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对比文件列表
1996-05-28_US5521036A_发明授权_US5521036A Positioning method and apparatus_+++A_B_C_E_F_R_q+++.docx
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1998-05-26_US5757149A_发明授权_US5757149A Drive control apparatus_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Q_R_S_U_V_W_k_l+++.docx
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2000-09-05_US6114670A_发明授权_US6114670A Nonlinear feedforward control for ramp following and overshoot minimization_+++A_B_C_D_E_R_f_q+++.docx
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2001-07-17_US6260282B_发明授权_US06260282B1 Stage control with reduced synchronization error and settling time_+++A_B_C_D_E_F_R_q+++.docx
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2002-03-12_US6355994B_发明授权_US06355994B1 Precision stage_+++A_B_C_D_E_F_q_r+++.docx
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2002-12-11_EP1265106A_发明公开_EP1265106A2 Lithographic apparatus and device manufacturing method_+++A_B_C_E_F_I_R_q+++.docx
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2003-03-06_US2003043354A_发明申请_US20030043354A1 Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_C_E_F_I_R_d_h_q_u_v_w+++.docx
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2004-09-02_WO2004074951A_发明申请_WO2004074951A1 METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING A PHYSICAL QUANTITY HAVING A PROGRAMMED VARIATION WITH A FEED-FORWARD CONTROL_+++A_B_C_E_F_I_Q_R_U_W_d_v+++.docx
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2004-11-24_EP1480093A_发明公开_EP1480093A1 Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby_+++R_a_b_c_d_e_f+++.docx
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2004-12-02_US2004238758A_发明申请_US20040238758A1 Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_D_E_F_R_c_q+++.docx
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2005-05-12_JP2005123220A_发明专利_JP2005123220A Stage control method, exposure method, stage control unit, exposure device, and device manufacturing method_+++A_B_C_E_F_Q_R+++.docx
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2005-06-07_US6904422B_发明授权_US06904422B2 Adaptive control system having direct output feedback and related apparatuses and methods_+++A_B_C_D_F_e_q_r+++.docx
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2005-09-27_US6949844B_发明授权_US06949844B2 High-speed precision positioning apparatus_+++A_D_E_F_b_c_q_r+++.docx
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2005-10-20_US2005231706A_发明申请_US20050231706A1 Feedforward control with reduced learning time for lithographic system to improve throughput and accuracy_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_K_L_Q_R+++.docx
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2005-11-17_JP2005322720A_发明专利_JP2005322720A Stage controlling apparatus and method therefor, exposure apparatus and method therefor, and device manufacturing method_+++A_B_C_D_E_F_I_J_K_L_Q_R_u_v_w+++.docx
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2002-03-12_US6355994B_发明授权_US06355994B1 Precision stage_+++A_B_C_D_E_F_q_r+++.docx

对比文件名称:2002-03-12_US6355994B_发明授权_US06355994B1 Precision stage

目标专利名称:1367获得改进前馈数据的方法、平版印刷设备和器件制造方法CN101059658B

本次调用的模型名称:未指定(基于通用专利分析模型)

