您好，我是本次调用的模型。本次比对的目标专利是《1529马达CN113906656B》，对比文件是《2017-11-03_CN104659941B_发明授权_CN104659941B 转子、马达以及转子的制造方法》。
以下是对比文件与目标专利权利要求的特征比对表及分析。
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述马达包括：定子<br><br>《直接公开》 | 【段落[0053]】图1(a)、图1(b)所示的马达1为永磁型同步马达，具有方筒状的铁芯保持架10、配置在铁芯保持架10的内侧的筒状的定子30... | 对比文件明确公开了一种马达1，其包括“定子30”（参见【段落[0053]】）。该定子30在对比文件中的作用与目标专利中的定子作用相同，均为马达提供旋转磁场。因此，该特征被对比文件直接公开。 |
| 技术特征B：轴，所述轴设置在所述定子的内部<br><br>《直接公开》 | 【段落[0053]】...配置在定子30的内侧的转子40...<br>【段落[0061]】如图1(a)、图1(b)、图2(a)、图2(b)、图3(a)、图3(b)以及图4(a)、图4(b)所示，转子40具有沿马达轴线L延伸的旋转轴49...所述转子40以永磁铁42与定子铁芯32的突极31之间隔着些微间隙的状态而配置。 | 对比文件明确公开了“旋转轴49”（即轴），并且该旋转轴49被设置在定子30的内部（转子40配置在定子30的内侧，旋转轴49是转子40的一部分，参见【段落[0053]】【段落[0061]】）。其在对比文件中的作用与目标专利中的轴作用相同，均为转子/磁体的支撑件。因此，该特征被对比文件直接公开。 |
| 技术特征C：磁体，所述磁体联接至所述轴<br><br>《直接公开》 | 【段落[0064]】永磁铁42相对于旋转轴49的外周面(转子铁芯45的外周面45f)沿周向配置有多个，并粘接固定在旋转轴49的外周面(转子铁芯45的外周面45f)。 | 对比文件明确公开了“永磁铁42”（即磁体），该永磁铁通过粘接固定在“旋转轴49”的转子铁芯45的外周面上（参见【段落[0064]】）。这实质上是将磁体固定至轴，实现了“磁体联接至所述轴”的功能。因此，该特征被对比文件直接公开。 |
| 技术特征D：覆盖件，所述覆盖件设置在所述磁体的外部<br><br>《直接公开》 | 【段落[0068]】...在本方式的转子40中，在多个永磁铁42的径向外侧卷绕有带47，带47通过粘接剂固定在多个永磁铁42的外周面422。带47为即使由于转子40旋转时的离心力而导致永磁铁42破损或永磁铁42从旋转轴49剥离也能够防止永磁铁42飞散的部件。<br>【段落[0020]】具有使用了本发明的转子的马达具有与所述转子的外周面对置的筒状的定子。 | 对比文件明确公开了“带47”（即覆盖件），该带设置在“永磁铁42”的径向外侧（即磁体的外部，参见【段落[0068]】）。其作用与目标专利中的覆盖件作用类似，均为固定磁体并防止其飞散。因此，该特征被对比文件直接公开。 |
| 技术特征E：其中，所述覆盖件包括第一部分和从所述第一部分的一个侧部延伸的第二部分<br><br>《隐含公开》 | 【段落[0068]】...在本方式的转子40中，在多个永磁铁42的径向外侧卷绕有带47...<br>【段落[0071]】...在多个永磁铁42中的相邻的两个永磁铁42之间，从旋转轴49的轴线方向(马达轴线L方向)观察时带47的一部分进入到比与两个永磁铁42的外周面422外切的假想直线P(参照图5(a)、图5(b))靠径向内侧的位置。<br>图5(a)、图5(b). | 对比文件公开了覆盖件“带47”。带47在磁体42的径向外侧覆盖的部分相当于“第一部分”。带47在相邻磁体之间被压入到径向内侧的部分（即与假想直线相关的部分）是带从磁体外表面向内延伸的部分。本领域技术人员公知，当带从一个区域向另一区域延续时，其必然存在一个过渡或延伸部分。带47覆盖磁体42外表面的部分（第一部分）向磁体之间凹陷的浮起部分延伸，这一浮起部分在结构上可以视为从第一部分延伸出的第二部分。虽然对比文件没有明确命名“第一部分”和“第二部分”，但该结构已被隐含公开。 |
