**对比文件名称：** KR101107710B1_Description_20260619_0009
**目标专利名称：** 1524基板 CN112673309B
**本次调用模型：** GPT-4（大语言模型）
## 特征比对表格
| 第一栏：技术特征描述及公开性判断结果 | 第二栏：对比文件原文引用（翻译为中文） | 第三栏：公开性论述 |
| 技术特征A：包括<br>《直接公开》 | [0004]“首先，如图4a，准备第一基板和第二基板。……第二基板在第二透明基板201上形成遮光层210、彩色滤光层220、公共电极230。……之后，如图4b，在第二基板上涂布柱状间隔物材料300。……” | 对比文件明确公开了液晶显示元件包括第一基板和第二基板，其中第二基板包括基础层（第二透明基板）和在其上形成的柱状间隔物。因此，“包括”该结构的方案被直接公开，该“包括”用语与目标专利中“包括”的含义相同，均用于引入后续组件。 |
| 技术特征B：基础层<br>《直接公开》 | [0004]“第二基板在第二透明基板201上……” | 对比文件中的“第二透明基板201”即为基础层，是一种玻璃基板（无机基础层）。本领域技术人员可直接且毫无疑义地确定该第二透明基板相当于目标专利中的基础层。 |
| 技术特征C：和在所述基础层上的复数个柱状间隔物<br>《直接公开》 | [0004]“之后，如图4b，在第二基板上涂布柱状间隔物材料300。……之后，如图4c，使用激光照射装置400扫描第二基板上指定区域的柱状间隔物材料。……之后，如图4d，去除未照射区域的柱状间隔物材料，完成柱状间隔物300。” | 对比文件通过涂布、激光照射、显影步骤在第二透明基板（基础层）上形成了复数个柱状间隔物（컬럼 스페이서）。这些间隔物是固定于基板的柱状结构，与目标专利中的“柱状间隔物”含义一致。因此，该特征被直接公开。 |
| 技术特征D：其中球状间隔物附接至所述复数个柱状间隔物中的至少一者或嵌入到所述复数个柱状间隔物中的至少一者中<br>《未公开》 | 对比文件全文未提及球状间隔物（볼 스페이서）及其附接或嵌入柱状间隔物中的任何描述。 | 目标专利的间隔物结构为柱状间隔物与球状间隔物的组合（附接或嵌入）。对比文件仅描述了通过激光固化形成单一的柱状间隔物，没有任何关于球状间隔物的内容。本领域技术人员无法从对比文件中直接或合理推断出球状间隔物的存在或相关结构。因此，该特征未被直接公开或隐含公开。 |
| 技术特征E：其中附接有或嵌入有所述球状间隔物的所述柱状间隔物的数量A相对于未附接或嵌入所述球状间隔物的所述柱状间隔物的数量B的比率A/B在0.01至10的范围内<br>《未公开》 | 对比文件未公开任何球状间隔物及其数量比例。 | 由于对比文件完全不涉及球状间隔物，因此无法公开与该球状间隔物相关的数量比率特征。该特征未被公开。 |
| 技术特征F：其中所述柱状间隔物的高度平均值H与所述球状间隔物的平均粒径D的比率H/D大于1<br>《未公开》 | 对比文件未公开球状间隔物的平均粒径以及柱状间隔物高度与其的比率。 | 对比文件中没有球状间隔物或任何关于H/D比率的信息。该特征未被公开。 |
| 技术特征G：其中所述复数个柱状间隔物的直径的平均值在14μm至60μm的范围内<br>《未公开》 | 对比文件未公开柱状间隔物的直径尺寸范围。 | 对比文件虽然形成了柱状间隔物，但未记载其直径的具体数值或范围。本领域技术人员无法根据对比文件的内容合理推断出该特定的数值范围。该特征未被直接或隐含公开。 |
| 技术特征H：其中所述柱状间隔物的高度的标准偏差在0.05μm至0.3μm的范围内<br>《未公开》 | 对比文件未公开柱状间隔物的高度标准偏差。 | 对比文件未涉及任何关于柱状间隔物高度均匀性或标准偏差的测量或数值。该特征未被公开。 |
| 技术特征I：其中所述柱状间隔物损失率为15%或更小，所述损失率通过以下来测量：将Nichiban胶带CT-24以宽度为24mm且长度为40mm的矩形附接区域附接至其上形成有所述柱状间隔物的所述基础层的表面，然后以30mm/秒的剥离速率和180度的剥离角在纵向方向上剥离所述Nichiban胶带CT-24<br>《未公开》 | 对比文件未公开任何关于间隔物粘合性测试的方法、标准（如Nichiban胶带）或损失率要求。 | 目标专利定义了一种特定的粘合性测试方法和合格标准。对比文件既未描述该测试方法，也未提及间隔物粘附力的任何定量指标。因此，该特征未被公开。 |
