对比文件的名称：1998-11-03_US5831739A_发明授权_US5831739A Alignment method
目标专利的名称：1367获得改进前馈数据的方法、平版印刷设备和器件制造方法CN101059658B
本次调用的模型名称：未指定
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 | ||||
| **技术特征A：从而通过设定点分布轮廓移动一个部件（未公开）** | 对比文件未公开通过设定点分布轮廓移动部件的内容。对比文件描述了驱动晶片台（wafer stage）移动至目标位置（如“The wafer stage 3 is driven to move in the direction Y by rotating a feed screw 15Y with a drive motor 14Y”），但未提及设定点分布轮廓（即随时间变化的目标状态序列）。 | 本特征要求移动部件时遵循设定点分布轮廓（如目标专利中图2a‑c所示的加速度、速度、位置轮廓）。对比文件仅涉及晶片台的步进式定位，未公开任何形式的设定点分布轮廓，且其作用是对准而非前馈控制。因此，特征A未公开。 | ||||
| **技术特征B：所述设定点分布轮廓包括所述部件的多个目标状态（未公开）** | 对比文件公开了多个目标位置（设计阵列坐标），但未将其关联到设定点分布轮廓。 | 目标专利中的设定点分布轮廓是时间序列的目标状态（如目标位置、速度、加速度的轨迹）。对比文件中的设计阵列坐标仅表示空间位置，未涉及速度、加速度等状态，更未形成时间序列。因此，特征B未公开。 | ||||
| **技术特征C：每个目标状态是在对应序列的目标时间之一上获得的（未公开）** | 对比文件未公开目标状态与目标时间的对应关系。 | 目标专利强调每个目标状态在特定的目标时间获得，形成时间序列。对比文件中的目标位置（设计阵列坐标）没有与之关联的目标时间，移动过程的时间信息未被纳入设定点轮廓。因此，特征C未公开。 | ||||
| **技术特征D：所述的方法包括按照设定点分布轮廓使用第一组前馈数据并且使用前馈控制系统来移动所述部件（未公开）** | 对比文件未公开前馈数据或前馈控制系统。 | 对比文件的对准过程使用反馈控制（如激光干涉仪监控位置，通过晶片台控制系统定位），未提及前馈控制或前馈数据。因此，特征D未公开。 | ||||
| **技术特征E：在所述移动期间在多个时间上测量所述部件的状态（直接公开）** | 对比文件记载：“The alignment signal processing system 9 is also supplied with coordinate values measured by the laser interferometers 17X, 17Y, etc. provided for the wafer stage 3. The alignment signal processing system 9 converts the supplied detection signal SY into digital form … and sequentially stores the digital detection signal SY in its internal memory in association with the Y-coordinate of the wafer stage 3 at that time.”（在“Description of the Preferred Embodiments”部分） | 对比文件明确公开了在晶片台移动期间，激光干涉仪持续测量晶片台的坐标，并将坐标与检测信号关联存储，即在不同时间点测量部件（晶片台）的状态（位置）。该测量步骤与目标专利中测量部件状态的作用相同，都是获得移动过程中的实时状态信息。因此，特征E被直接公开。 | ||||
| **技术特征F：比较测量的状态与通过所述设定点分布轮廓确定的对应目标状态，以获得一组误差（直接公开）** | 对比文件在Step 103记载：“The alignment signal processing system 9 obtains an amount of deviation (αi,βi) of the determined array coordinates from the design array coordinates (xi,yi), and supplies the amount of deviation to the central control system 4 as alignment data.”（在“Next, one example of the alignment and exposure operation…”部分） | 对比文件直接公开了将测量得到的阵列坐标（测量的状态）与设计阵列坐标（目标状态）进行比较，获得偏差（αi,βi），即一组误差。虽然目标状态在本专利中来自设定点分布轮廓，但比较步骤本身完全相同，且对比文件中的设计阵列坐标实质上也是目标状态。因此，特征F被直接公开。 | ||||
| **技术特征G：用非线性滤波器滤波所述这组误差（未公开）** | 对比文件未公开任何非线性滤波器。 | 对比文件使用可靠性值加权（如通过式(9)或式(15)计算权重），但该加权过程属于统计加权，并非对误差信号直接进行非线性滤波（如死区滤波、幅度依赖滤波等）。因此，特征G未公开。 | ||||
| **技术特征H：根据经过滤波的误差产生改进的前馈数据（未公开）** | 对比文件未公开前馈数据。 | 对比文件根据加权误差计算变换参数，进而估计阵列坐标，产生的是改进的坐标数据，而非用于前馈控制的数据。因此，特征H未公开。 | ||||
| **技术特征I：所述改进的前馈数据可以由所述前馈控制系统使用来更加准确地通过设定点分布轮廓移动所述部件（未公开）** | 对比文件未公开前馈控制系统。 | 对比文件得到的改进坐标用于对准曝光，而非用于前馈控制移动部件。因此，特征I未公开。 | ||||