| 技术特征F：所述磁体的内表面与所述轴的外表面接触<br><br>《直接公开》 | 【段落[0064]】永磁铁42相对于旋转轴49的外周面(转子铁芯45的外周面45f)沿周向配置有多个，并粘接固定在旋转轴49的外周面(转子铁芯45的外周面45f)。<br>【段落[0065]】永磁铁42的粘接固定在转子铁芯45的外周面45f的内表面421呈平面，而位于径向外侧的外周面422呈凸曲面。 | 对比文件明确记载了永磁铁42（磁体）具有“内表面421”，该内表面与“旋转轴49的外周面(转子铁芯45的外周面45f)”接触并粘接固定（参见【段落[0064]】【段落[0065]】）。这完全公开了“磁体的内表面与所述轴的外表面接触”这一特征。因此，该特征被对比文件直接公开。 |
| 技术特征G：所述磁体的外表面与所述第一部分的内表面接触<br><br>《直接公开》 | 【段落[0068]】...在多个永磁铁42的径向外侧卷绕有带47，带47通过粘接剂固定在多个永磁铁42的外周面422。<br>【段落[0072]】...带47在永磁铁42的外周面422(凸曲面)中的位于最径向外侧的顶部422a无间隙地粘接在永磁铁42的外周面422... | 对比文件明确记载了带47（覆盖件）通过粘接剂固定在永磁铁42（磁体）的“外周面422”上（参见【段落[0068]】【段落[0072]】）。带的这个覆盖磁体外表面的区域即为本领域技术人员理解的“第一部分”，而其内表面与磁体的外表面直接接触。因此，该特征被对比文件直接公开。 |
| 技术特征H：所述第二部分的内表面的一部分与所述轴的所述外表面接触<br><br>《隐含公开》 | 【段落[0071]】...在多个永磁铁42中的相邻的两个永磁铁42之间，从旋转轴49的轴线方向(马达轴线L方向)观察时带47的一部分进入到比与两个永磁铁42的外周面422外切的假想直线P(参照图5(a)、图5(b))靠径向内侧的位置。<br>图5(a). | 对比文件公开了带47的“一部分”（即前文认定的第二部分）进入到了永磁铁42之间的径向内侧。在相邻磁体之间，轴的外表面（转子铁芯45的外周面）通常没有被磁体覆盖。本领域技术人员可以合理推断，用于对带进行支撑并在制造过程中对其进行按压的带状部分，其内表面的至少一部分必然与位于磁体之间的轴的外表面接触。尽管对比文件未明确描述这种接触，但从结构和制造方法（向内侧按压）可以合理推导出。 |
| 技术特征I：所述第二部分的所述内表面的剩余部分设置成与所述轴的所述外表面间隔开，使得在所述轴的所述外表面与所述磁体的一个端部之间设置有第一空间(S1)<br><br>《隐含公开》 | 【段落[0072]】...在比假想直线P靠径向内侧的位置，由于带47的一部分从永磁铁42的外周面422浮起，因此在从旋转轴49的轴线方向(马达轴线L方向)观察时，在带47的基材470与永磁铁42的外周面422之间产生间隙48...<br>图5(b). | 对比文件明确公开了在相邻磁体42之间，带47的一部分（第二部分）会从磁体浮起，产生“间隙48”（参见【段落[0072]】及图5(b)）。该间隙48形成于带47与磁体42之间，而磁体42位于轴49的外表面。本领域技术人员可以理解，由于磁体设置在轴上，这个产生于带与磁体之间的间隙48，在其底部必然会延伸到轴的外表面。因此，带的内表面与轴的外表面之间，在磁体4的一个端部处，必然形成一个空间。尽管对比文件公开的间隙48是作为目标专利的空间S1的另一种表现形式，但该空间基于对比文件的结构和力学的必然推论是存在的。对比文件中的间隙填补了磁体端部与带之间的区域，可视为和第一空间等价的构造。 |
| 技术特征J：所述覆盖件包括从所述第一部分的另一侧部延伸的第三部分<br><br>《隐含公开》 | 【段落[0071]】...在多个永磁铁42中的相邻的两个永磁铁42之间，从旋转轴49的轴线方向(马达轴线L方向)观察时带47的一部分进入到比与两个永磁铁42的外周面422外切的假想直线P(参照图5(a)、图5(b))靠径向内侧的位置。<br>图4(b). | 对比文件公开了带47在多个磁体周围的整个周向卷绕。带覆盖在每个磁体外表面的部分为“第一部分”。当从第一部分的一个侧部（例如磁体的一个轴向端部）延伸进入到两个磁体之间的区域时，形成如上所述的“第二部分”。本领域技术人员可以合理并且必然地推断出，对应于磁体另一轴向端部，带必然会从第一部分的另一侧部延伸并进入到相邻磁体之间的另一个区域或形成类似结构。这个对应结构即为目标专利所定义的第三部分。对比文件中的带是整体连续的，具有这一结构。因此，该特征被隐含公开。 |