| 技术特征J：其中所述柱状间隔物的光密度在1.1至4的范围内<br>《未公开》 | 对比文件未公开柱状间隔物的光密度（OD）值。 | 对比文件的柱状间隔物用于保持液晶盒间隙，并未要求具有特定的光密度。没有提及光密度测量或数值。该特征未被公开。 |
| 技术特征K：其中所述柱状间隔物包含颜料或染料<br>《未公开》 | 对比文件未公开柱状间隔物材料中包含颜料或染料。 | 对比文件提到的柱状间隔物材料包含光引发剂，但未提及任何颜料、染料或其他着色剂。该特征未被公开。 |
| 技术特征L：其中所述柱状间隔物包含金属氧化物、金属氮化物、金属氧氮化物、基于偶氮的颜料、酞菁颜料或基于碳的材料<br>《未公开》 | 对比文件未公开柱状间隔物中包含上述材料。 | 对比文件使用的柱状间隔物材料仅描述了包含光引发剂，未涉及任何暗化材料（如金属氧化物、碳材料等）。该特征未被公开。 |
| 技术特征M：其中所述柱状间隔物包含炭黑或石墨<br>《未公开》 | 对比文件未公开炭黑或石墨作为柱状间隔物的成分。 | 对比文件没有提及炭黑或石墨等材料。该特征未被公开。 |
| 技术特征N：其中所述基础层为无机基础层或有机基础层<br>《直接公开》 | [0004]“第二透明基板201” | 对比文件中的“透明基板”（第二透明基板201）通常为玻璃基板，属于无机基础层。因此，本领域技术人员可直接确定基础层为无机基础层（玻璃）。该特征被直接公开（至少公开了无机基础层这一选择）。 |
| 技术特征O：其中在所述基础层与所述柱状间隔物之间形成电极层并且其中所述柱状间隔物与所述电极层接触<br>《直接公开》 | [0004]“第二基板在第二透明基板201上形成……公共电极230。……之后，如图4b，在第二基板上涂布柱状间隔物材料300。” | 对比文件明确在第二透明基板（基础层）上形成了公共电极（电极层），并随后在完成电极的基板上涂布柱状间隔物材料，经固化形成柱状间隔物。因此，电极层位于基础层与柱状间隔物之间，且柱状间隔物直接与电极层接触。该特征被直接公开。 |
| 技术特征P：其中所述柱状间隔物的高度的平均值在2μm至50μm的范围内<br>《未公开》 | 对比文件未公开柱状间隔物高度的具体数值范围。 | 对比文件未记载柱状间隔物的高度范围。本领域技术人员无法基于对比文件的内容合理推断出该特定范围。该特征未被公开。 |
| 技术特征Q：其中所述柱状间隔物的直径的标准偏差在0.3μm至1.5μm的范围内<br>《未公开》 | 对比文件未公开柱状间隔物直径的标准偏差。 | 对比文件未涉及直径均匀性指标。该特征未被公开。 |
| 技术特征R：其中所述柱状间隔物的直径的平均值T相对于所述球状间隔物的平均粒径D的比率T/D大于1<br>《未公开》 | 对比文件未公开球状间隔物及其粒径，也未公开该比率。 | 由于对比文件不包含球状间隔物，因此无法公开相关的T/D比率。该特征未被公开。 |
| 技术特征S：其中所述球状间隔物的粒径的标准偏差为0.8μm或更小<br>《未公开》 | 对比文件未公开球状间隔物及其粒径标准偏差。 | 对比文件没有球状间隔物，因此该特征未被公开。 |
| 技术特征T：其中基于所述基础层的总表面面积，所述基础层的表面上的所述球状间隔物和所述柱状间隔物的面积在0.5%至20%的范围内<br>《未公开》 | 对比文件未公开间隔物的面积占比。 | 对比文件未提及间隔物所占面积的比例或任何相关计算。该特征未被公开。 |
| 技术特征U：还包括附接在其上形成有所述球状间隔物和所述柱状间隔物的所述基础层的表面上的保护压敏粘合膜<br>《未公开》 | 对比文件未公开任何保护膜或压敏粘合膜。 | 对比文件未涉及任何保护性膜层。该特征未被公开。 |
## 公开性总结
根据上述比对，对比文件KR101107710B1直接公开了以下技术特征：
- 技术特征A（包括）
- 技术特征B（基础层）
- 技术特征C（复数个柱状间隔物）
- 技术特征N（基础层为无机基础层或有机基础层）
- 技术特征O（电极层位于基础层与柱状间隔物之间且接触）
其余技术特征（D, E, F, G, H, I, J, K, L, M, P, Q, R, S, T, U）均未被对比文件直接公开或隐含公开。
<<<A>>><<<B>>><<<C>>><<<N>>><<<O>>>