好的，我们开始评估。首先明确相关信息：
- **对比文件名称**：2018-05-17_KR1020180051802A_发明公开_KR20180051802A 3차원 영상 디스플레이용 백라이트 유닛 및 그 제조방법
- **目标专利名称**：1561全息光学元件及其制造方法CN113728754B
- **本次调用的模型名称**：DeepSeek-R1
以下为特征比对表格及分析：
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译成中文） | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述制造方法包括<br>《直接公开》 | [0022]-[0025]：“提供包括第一栅格图案的第一模具的步骤；在基板的一个表面上涂覆根据位置调节的量的第一树脂的步骤；压印所述第一模具以在所述第一栅格图案之间填充所述第一树脂的步骤；以及固化所述第一树脂以在所述基板的一个表面上形成包括第一衍射光栅的第一衍射光栅结构的步骤。”整体描述了一种制造方法。 | 对比文件明确公开了用于制造背光单元的制造方法，该方法包括多个步骤。目标专利特征A是方法权利要求的前序部分，对比文件的方法步骤直接构成了制造方法。本领域技术人员毫无疑义地确定对比文件公开了制造方法。 |
| 技术特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)<br>《直接公开》 | [0068]：“在基板(420)的上表面涂覆树脂(435)。” 树脂的性质： [0027]“所述第一树脂例如可以包括光固化或热固化树脂。” 光固化树脂即光敏树脂。 | 对比文件直接公开了在基板（基底）的一个表面（上表面）涂覆树脂（光敏树脂）以形成涂覆层的步骤。该步骤与目标专利中形成光敏基底的步骤(a)实质相同，只是基底类型可能略有不同（基板 vs 基底），但均为支撑层。作用均为后续形成光栅图案提供材料层。因此直接公开。 |
| 技术特征C：通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b)<br>《未公开》 | 全文无记载通过激光照射两面记录全息光栅。 | 对比文件的制造方法基于纳米压印（使用模具压印并固化树脂），而非通过激光干涉在光敏材料中记录全息光栅。对比文件中完全没有提及激光照射记录步骤，也未暗示任何与激光全息记录相关的内容。本领域技术人员无法从对比文件中推理出该特征。因此未公开。 |
| 技术特征D：其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化<br>《直接公开》 | [0068]：“涂覆在基板(420)上表面的树脂(435)的量可以根据位置调节。例如，可以调节树脂(435)使得从基板(420)的一侧开始逐渐增加涂覆量。” [0070]：“因此，填充在栅格图案(441)之间的树脂(435)的高度也会从基板的一侧向另一侧逐渐增加。” | 对比文件明确教导通过调节涂覆量使树脂涂层的高度沿远离一侧的方向逐渐增加，即涂层高度沿预定方向变化。这与目标专利中施加光敏树脂使涂层高度沿预定方向变化的作用完全相同：用于后续形成高度渐变的光栅。因此直接公开。 |
| 技术特征E：所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上<br>《未公开》 | [0072]：“衍射光栅(431)的高度是指从衍射光栅之间的底面至衍射光栅顶面的高度。并且，衍射光栅之间的底面可以形成在从基板的上表面起相同的高度上。” 这表明光栅是离散的凸起结构，光栅之间的底面与基板表面齐平或存在薄层，并非整个涂层高度均为光栅。 | 对比文件中的衍射光栅通过填充模具间隙形成，光栅区域高度可变，但光栅之间的区域（底面）通常没有树脂或仅有薄残留层。而目标专利的全息光栅是记录在整个光敏树脂涂层厚度内的（从基底表面到涂层顶面全厚度均为全息光栅结构）。对比文件未公开这种“整个涂层高度”均为光栅的结构，也未给出任何启示。因此未公开。 |
| 技术特征F：所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加<br>《隐含公开》（全息光栅高度变化部分隐含，树脂涂层高度变化直接公开） | 树脂涂层高度逐渐增加：[0068]（见D栏）。光栅高度变化：[0070]：“填充在栅格图案之间的树脂的高度也会从基板的一侧向另一侧逐渐增加。” [0047]：“衍射光栅从光入射面向着远离的方向逐渐增加高度。” | 对比文件直接公开了光敏树脂涂层高度逐渐增加。对于全息光栅的高度变化，对比文件公开了衍射光栅的高度沿预定方向逐渐增加。虽然对比文件制作的是浮雕光栅而非全息光栅，但本领域技术人员能够认识到，为了实现光栅衍射效率的均匀化，将高度的渐变原理同样适用于全息光栅（全息光栅本质上也是衍射光栅的一种）。因此可以合理推断出全息光栅的高度也可以沿预定方向逐渐增加。故隐含公开。 |
| 技术特征G：所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加<br>《隐含公开》 | [0047]：“衍射光栅从光入射面向着远离的方向逐渐增加高度。” [0070]：“填充在栅格图案之间的树脂的高度也会从基板的一侧向另一侧逐渐增加。” | 理由同F。对比文件明确公开了衍射光栅高度逐渐增加，而全息光栅属于衍射光栅的一种，在相同问题背景下（补偿光量衰减）采用相同的高度渐变方案是合理的推理。因此隐含公开。 |
