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对比文件列表
1996-05-28_US5521036A_发明授权_US5521036A Positioning method and apparatus_+++A_B_C_E_F_R_q+++.docx
2026-07-22 17:42
1998-05-26_US5757149A_发明授权_US5757149A Drive control apparatus_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_Q_R_S_U_V_W_k_l+++.docx
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2000-09-05_US6114670A_发明授权_US6114670A Nonlinear feedforward control for ramp following and overshoot minimization_+++A_B_C_D_E_R_f_q+++.docx
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2001-07-17_US6260282B_发明授权_US06260282B1 Stage control with reduced synchronization error and settling time_+++A_B_C_D_E_F_R_q+++.docx
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2002-03-12_US6355994B_发明授权_US06355994B1 Precision stage_+++A_B_C_D_E_F_q_r+++.docx
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2002-12-11_EP1265106A_发明公开_EP1265106A2 Lithographic apparatus and device manufacturing method_+++A_B_C_E_F_I_R_q+++.docx
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2003-03-06_US2003043354A_发明申请_US20030043354A1 Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_C_E_F_I_R_d_h_q_u_v_w+++.docx
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2004-09-02_WO2004074951A_发明申请_WO2004074951A1 METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING A PHYSICAL QUANTITY HAVING A PROGRAMMED VARIATION WITH A FEED-FORWARD CONTROL_+++A_B_C_E_F_I_Q_R_U_W_d_v+++.docx
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2004-12-02_US2004238758A_发明申请_US20040238758A1 Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_D_E_F_R_c_q+++.docx
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2005-05-12_JP2005123220A_发明专利_JP2005123220A Stage control method, exposure method, stage control unit, exposure device, and device manufacturing method_+++A_B_C_E_F_Q_R+++.docx
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2005-06-07_US6904422B_发明授权_US06904422B2 Adaptive control system having direct output feedback and related apparatuses and methods_+++A_B_C_D_F_e_q_r+++.docx
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2005-09-27_US6949844B_发明授权_US06949844B2 High-speed precision positioning apparatus_+++A_D_E_F_b_c_q_r+++.docx
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2005-10-20_US2005231706A_发明申请_US20050231706A1 Feedforward control with reduced learning time for lithographic system to improve throughput and accuracy_+++A_B_C_D_E_F_H_I_J_K_L_Q_R+++.docx
2026-07-22 17:42
2005-11-17_JP2005322720A_发明专利_JP2005322720A Stage controlling apparatus and method therefor, exposure apparatus and method therefor, and device manufacturing method_+++A_B_C_D_E_F_I_J_K_L_Q_R_u_v_w+++.docx
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2003-03-06_US2003043354A_发明申请_US20030043354A1 Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby_+++A_B_C_E_F_I_R_d_h_q_u_v_w+++.docx

