉴于目前的D1\~D4虽然构建了极佳的“四组分基本架构（D1/D2）”和“有机硅单体共聚（D3）”的框架，但在**“添加剂聚合物的单体组成”**上存在缺口。建议发起第二轮精准检索，策略如下：

1. **围绕“含低聚物添加剂”进行化合物/高分子结构结构检索（重点攻克特征H和E）**：

* **检索母体/核心词**：不要局限于保护膜粘合剂领域。放宽至“涂料、界面活性剂、高分子嵌段/防污添加剂、有机硅防蜡剂、剥离调节剂”等相近流体化学领域。

* **结构式检索（STN/D networks / Reaxys）**：将目标专利的**[式2]**和**[式1]**的丙烯酸酯化产物作为共同结构片段，检索同时包含这两种单体单元（或再加上式3硅氧烷单体）的共聚物（低聚物）聚合物CAS号。只要能检索到任意一篇在2020年3月前公开的论文或专利中采用了式1+式2+式3共聚作为“丙烯酸树脂的流平剂/防污剂/表面改性剂”，创造性链条即可彻底闭合。

2. **针对“式2单体”的商品名反查与常规共聚物检索**：

* 根据目标专利实施例2-1，式2的优选对象为**“甲基丙烯酸二环戊烯酯（DCPMA）”**或其衍生物。

* **精准检索式**：`("二环戊烯酯" OR "DCPMA" OR "dicyclopentenyl") AND ("有机硅单体" OR "硅油" OR "シロキサン" OR "シリコーンモノマー") AND ("共重合" OR "低聚物" OR "オリゴマー")`。

* 寻找将DCPMA与有机硅丙烯酸酯（如FM-0711）共聚作为改性添加剂的现有技术。

3. **拟定具体的检索式示例（以公开号和中近日文库为例）**：

* *(日文库)*：`(粘着剤 + 接着剤) * (シリコーンモノマー + ジメチルシロキサン) * (ジシクロペンタニル + ジシクロペンテニル + 複素環アクリレート) * 帯電防止`

* *(英文/IPC分类库)*：在 `C09J133/00`（丙烯酸粘合剂）或 `C08F220/00`（共聚物）分类号下，合并检索关键词 `(dicyclopentenyl* OR "式2官能团英文") AND (siloxane* OR silicone macromer) AND (antistatic OR "peel force")`。

通过上述策略，一旦检索到公开了“包含甲基丙烯酸二环戊烯酯（式2）与有机硅大单体共聚的低聚物添加剂”的对比文件（简称为D5），即可配合现有的D2（最接近现有技术），以 **D2 + D5（或再结合D3）** 的组合，对目标专利权利要求1给予致命的创造性打击。

作为一名经验丰富的专利代理师，我将为您针对目标专利的权利要求1进行深入的法律和技术分析。

目标专利（CN114402052B）主要解决的是保护膜用粘合剂在剥离时**“容易在光学构件（如偏光板）上留下残留物（污染）”**、**“剥离静电电压大”**以及**“低速剥离强度降低导致脱落”**的技术问题。其核心技术方案是通过在丙烯酸类聚合物、抗静电剂、固化剂的基础上，加入一种**特定的含低聚物的添加剂**，该添加剂由特定的亲水性单体和基于有机硅的单体共聚而成，从而平衡低速/高速剥离力，并降低静电。

以下是紧密结合权利要求原文、说明书及三份日特开对比文件的详细无效宣告可行性分析。

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### 一、 权利要求1的技术特征分解与解释

根据目标专利说明书的公开内容，对权利要求1（技术特征A~I）的解释如下：

* **技术特征A（丙烯酸类聚合物）：** 作为粘合剂基体（主体树脂），提供基本的内聚力和粘附基础。

* **技术特征B（抗静电剂：金属离子无机盐/离子液体有机盐）：** 说明书明确指出如双(三氟甲磺酰基)酰亚胺锂（LiTFSI）或吡啶类离子液体，用以降低表面电阻，抑制剥离静电。

* **技术特征C（基于异氰酸酯的固化剂）：** 起到交联剂作用，与丙烯酸聚合物中的羟基等官能团反应，控制固化度和弹性模量。

* **技术特征D、E、G、H、I（含低聚物的添加剂及其单体结构）：** 这是核心发明点。该添加剂是**第一混合物**的聚合物，必须同时包含：

* **式1（第一亲水性单体）：** 如甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯（MPEGMA），提供亲水性和防污染桥梁。

* **式2（第二亲水性单体）：** 如甲基丙烯酸二环戊烯酯（DCPMA），含有不饱和双环烷基（亚烯基结构），用于调节内聚力和剥离力平衡。

* **式3（基于有机硅的单体）：** 带有聚硅氧烷侧链（m=5~10）的（甲基）丙烯酸酯，利用有机硅的低表面能提供表面偏聚和滑爽性，降低高速剥离力。

* **技术特征F（各组分重量份配比）：** 限制了添加剂在整体中的比例（0.1~1.0份）以及第一/第二亲水性单体之间的比例（50~150份），用于限定能同时满足“OK级无污染”、“低速剥离力达3.0-4.5 gf/in”和“剥离静电低于0.30 kV”的特定窗口。