| 技术特征H：所述全息光栅具有相同的宽度<br>《未公开》 | [0050]：“为了调节衍射光栅的衍射效率，不仅可以改变衍射光栅的高度(H)，还可以改变每个衍射光栅的宽度(W)。” [0066]：“模具图案可以至少部分具有不同的宽度。” | 对比文件明确教导衍射光栅的宽度可以变化（从一侧到另一侧宽度减小），以调节衍射效率。没有要求或暗示所有光栅必须具有相同的宽度。相反，对比文件给出了宽度可变的教导。本领域技术人员无法从对比文件推断出全息光栅具有相同的宽度。因此未公开。 |
| 技术特征I：其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处<br>《隐含公开》 | [0068]：“在基板(420)的上表面涂覆树脂(435)。” 没有限定具体涂覆方式。 | 对比文件仅笼统提及“涂覆树脂”，并未具体说明是喷涂、旋涂、滴涂还是其他方法。但喷涂是工业中常用的涂覆方式之一，本领域技术人员在实施涂覆步骤时完全可以选用喷涂方法以实现涂层厚度的调节。而且对比文件要求树脂量随位置变化，喷涂能够方便地通过控制喷头时间或移动速度来实现量调节。因此，虽然未明确记载，但可以合理推断出喷涂是实施该步骤的可行方式，故隐含公开。 |
| 技术特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化<br>《隐含公开》 | [0068]：“涂覆在基板(420)上表面的树脂(435)的量可以根据位置调节。例如，可以调节树脂(435)使得从基板(420)的一侧开始逐渐增加涂覆量。” | 对比文件直接公开了树脂涂覆量根据位置变化（逐渐增加）。虽然未明确限定是喷涂，但结合特征I（隐含公开喷涂），该量变化特征同样适用于喷涂方式。因此隐含公开。 |
| 技术特征K：其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a‑1)<br>《未公开》 | 全文无记载将基底浸入树脂容器。 | 对比文件的所有实施例中，涂覆树脂均在基板上表面进行（通过滴涂、旋涂或与模具配合），从未采用将整个基底浸入容器的方法。本领域技术人员无法从对比文件中推理出浸渍步骤。因此未公开。 |
| 技术特征L：和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a‑2)<br>《未公开》 | 全文无记载将基底从容器中分离的步骤。 | 同K，对比文件没有浸入容器步骤，自然没有分离步骤。因此未公开。 |
| 技术特征M：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离<br>《未公开》 | 全文无记载改变移动速度分离。 | 同L，对比文件未公开分离步骤，更未提及速度变化。因此未公开。 |
| 技术特征N：其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a‑1)<br>《直接公开》 | [0069]：“将模具(440)设置在基板(420)的上方。此处，模具(440)的栅格图案(441)可以设置为面对基板(420)上涂覆的树脂(435)。随后，使模具(440)与树脂(435)接触，然后施加压力按压模具(440)。” 期间，树脂提供在基板与模具之间。 | 对比文件明确公开了将树脂提供在基底与辅助基底（模具）之间，然后压印。该步骤与目标专利中在基底与辅助基底之间提供光敏树脂的步骤(a‑1)完全相同，作用都是在两者间形成树脂层以便后续形成光栅。因此直接公开。 |
| 技术特征O：和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a‑2)<br>《直接公开》 | [0069]：“使模具(440)与树脂(435)接触，然后施加压力按压模具(440)。” 移动模具（辅助基底）压向基底。 | 对比文件中的按压步骤即移动辅助基底（或基底）以使其相对移动，从而实现树脂填充模具间隙。目标专利的步骤(a‑2)是移动基底和辅助基底中的至少一者，对比文件直接公开了移动模具（辅助基底）完成压印，因此直接公开。 |
| 技术特征P：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者<br>《未公开》 | 全文无记载改变相对移动速度。 | 对比文件所有压印过程描述均为施加压力、压入，但从未提及速度控制或速度变化。本领域技术人员无法从对比文件中直接或推理出改变相对移动速度的特征。因此未公开。 |
| 技术特征Q：其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂<br>《未公开》 | 全文无记载倾斜基板提供树脂。 | 对比文件的所有涂覆方法中，基底均水平放置（或未提倾斜），没有公开在倾斜状态下涂覆树脂。本领域技术人员无法从对比文件中推断出倾斜提供树脂的方案。因此未公开。 |
| 技术特征R：将所述光敏树脂干燥<br>《未公开》 | 全文无记载干燥步骤。干燥与固化不同（固化通过光照或热，干燥指溶剂挥发）。 | 对比文件中的树脂是通过光或热进行固化（聚合），而非干燥去除溶剂。对比文件没有提及任何干燥步骤。因此未公开。 |
**直接公开的特征**：A, B, D, N, O
**隐含公开的特征**：F, G, I, J
**未公开的特征**：C, E, H, K, L, M, P, Q, R
注意：特征F中的“光敏树脂涂层的高度沿预定方向逐渐增加”在对比文件中直接公开，但特征F作为一个整体包含两部分，其中全息光栅高度变化部分隐含公开，因此特征F整体列为隐含公开。
根据输出要求，在结尾插入对应代码。
<<<A>>><<<B>>><<<D>>><<<N>>><<<O>>><<<f>>><<<g>>><<<i>>><<<j>>>