| **技术特征J：所述方法进一步包括使用最近获得的改进的前馈数据代替第一组前馈数据按迭代方式重复步骤(a)到(e)（未公开）** | 对比文件未公开迭代学习前馈数据。 | 对比文件的方法是单次对准过程，未涉及迭代重复步骤(a)至(e)以更新前馈数据。因此，特征J未公开。 | ||||
| **技术特征K：直到确定在步骤(c)获得的这组误差满足一个阈值条件时为止（未公开）** | 对比文件未公开阈值条件。 | 对比文件没有基于误差是否满足阈值来判断是否停止迭代。因此，特征K未公开。 | ||||
| **技术特征L：输出满足阈值条件的改进的前馈数据（未公开）** | 对比文件无对应内容。 | 对比文件输出的是改进的阵列坐标，而非前馈数据，且无阈值条件。因此，特征L未公开。 | ||||
| **技术特征M：其中所述的滤波取决于所述这组误差的幅度（未公开）** | 对比文件未公开非线性滤波。 | 对比文件中的加权虽与误差大小有关，但该加权不是滤波，且特征M引用的“滤波”在对比文件中不存在。因此，特征M未公开。 | ||||
| **技术特征N：其中所述的滤波包括抑制小幅度误差的量大于抑制较大幅度误差的量（未公开）** | 对比文件未公开非线性滤波。 | 对比文件的加权是为小误差赋予高权重（保留），为大误差赋予低权重（抑制），这与特征N的抑制特点相反。因此，特征N未公开。 | ||||
| **技术特征O：其中所述的滤波包括分解误差信号使之成为多个分立的频带（未公开）** | 对比文件未公开频带分解。 | 对比文件无任何频带分解或子波分析等内容。因此，特征O未公开。 | ||||
| **技术特征P：对于每个频带单独地施加一个选择的滤波操作（未公开）** | 对比文件未公开分立频带。 | 对比文件无相关操作。因此，特征P未公开。 | ||||
| **技术特征Q：其中在移动期间测量部件状态的多个时间对应于所述多个目标时间的至少一个子组（未公开）** | 对比文件未公开目标时间。 | 对比文件无目标时间的概念，测量时间点不与目标时间对应。因此，特征Q未公开。 | ||||
| **技术特征R：其中所述目标状态包括以下所述的至少一个：所述部件的目标位置、所述部件的目标速度、所述部件的目标加速度（直接公开）** | 对比文件在Step 103中使用设计阵列坐标(xi,yi)作为目标坐标，即目标位置（“design array coordinates (xi,yi)”）。 | 对比文件公开了目标位置作为目标状态的一种。目标位置属于特征R列举的至少一种，因此特征R被直接公开。 | ||||
| **技术特征S：其中对于所述滤波器进行配置（未公开）** | 对比文件未公开任何滤波器配置。 | 对比文件无非线性滤波器，故无配置。因此，特征S未公开。 | ||||
| **技术特征T：使其可以传递幅度大于预定的噪声带的误差的成分并且排斥其它的成分（未公开）** | 对比文件未公开噪声带或死区滤波器。 | 对比文件无类似“传递大于噪声带成分”的滤波器。因此，特征T未公开。 | ||||
| **技术特征U：其中所述的这组误差由数据点ey(i)的一个阵列表示（直接公开）** | 对比文件在Step 103记载：“the central control system 4 is supplied with alignment data (α1,β1), (α2,β2), ..., (αi,βi), ..., (αn,βn) corresponding to the n alignment measuring points, respectively.” | 对比文件公开了误差由多个数据点组成的阵列，即偏差(αi,βi)的集合。因此，特征U被直接公开。 | ||||
| **技术特征V：其中0≤i≤n（隐含公开）** | 对比文件使用i从1到n（如“i=1 to n”）。 | 对比文件公开了n个测量点，索引i从1到n，本领域技术人员可以理解误差阵列的索引通常可以包括0，即0≤i≤n是索引范围的常见表达，因此特征V隐含公开。 | ||||
| **技术特征W：n是组中的采样数（直接公开）** | 对比文件在Step 101提及“n measuring points (alignment measuring points; n is an integer of 3 or more)”。 | 对比文件明确n是测量点数量，即采样数。因此，特征W被直接公开。 | ||||
| **技术特征X：所述的滤波器由一个依赖于幅度的滤波器矩阵Φ(ey(i))表示（未公开）** | 对比文件未公开任何滤波器矩阵。 | 对比文件没有非线性滤波器，更无矩阵形式的描述。因此，特征X未公开。 | ||||
| **技术特征Y：步骤(d)对应于Φ(ey(i))和ey(i)的乘积（未公开）** | 对比文件未公开滤波器矩阵及乘积。 | 对比文件无对应计算。因此，特征Y未公开。 | ||||
| **技术特征Z：其中所述的Φ(ey(i))的定义如下：$$\Phi(e_y(i)) = \begin{bmatrix} \phi(e_y(0)) & 0 & \cdots & 0 \\ 0 & \phi(e_y(1)) & \cdots & 0 \\ \vdots & \vdots & \ddots & \vdots \\ 0 & 0 & \cdots & \phi(e_y(n)) \end{bmatrix}$$ 和 $$\phi(e_y(i)) = 1 - \text{att}(e_y(i))$$ 和 $$\text{att}(e_y(i)) = \max\left(0, 1 - \frac{( | e_y(i) | - \delta)^2}{ | e_y(i) | ^2}\right)$$ 其中δ为所述滤波器的上噪声带（未公开）** | 对比文件未公开该数学定义。 | 对比文件无任何关于死区滤波器或类似公式的公开。因此，特征Z未公开。 |
**说明**：以上公开性判断基于对比文件US5831739A的全文内容，结合目标专利权利要求的字面解释。对比文件涉及对准方法，其核心在于通过统计加权处理测量数据，未涉及前馈控制、迭代学习、非线性滤波器等技术特征，因此仅公开了测量、比较、误差数组等基础步骤。
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