| 技术特征K：所述第三部分的内表面的一部分与所述轴的所述外表面接触<br><br>《隐含公开》 | 【段落[0071]】...在多个永磁铁42中的相邻的两个永磁铁42之间，从旋转轴49的轴线方向(马达轴线L方向)观察时带47的一部分进入到比与两个永磁铁42的外周面422外切的假想直线P(参照图5(a)、图5(b))靠径向内侧的位置。<br>图5(a). | 承上所述，既然能隐含公开技术特征J（第三部分的存在），那么基于与技术特征H相同的推理：第三部分的内表面的至少一部分与轴的外表面接触。该特征是含由技术特征J的合理推论，并且与对比文件公开的带47的卷绕结构完全兼容。 |
| 技术特征L：所述第三部分的所述内表面的剩余部分设置成与所述轴的所述外表面间隔开，使得在所述轴的所述外表面与所述磁体的另一端部的表面之间设置有第二空间(S2)<br><br>《隐含公开》 | 【段落[0072]】...在比假想直线P靠径向内侧的位置，由于带47的一部分从永磁铁42的外周面422浮起，因此在从旋转轴49的轴线方向(马达轴线L方向)观察时，在带47的基材470与永磁铁42的外周面422之间产生间隙48...<br>图5(b). | 承上所述，与技术特征I类似，技术特征K和J被隐含公开后，这个特征也是必然的推论。由于带在磁体的另一端部处从磁体外周面或者轴的表面浮起（产生间隙48），因此在轴的表面与磁体另一端部之间形成一个空间。对比文件中的间隙48是周向/环向的概念，而目标专利中的第二空间S2是从轴向角度描述了类似的结构和技术效果。从更广泛的意义上，对比文件弓形的浮起部分在轴向上看，在磁体的两个端部都可能与轴表面形成空间。该特征被隐含公开。 |
| 技术特征M：其中，所述第一空间(S1)沿轴向方向设置在所述磁体的一侧 | 无直接或隐含公开 | 对比文件虽然公开了磁体间的间隙48，但并没有公开这个间隙在磁体的轴向方向上的具体位置分布，更没有公开其在磁体的一侧形成特定的“第一空间”。目标专利的第一空间S1是通过覆盖件的特定几何设计（第二部分压紧、剩余部分悬空）形成的。对比文件中带的“浮起”间隙48主要是在周向方向上理解的，并且这个间隙48环绕磁体端部而非局限在一侧。 |
| 技术特征N：其中，所述第二空间(S2)沿所述轴向方向设置在所述磁体的另一侧 | 无直接或隐含公开 | 与特征M的论述同理，对比文件没有公开在磁体的轴向另一侧形成特定的“第二空间”这一特征。对比文件的间隙48结构无法被识别为沿轴向分别位于磁体两侧的两个独立空间。 |
| 技术特征O：其中，所述覆盖件包括第三区域，所述第三区域相对于所述轴的中心在径向方向上具有不同的厚度；并且，所述覆盖件包括设置成围绕所述轴的中心在周向方向上彼此间隔开的多个第一区域 | 无直接或隐含公开 | 对比文件中的带47是宽度一致且均匀卷绕的带状物，其厚度是均匀的。虽然在相邻磁体之间有压入操作，但未公开其在径向方向上的厚度具有变化性，更没有公开其划分为相互间隔的、具有不同厚度的“第三区域”以及“第一区域”。目标专利中覆盖件的区域划分及其厚度特征，对比文件完全没有涉及。 |
| 技术特征P：沿径向方向从所述轴的所述外表面至所述第一区域的距离小于沿所述径向方向从所述轴的所述外表面至所述磁体的所述外表面的最短距离 | 无直接或隐含公开 | 由于技术特征O中对比文件没有公开第一区域，因此该特征的限定前提不存在，必然未被公开。对比文件中没有公开任何关于覆盖件（带47）与轴外表面距离和磁体外表面与轴外表面距离的数值比较关系。 |
| 技术特征Q：其中，所述第一空间(S1)和所述第二空间(S2)连接至所述第一区域 | 无直接或隐含公开 | 由于技术特征M、N、O中对比文件没有公开作为连接对象的第一区域、第一空间和第二空间，因此本技术特征不会被公开。对比文件中虽然存在间隙48，但该间隙与对比文件中不存在的“第一区域”之间不存在任何直接关联。 |
| 技术特征R：其中，所述磁体包括第一单元磁体和第二单元磁体 | 无直接或隐含公开 | 对比文件中虽然没有使用“第一单元磁体”和“第二单元磁体”这种独立标记用语，但公开了由多个“永磁铁42”沿周向排列（参见【段落[0006]】【段落[0064]】）。本领域技术人员能够毫无疑义地知道，“多个永磁铁”包括“第一”和“第二”单元。因此，本技术特征被对比文件直接公开。 |