### 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断对比文件原文引用(中文翻译)公开性论述
特征A:从而通过设定点分布轮廓移动一个部件(直接公开)图4描述:“轨迹生成器360从存储的值指定期望坐标(x, y, z, θx, θy, θz)作为时间的函数。”对比文件明确公开了通过轨迹生成器指定的期望坐标序列(即设定点分布轮廓)来驱动平台(部件)移动,因此该特征被直接公开。
特征B:所述设定点分布轮廓包括所述部件的多个目标状态(直接公开)同上期望坐标序列即为多个目标状态(位置及姿态),直接公开。
特征C:每个目标状态是在对应序列的目标时间之一上获得的(直接公开)同上坐标作为时间的函数,每个目标状态对应一个特定的时间点,直接公开。
特征D:所述的方法包括按照设定点分布轮廓使用第一组前馈数据并且使用前馈控制系统来移动所述部件(直接公开)图4描述:“前馈控制器364基于轨迹生成器坐标确定平台加速度并产生校正信号以驱动平台到期望坐标。”对比文件公开了使用前馈控制系统(前馈控制器)和来自轨迹生成器的前馈数据(如加速度前馈)来移动部件,因此直接公开。
特征E:在所述移动期间在多个时间上测量所述部件的状态(直接公开)图5描述:“激光干涉仪382生成激光束384,该激光束从晶片卡盘242的反射侧表面385反射,通过干涉图案精确确定平台240的位置变化。”对比文件公开了在移动期间利用激光干涉仪等传感器测量平台位置,直接公开。
特征F:比较测量的状态与通过所述设定点分布轮廓确定的对应目标状态,以获得一组误差(直接公开)图4描述:“反馈控制器366比较期望位置与感测位置,并计算校正信号以调整工作台的位置。”对比文件公开了将测量状态(感测位置)与目标状态(期望位置)进行比较,获得误差信号,直接公开。
特征G:用非线性滤波器滤波所述这组误差(无公开)未提及对比文件未公开任何形式的非线性滤波器,也无任何关于误差滤波的暗示,故无直接或隐含公开。
特征H:根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据(无公开)未提及对比文件未公开基于误差改进前馈数据的概念,前馈控制器为固定或自适应方式但未涉及误差滤波后更新前馈数据,故无公开。
特征I:所述改进的前馈数据可以由所述前馈控制系统使用来更加准确地通过设定点分布轮廓移动所述部件(无公开)未提及对比文件未公开改进的前馈数据及其用于提高准确性的具体机制,故无公开。
特征J:所述方法进一步包括使用最近获得的改进的前馈数据代替第一组前馈数据按迭代方式重复步骤(a)到(e)(无公开)未提及对比文件未公开迭代学习过程,无重复使用更新前馈数据的概念,故无公开。
特征K:直到确定在步骤(c)获得的这组误差满足一个阈值条件时为止(无公开)未提及对比文件未公开基于误差阈值判断迭代终止的条件,故无公开。
特征L:输出满足阈值条件的改进的前馈数据(无公开)未提及对比文件未公开输出特定前馈数据,故无公开。
特征M:其中所述的滤波取决于所述这组误差的幅度(无公开)未提及对比文件无非线性滤波器,故无幅度依赖滤波的公开。
特征N:其中所述的滤波包括抑制小幅度误差的量大于抑制较大幅度误差的量(无公开)未提及对比文件无相关滤波特性,故无公开。
特征O:其中所述的滤波包括分解误差信号使之成为多个分立的频带(无公开)未提及对比文件无频带分解滤波,故无公开。
特征P:对于每个频带单独地施加一个选择的滤波操作(无公开)未提及对比文件无频带单独滤波,故无公开。
特征Q:其中在移动期间测量部件状态的多个时间对应于所述多个目标时间的至少一个子组(隐含公开)未明确提及,但数字控制系统通常使测量采样时间与轨迹生成点同步。虽然对比文件未明确说明,但本领域技术人员可以合理推断,在数字控制系统中,测量时间(传感器采样)通常与轨迹生成器输出的目标时间对应(至少部分对应),因此该特征被隐含公开。
特征R:其中所述目标状态包括以下所述的至少一个:所述部件的目标位置、所述部件的目标速度、所述部件的目标加速度(隐含公开)图4描述:“轨迹生成器360指定期望坐标”以及“前馈控制器364确定平台加速度”。对比文件的目标状态明确包括位置,前馈控制器涉及加速度,因此可以合理推断目标状态隐含包括位置和加速度(速度可通过微分获得),故该特征被隐含公开。
特征S:其中对于所述滤波器进行配置(无公开)未提及对比文件无滤波器配置,故无公开。
特征T:使其可以传递幅度大于预定的噪声带的误差的成分并且排斥其它的成分(无公开)未提及对比文件无相关滤波器特性,故无公开。
特征U:其中所述的这组误差由数据点ey(i)的一个阵列表示(无公开)未提及对比文件未公开误差以阵列或数据点形式表示,故无公开。
特征V:其中0≤i≤n(无公开)未提及对比文件未公开相关索引范围,故无公开。
特征W:n是组中的采样数(无公开)未提及对比文件未公开采样数,故无公开。
特征X:所述的滤波器由一个依赖于幅度的滤波器矩阵Φ(ey(i))表示(无公开)未提及对比文件无滤波器矩阵,故无公开。
特征Y:步骤(d)对应于Φ(ey(i))和ey(i)的乘积(无公开)未提及对比文件无相应乘积运算,故无公开。
特征Z:其中所述的Φ(ey(i))的定义如下(具体公式)(无公开)未提及对比文件无相关公式或定义,故无公开。

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