**对比文件名称**:2003-03-06_US2003043354A_发明申请_US20030043354A1 Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby

**目标专利名称**:1367获得改进前馈数据的方法、平版印刷设备和器件制造方法CN101059658B

**本次调用的模型名称**:AI模型(通用语言模型,用于专利创造性评估)

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## 特征比对表格

技术特征描述及公开性判断结果对比文件原文引用(翻译)公开性论述
**技术特征A**:从而通过设定点分布轮廓移动一个部件 **《直接公开》**段落[0044]:“掩模台接收设定点SPR,该设定点是衬底台设定点SPW的四倍……掩模台以衬底台速度的四倍扫描。” 以及整个设备描述中,掩模台和衬底台根据设定点驱动。对比文件明确公开了掩模台和衬底台根据设定点(setpoint)分布轮廓进行移动,设定点定义了期望的运动轨迹,因此直接公开了“通过设定点分布轮廓移动一个部件”。
**技术特征B**:所述设定点分布轮廓包括所述部件的多个目标状态 **《直接公开》**段落[0020]:“比较测量的衬底台瞬时位置与期望的瞬时位置(desired momentary position)以生成位置误差信号。” 段落[0044] 提及设定点SPR和SPW随时间变化。对比文件中的设定点分布轮廓由多个时间点上的期望位置(目标状态)组成,例如“期望的瞬时位置”即对应多个目标状态,因此直接公开。
**技术特征C**:每个目标状态是在对应序列的目标时间之一上获得的 **《直接公开》**段落[0020]:“期望的瞬时位置(desired momentary position)”,暗示每个时刻对应一个期望位置。对比文件中的设定点分布轮廓是时间序列,每个目标状态(如期望位置)与特定时间点对应,因此直接公开。
**技术特征D**:所述的方法包括按照设定点分布轮廓使用第一组前馈数据并且使用前馈控制系统来移动所述部件 **《隐含公开》**段落[0045]:“通过预测器10,将衬底台误差eWS加到掩模台设定点SPR,并生成衬底台加速度误差。该误差与掩模台控制器GRS的输出结合,生成一个额外的力……” 以及图2中的前馈路径。对比文件公开了使用前馈控制(feedforward)来移动部件,前馈数据由预测器产生并施加到控制回路。虽然未明确“第一组前馈数据”,但本领域技术人员可以合理推断出在控制中使用了前馈数据组,因此隐含公开。
**技术特征E**:在所述移动期间在多个时间上测量所述部件的状态 **《直接公开》**段落[0020]:“第一测量装置,配置成确定图形制造装置相对于固定参考点的瞬时位置;第二测量装置,配置成确定衬底台相对于固定参考点的瞬时位置。” 段落[0040]提及干涉仪IF。对比文件明确公开了测量装置,用于在移动期间多次测量部件(掩模台和衬底台)的瞬时位置(状态),因此直接公开。
**技术特征F**:比较测量的状态与通过所述设定点分布轮廓确定的对应目标状态,以获得一组误差 **《直接公开》**段落[0020]:“比较装置,配置成比较测量的衬底台瞬时位置与期望的瞬时位置,以根据两者之差生成位置误差信号。”对比文件直接公开了比较测量位置与期望位置(设定点目标)生成位置误差信号,即一组误差,因此直接公开。
**技术特征G**:用非线性滤波器滤波所述这组误差 **《未公开》**无相关公开内容。对比文件中的所有滤波器(如预测器、低通滤波器)均为线性滤波器(如FIR滤波器),未公开任何非线性滤波器或依赖于幅度的滤波操作,因此未公开。
**技术特征H**:根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据 **《隐含公开》**段落[0045]:“通过预测器10…生成额外的力(前馈力)”。段落[0047]-[0058]描述预测器基于过去n个采样点进行正弦拟合预测(FIR滤波),然后根据预测值产生前馈信号。对比文件中的预测器本质上是线性滤波处理,经过滤波(预测)后的误差被用于生成前馈控制信号(如加速度前馈力),可以视为“根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据”。虽然目标专利强调非线性滤波,但特征H本身不限定滤波器类型,因此本领域技术人员可以合理推断出该步骤,构成隐含公开。
**技术特征I**:所述改进的前馈数据可以由所述前馈控制系统使用来更加准确地通过设定点分布轮廓移动所述部件 **《直接公开》**段落[0021]:“本发明避免了现有技术的缺点,在衬底台和掩模台之间的高频同步误差上实现了30%到50%的改进。”