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### 二、 对比文件特征比对表

我们将三份对比文件：

* **D1：** JP2016204661A（一种耐热、易剥离的半导体加工暂存粘合组合物）

* **D2：** JP2017530202A（一种高/低速剥离平衡、低污染的防静电保护膜粘着剂组合物）

* **D3：** JP2018199754A（一种经时粘着力上升的粘着剂组合物）

与目标专利的权利要求1进行技术特征横向比对：

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### 三、 最接近对比文件（最接近现有技术）的选择

在创造性分析过程中，**D2（JP2017530202A）最适合作为最接近的对比文件**。

**原因分析（从整体解决的技术问题和技术效果角度）：**

1. **技术领域与应用完全重合：** D2明确指出其发明属于“光学素子保护用贴膜、粘着剂组合物”[0002]，特别用于偏光板等光学部材的保护[0009]，这与目标专利的应用场景（用于光学偏光板的保护膜粘合剂）完全一致。

2. **解决的技术问题高度一致：** D2要解决的核心问题是：保护膜剥离时既要满足“高速剥离力低、低速剥离力高（即平衡）”[0004]，又要具备“优秀的静电防止特性（降低剥离静电）”[0003]，且“被着体长时付着后剥离不留污染（无残渣/无残胶）”[0009]。这与目标专利[0005]-[0008]部分所述的技术痛苦和发明目的完全契合。

3. **技术效果的追求相同：** D2通过引入特定单体和抗静电剂，达到了表面抵抗力优秀、剥离带电压低、无残胶的效果[0119]，其评价标准中包含ESD（剥离带电压）和污染度评估[0124]-[0127]，这与目标专利测试例4、5的方法及效果方向如出一辙。

*注：D3（JP2018199754A）虽然公开了最为接近的“添加剂重合体(B)”及“式3有机硅大单体结构”，但其整体解决的技术问题是“无需能量付与而使贴合初期粘着力低、经时接着性向上（易重工性）”[0009]，并未关注防静电及偏光板防污染问题，因此在整体技术思路上D2更接近。不过，在实际无效诉讼中，**D3可以作为硬核的结构对比文件，与D2结合使用。***

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### 四、 未被最接近对比文件公开的特征及其他对比文件的公开情况

以**D2**作为最接近的对比文件，其未公开目标专利权利要求1的以下特征：

1. **特征D、E：** 偏光板防污染和调节剥离力的成分不是直接共聚在主链上，而是通过**额外添加一种一、二亲水单体与有机硅单体共聚的低聚物聚合物**来体现。

2. **特征H（式2单体）：** D2未使用含有线性/支化亚烯基（不饱和键）及直接键连接的第二亲水性单体。

3. **特征I（式3单体）：** D2未采用带有聚硅氧烷侧链的有机硅单体。

4. **特征F：** 缺乏特征F限定的添加剂配比及单体窗口。

**其他对比文件的公开情况：**

* **特征E、I（式3有机硅大单体）：被D3和D1充分公开。** D3的[0040]完全公开了该式3的化学结构式（一般式1和2），并列举了信越化学的X22-174ASX、KF-2012等产品，明确指出其利用低极性在表面偏在，提供轻剥离性[0039]。D1的[0038]也公开了片末端型单官能硅氧烷大单体。

* **特征D（额外添加低聚物大单体）：被D3充分公开。** D3明确在主体聚合物(A)之外，额外添加2-15质量部的重合体(B)，且重合体(B)的分子量限制在10000-70000之间[0011]，完全对应目标专利的“含低聚物的添加剂”。

* **特征H（式2结构）：被D3部分实质公开。** D3在[0050]中公开了重合体(B)可包含脂环式（甲基）丙烯酸酯单体（如二环戊酰基/异波尔基等单体），虽然多为饱和基团，但在骨架形态上非常接近。

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### 五、 无效宣告请求方最薄弱的技术特征

对于无效请求方（我们）来说，目标专利设置得最稳固、**最难攻克的薄弱环节（技术壁垒）在于：特征F的特定比例限定，以及特征H中[式2]第二亲水性单体含有不饱和“亚烯基（Alkenyl）”的特定结构。**

1. **单体三元共聚物的特定选择（式1 + 式2 + 式3）：**

虽然D3公开了“主体聚合物(A) + 有机硅低聚物添加剂(B)”的架构，D2公开了“防静电剂 + 异氰酸酯固化剂 + 亲水链单体”，但没有任何一篇对比文件启示将**式1（提供亲水防污染）**、**式2（含亚烯基，调节凝集力）**和**式3（有机硅大单体，滑爽降低高速剥离力）**三种跨度极大的单体组合在一起，共同聚合出一个低聚物添加剂。