| 技术特征S：所述第一区域设置在所述第一单元磁体与所述第二单元磁体之间 | 无直接或隐含公开 | 由于对比文件没有公开技术特征O中定义的“第一区域”（该第一区域是覆盖件的特殊区域），因此即使对比文件公开了磁体，本特征仍无法被公开。对比文件没有公开具有特定厚度和功能的“第一区域”并设置于磁体之间的结构。 |
| 技术特征T：所述第一区域设置在轴向方向上 | 无直接或隐含公开 | 由于对比文件没有公开“第一区域”，因此其延伸方向自然也没有被公开。 |
| 技术特征U：其中，所述覆盖件包括相对于所述轴的中心在径向方向上构成多层的第二区域 | 无直接或隐含公开 | 对比文件公开了带47可以“卷绕多圈”（参见【段落[0085]】，附图7）。本领域技术人员可以理解，从径向方向看，一圈圈的带形成了多层。但是，目标专利中的“第二区域”是一个特定区域，是多层构成的一个部分。对比文件中的“多圈”是覆盖件的整体结构，整个带都是多层的，而没有像目标专利那样限定“第二区域”是其中某些特定部分。虽然如此，这种多圈卷绕极容易被认为是形成多层。对比文件没有提及作为覆盖件的一部分（区域）的多层，只是整体多层。 |
| 技术特征V：其中，所述覆盖件包括第一层和在所述第二区域中堆叠在所述第一层上的第二层 | 无直接或隐含公开 | 对比文件均没有公开在某个特定区域（第二区域）中，覆盖件（带）存在明确区分的“第一层”和“第二层”。卷绕多圈形成的层是独立的圈层，并非像目标专利一样，一层堆叠在另一层之上形成一个区域。对比文件也没有界定一个“第一层”和“第二层”。 |
| 技术特征W：所述第二层的一个侧边缘能够设置成相对于所述第一层的一个侧边缘倾斜 | 无直接或隐含公开 | 对比文件完全没有提及任何层的边缘是倾斜的还是如何配置的。这个非常特定的几何特征没有被公开。 |
| 技术特征X：其中，所述轴包括与所述磁体接触的多个突出部 | 无直接或隐含公开 | 对比文件公开了在转子铁芯45的外周面形成有“突部452”（参见【段落[0065]】），该突部位于相邻的永磁铁42之间用于定位。目标专利的突出部110与磁体直接接触。对比文件的突部452确实也与磁体接触，起到定位作用。从功能上看，两者都是与磁体接触的突出结构。然而，目标专利的“轴”包括了轴体41和转子铁芯45，转子铁芯45是固定于轴体41上。因此，设置在转子铁芯45上的“突部452”是否等同于设置在“轴”上的突出部？本领域技术人员知道在电机中，转子铁芯可视为轴的一部分或轴的延伸。考虑到对比文件明确公开了突部452用于导引和分隔磁体，这一点和目标专利的突出部的作用相同。因此，该特征被对比文件直接公开。 |
| 技术特征Y：所述多个突出部包括从所述轴的外周表面突出的第一面和凹入地设置在所述轴的内周表面中的第二面 | 无直接或隐含公开 | 对比文件中虽然公开了“突部452”设置在转子铁芯45（轴）的外周表面上，但完全没有公开在轴的内周表面上有“凹入”的第二面。突部452是通过在转子铁芯45上加工出来的，是一种实心的凸起，而不是通过冲压工艺在空心轴上形成的具有内外对应的凹凸特征的结构。其内侧对应的位置是实心的转子铁芯45和轴体41，不存在一个用于构成的“第二面”。因此，该特征特征没有被公开。 |
| 技术特征Z：其中，所述第一面和所述第二面中的每一者包括至少一个平坦表面 | 无直接或隐含公开 | 由于技术特征Y未能被公开，本技术特征作为对其的进一步限定，自然也不被对比文件公开。对比文件未公开任何类似的对应结构。 |
### 输出结果
根据上述分析，对各项技术特征的公开性判断如下：
- 技术特征A：直接公开
- 技术特征B：直接公开
- 技术特征C：直接公开
- 技术特征D：直接公开
- 技术特征E：隐含公开
- 技术特征F：直接公开
- 技术特征G：直接公开
- 技术特征H：隐含公开
- 技术特征I：隐含公开
- 技术特征J：隐含公开
- 技术特征K：隐含公开
- 技术特征L：隐含公开
- 技术特征M：无公开
- 技术特征N：无公开
- 技术特征O：无公开
- 技术特征P：无公开
- 技术特征Q：无公开
- 技术特征R：直接公开
- 技术特征S：无公开
- 技术特征T：无公开
- 技术特征U：无公开
- 技术特征V：无公开
- 技术特征W：无公开
- 技术特征X：直接公开
- 技术特征Y：无公开
- 技术特征Z：无公开
因此，代码输出如下：
<<<A>>><<<B>>><<<C>>><<<D>>><<<F>>><<<G>>><<<R>>><<<X>>>
<<<e>>><<<h>>><<<i>>><<<j>>><<<k>>><<<l>>>