对比文件的名称：JP2005140993A_Description_20260619_0012
目标专利的名称：1524基板CN112673309B
本次调用的模型名称：资深专利代理师AI
## 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译成中文） | 公开性论述 |
| **A：包括** 《直接公开》 | 说明书实施例1：“在玻璃基板上用旋涂法涂布光固化性树脂组合物……制作柱状间隔物。”整体公开了包括基板和间隔物的结构。 | 对比文件明确公开了基板包含基础层（玻璃基板）和形成于其上的柱状间隔物，因此直接公开了“包括”这一开放式表述。 |
| **B：基础层** 《直接公开》 | 实施例1：“在玻璃基板上……”；其他多处使用“玻璃基板”。 | 玻璃基板属于基础层，对比文件直接公开。 |
| **C：和在所述基础层上的复数个柱状间隔物** 《直接公开》 | 实施例1：“……制作柱状间隔物”，并描述了通过光刻形成多个柱状突起。 | 对比文件直接公开了在基础层上形成复数个柱状间隔物。 |
| **D：其中球状间隔物附接至所述复数个柱状间隔物中的至少一者或嵌入到所述复数个柱状间隔物中的至少一者中** 《隐含公开》 | 实施例4：“将直径4.5μm的微粒间隔物（Micropearl EX-450）1g添加到光固化性树脂组合物中，通过超声波照射分散，得到微粒间隔物分散光固化性树脂组合物。……将该组合物涂布在玻璃基板上，干燥后，用具有宽度20μm、间隔200μm的格子状开口的铬涂层石英掩模覆盖，以500mJ/m²的曝光量照射紫外线。然后用0.2%四甲基氢氧化铵水溶液显影1分钟，纯水洗涤1分钟，在230℃洁净烤箱中烘烤30分钟，制作间隔物配置面板。” | 该实施例公开了将球状间隔物（微粒间隔物）分散于光固化树脂组合物中，然后通过光刻形成图案，使球状间隔物被固定在固化的树脂内。虽然实施例采用格子状开口掩模（形成线条图案），但本领域技术人员能够理解：该组合物也可用于柱状间隔物的形成（说明书明确该组合物可用于柱状スペーサ），如果改用点状掩模，则形成的柱状间隔物中必然嵌入或附接有球状间隔物。因此，对比文件隐含公开了特征D。 |
| **E：其中附接有或嵌入有所述球状间隔物的所述柱状间隔物的数量A相对于未附接或嵌入所述球状间隔物的所述柱状间隔物的数量B的比率A/B在0.01至10的范围内** 《未公开》 | 未发现相关内容。 | 对比文件未涉及任何关于附接/嵌入有球状间隔物的柱状间隔物数量与未附接/嵌入者的比率。 |
| **F：其中所述柱状间隔物的高度平均值H与所述球状间隔物的平均粒径D的比率H/D大于1** 《未公开》 | 未发现相关内容。 | 对比文件未在同一实施例中同时给出柱状间隔物高度和球状间隔物粒径，也未给出两者比率。 |
| **G：其中所述复数个柱状间隔物的直径的平均值在14μm至60μm的范围内** 《直接公开》 | 实施例1：“……具有宽度20μm、间隔200μm的开口的铬涂层石英掩模”。 | 掩模开口宽度20μm，直接决定所形成的柱状间隔物的直径约为20μm，该值明确落入14μm～60μm范围。本领域技术人员可以毫无疑义地确定。因此直接公开特征G。 |
| **H：其中所述柱状间隔物的高度的标准偏差在0.05μm至0.3μm的范围内** 《未公开》 | 未发现相关内容。 | 对比文件未提及柱状间隔物的高度标准偏差。 |
| **I：其中所述柱状间隔物损失率为15%或更小，所述损失率通过以下来测量：将Nichiban胶带CT-24以宽度为24mm且长度为40mm的矩形附接区域附接至其上形成有所述柱状间隔物的所述基础层的表面，然后以30mm/秒的剥离速率和180度的剥离角在纵向方向上剥离所述Nichiban胶带CT-24** 《未公开》 | 未发现相关内容。 | 对比文件未公开该特定的损失率测试方法及数值。 |
| **J：其中所述柱状间隔物的光密度在1.1至4的范围内** 《未公开》 | 未发现具体光密度数值；实施例5虽加入黑色颜料但未测定光密度。 | 对比文件未公开柱状间隔物的光密度范围。 |
| **K：其中所述柱状间隔物包含颜料或染料** 《直接公开》 | 实施例5：“添加3g黑色颜料（MONARCH 460，Cabot Specialty Chemicals）”。 | MONARCH 460为炭黑类颜料，属于颜料。直接公开特征K。 |
| **L：其中所述柱状间隔物包含金属氧化物、金属氮化物、金属氧氮化物、基于偶氮的颜料、酞菁颜料或基于碳的材料** 《直接公开》 | 实施例5使用炭黑（基于碳的材料）作为黑色颜料。 | 炭黑属于基于碳的材料，对比文件直接公开特征L。 |
| **M：其中所述柱状间隔物包含炭黑或石墨** 《直接公开》 | 实施例5使用炭黑颜料。 | 直接公开特征M。 |
| **N：其中所述基础层为无机基础层或有机基础层** 《直接公开》 | 实施例1使用“玻璃基板”（无机基础层）。 | 直接公开特征N。 |
| **O：其中在所述基础层与所述柱状间隔物之间形成电极层并且其中所述柱状间隔物与所述电极层接触** 《未公开》 | 未发现相关内容；实施例中柱状间隔物直接形成在玻璃基板上。 | 对比文件未公开在基础层与间隔物之间存在电极层。 |
| **P：其中所述柱状间隔物的高度的平均值在2μm至50μm的范围内** 《直接公开》 | 实施例1：“……形成厚度5μm的涂膜”。 | 涂膜厚度为5μm，经光刻显影后形成的柱状间隔物高度即为约5μm，落在2μm～50μm范围内。本领域技术人员可直接确定。因此直接公开特征P。 |
| **Q：其中所述柱状间隔物的直径的标准偏差在0.3μm至1.5μm的范围内** 《未公开》 | 未发现相关内容。 | 对比文件未提及直径标准偏差。 |
| **R：其中所述柱状间隔物的直径的平均值T相对于所述球状间隔物的平均粒径D的比率T/D大于1** 《未公开》 | 未发现相关内容。 | 对比文件未同时给出柱状直径和球状粒径，未公开该比率。 |
| **S：其中所述球状间隔物的粒径的标准偏差为0.8μm或更小** 《未公开》 | 未发现相关内容。 | 对比文件未公开球状间隔物的粒径标准偏差。 |
| **T：其中基于所述基础层的总表面面积，所述基础层的表面上的所述球状间隔物和所述柱状间隔物的面积在0.5%至20%的范围内** 《未公开》 | 未发现相关内容。 | 对比文件未公开间隔物所占面积比。 |
| **U：还包括附接在其上形成有所述球状间隔物和所述柱状间隔物的所述基础层的表面上的保护压敏粘合膜** 《未公开》 | 未发现相关内容。 | 对比文件未公开保护压敏粘合膜。 |
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