对比文件明确说明其前馈控制(包含预测器)提高了同步精度,从而更准确地移动部件,因此直接公开了前馈数据用于更准确移动。
**技术特征J**:所述方法进一步包括使用最近获得的改进的前馈数据代替第一组前馈数据按迭代方式重复步骤(a)到(e) **《未公开》**无相关公开内容。对比文件未公开任何迭代学习过程,没有重复使用前馈数据替代更新的步骤,因此未公开。
**技术特征K**:直到确定在步骤(c)获得的这组误差满足一个阈值条件时为止 **《未公开》**无相关公开内容。对比文件未公开任何阈值条件判断,因此未公开。
**技术特征L**:输出满足阈值条件的改进的前馈数据 **《未公开》**无相关公开内容。对比文件未公开输出满足阈值条件的前馈数据,因此未公开。
**技术特征M**:其中所述的滤波取决于所述这组误差的幅度 **《未公开》**无相关公开内容。对比文件中的滤波器是线性的,不依赖于误差幅度,因此未公开。
**技术特征N**:其中所述的滤波包括抑制小幅度误差的量大于抑制较大幅度误差的量 **《未公开》**无相关公开内容。对比文件未公开任何幅度依赖的非线性抑制特性,因此未公开。
**技术特征O**:其中所述的滤波包括分解误差信号使之成为多个分立的频带 **《未公开》**段落[0046]:“预测器采用正弦拟合方法,假设信号中存在有限数量的主导频率。” 但未涉及分解为多个分立频带并单独滤波。对比文件使用正弦拟合预测,但误差信号整体拟合,未公开分解为多个分立频带的操作,因此未公开。
**技术特征P**:对于每个频带单独地施加一个选择的滤波操作 **《未公开》**无相关公开内容。对比文件未公开频带单独滤波,因此未公开。
**技术特征Q**:其中在移动期间测量部件状态的多个时间对应于所述多个目标时间的至少一个子组 **《隐含公开》**段落[0020]提及“瞬时位置”的测量,且设定点提供“期望的瞬时位置”。在控制系统中,采样时刻通常与设定点目标时间同步。本领域技术人员可以合理推断,在对比文件的控制系统中,测量部件状态的多个时间与设定点分布轮廓的目标时间相对应(至少部分对应),因此隐含公开。
**技术特征R**:其中所述目标状态包括以下所述的至少一个:所述部件的目标位置、所述部件的目标速度、所述部件的目标加速度 **《直接公开》**段落[0044]设定点SPR、SPW(目标位置);段落[0045]“衬底台加速度误差”和“生成额外的力使之具有衬底台加速度的四倍”,隐含目标加速度;速度通过位置微分可得。对比文件明确公开了设定点(目标位置),并通过前馈控制涉及加速度,因此目标状态至少包括目标位置,本领域技术人员也可直接确定目标速度和加速度,故直接公开。
**技术特征S**:其中对于所述滤波器进行配置 **《未公开》**无相关公开内容。对比文件未公开任何非线性滤波器配置,因此未公开。
**技术特征T**:使其可以传递幅度大于预定的噪声带的误差的成分并且排斥其它的成分 **《未公开》**无相关公开内容。对比文件未公开噪声带或死区特性,因此未公开。
**技术特征U**:其中所述的这组误差由数据点ey(i)的一个阵列表示 **《隐含公开》**段落[0047]:“使用过去n个采样点(n samples in the past)来拟合数据。” 误差信号eWS是离散采样信号。对比文件明确使用过去n个采样点进行拟合,误差信号可表示为采样点阵列,本领域技术人员可以合理推断误差由数据点阵列表示,因此隐含公开。
**技术特征V**:其中0≤i≤n **《隐含公开》**段落[0047]:“n samples in the past”,采样点通常具有索引(如0到n-1或1到n)。对比文件公开了使用n个过去采样点,隐含了采样索引范围,通常为0≤i≤n,因此隐含公开。
**技术特征W**:n是组中的采样数 **《隐含公开》**段落[0047]:“n samples in the past”,n代表采样数量。对比文件明确n是采样数,因此隐含公开。
**技术特征X**:所述的滤波器由一个依赖于幅度的滤波器矩阵Φ(ey(i))表示 **《未公开》**无相关公开内容。对比文件未公开任何幅度依赖的滤波器矩阵,因此未公开。
**技术特征Y**:步骤(d)对应于Φ(ey(i))和ey(i)的乘积 **《未公开》**无相关公开内容。对比文件未公开该乘积操作,因此未公开。
**技术特征Z**:其中所述的Φ(ey(i))的定义如下:……公式…… **《未公开》**无相关公开内容。对比文件未公开该公式,因此未公开。

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## 公开性代码输出

根据上述分析,被直接公开的技术特征有:A, B, C, E, F, I, R;被隐含公开的技术特征有:D, H, Q, U, V, W。

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