2. **特征F的定量数值窗口（0.1~1.0份，以及50%~150%）：**

目标专利在说明书实施例1-1至1-4以及实施例2-1至2-4中，通过精密的配比控制，证明了只有当添加剂在0.1~1.0份，且第二亲水单体处于50%~150%的窗口时，才能协同抗静电剂（特征B）和固化剂（特征C），使低速剥离力维持在3.0 gf/in以上（防止脱落），高速剥离力限制在70 gf/in以下（易剥离），且氙灯下完全无污染痕迹（OK）。这种**定量配比所带来的协同技术效果（Synergistic Effect）**，在专利审查中通常会被认定为具有“显著的进步”，极难仅靠常规选择或普通改型来否定其创造性。

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### 六、 进一步的检索策略

鉴于目前的证据链在“式2（含不饱和亚烯基的亲水单体）”以及“特定三元共聚添加剂配比”上仍有缺口，建议采取以下针对性的检索策略：

1. **锁定“大单体/低聚物添加剂”专门路线检索：**

改变以往只检索“粘合剂组合物（Adhesive Composition）”的思路，将检索重点转移到**“加工助剂/滑爽剂/表面改性低聚物（Surface Modifier / Oligomeric Additive）”**本身。专门检索包含“有机硅大单体 + 聚乙二醇大单体（MPEGMA） + 脂环式/亚烯基单体”的三元共聚物公开文件。

2. **聚焦核心单体供应商的专利与技术手册：**

目标专利及对比文件D3中均提到了**信越化学（Shin-Etsu）**和**智索（Chisso，现JNC）**的有机硅大单体（如FM-0711、X22系列）。这些有机硅巨头为了推广其大单体，通常会申请大量关于“如何用该有机硅大单体与亲水单体共聚制备防污/防静电涂层改性剂”的下游应用专利。建议针对信越化学、日信化学、东亚合成等主体，检索其在2020年3月之前公开的大单体共聚物专利。

3. **扩展特征H（式2）的同义词与化学结构式检索（STN检索）：**

式2（如甲基丙烯酸二环戊烯酯DCPMA或类似含环状亚烯基的单体）具有特殊的不饱和双键骨架。应利用STN系统（REGISTRY和CAplus数据库）进行**核心结构式（Structure Search）及亚结构检索**，联合聚合物前驱体关键词，寻找曾将该单体用于保护膜粘合剂内聚力调节的现有技术。

4. **数值范围的“效果突破”反向克隆检索：**

针对特征F的“50-150重量份”，检索常规丙烯酸低聚物表面改性剂的通用配比。若能在某篇偏光板保护膜现有技术中，发现其大体给出了“亲水单体与改性单体配比1:0.5至1:1.5”的常规混配区间，则可主张目标专利的特征F属于本领域的“常规剂量选择”或“尺寸剪裁”，从而削弱其数值窗口的创造性高度。

根据权利要求1所述的粘合剂组合物，其中基于100重量份的所述第一混合物，所述第一亲水性单体的含量为55重量份至85重量份

根据权利要求1所述的粘合剂组合物，其中基于100重量份的所述第一亲水性单体，所述基于有机硅的单体的含量为50重量份至150重量份

根据权利要求1所述的粘合剂组合物，其中所述丙烯酸类聚合物为包含50重量％至70重量％的第一单体的第二混合物的聚合物；所述第一单体为包含具有5至10个碳原子的烷基的(甲基)丙烯酸酯

根据权利要求1所述的粘合剂组合物，其中所述丙烯酸类聚合物为包含20重量％至40重量％的第二单体的第二混合物的聚合物；所述第二单体为包含具有1至4个碳原子的烷基的(甲基)丙烯酸酯

根据权利要求1所述的粘合剂组合物，其中所述丙烯酸类聚合物为包含1.0重量％至5.0重量％的第三单体的第二混合物的聚合物；所述第三单体为包含极性基团和具有1至3个碳原子的烷基的(甲基)丙烯酸酯

根据权利要求1所述的粘合剂组合物，其中所述丙烯酸类聚合物为包含0.1重量％至1.0重量％的第四单体的第二混合物的聚合物；所述第四单体为包含极性基团和具有4至6个碳原子的烷基的(甲基)丙烯酸酯

根据权利要求1所述的粘合剂组合物，其中所述丙烯酸类聚合物为包含1.0重量％至5.0重量％的下式1′的第五单体的第二混合物的聚合物；[式1′]其中R1′和R3′各自独立地为具有1至5个碳原子的线性或支化烷基，R2′为具有1至5个碳原子的线性或支化亚烷基，以及n′为在1至30的范围内的自然数

根据权利要求1所述的粘合剂组合物，其中基于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，所述抗静电剂的含量为0.1重量份至1.0重量份

根据权利要求1所述的粘合剂组合物，其中基于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，所述基于异氰酸酯的固化剂的含量为1.0重量份至9.0重量份