对比文件名称：2016-03-14_KR1020160028561A_发明公开_KR1020160028561A 개선된 기판 분무 코팅 장치 및 방법（改进的基板喷雾涂覆装置及方法）
目标专利名称：1561全息光学元件及其制造方法 CN113728257B
本次调用的模型名称：本评估使用人工智能语言模型。
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译成中文） | 公开性论述 |
| 技术特征A：所述制造方法包括 （未公开） | 对比文件[0067]‑[0068]描述了基板喷雾涂覆方法，包括：a) 从墨水储存部件向以恒定倾斜角度提供的表面声波发生装置的墨水通道歧管内利用重力供给墨水；b) 通过表面声波产生喷雾粒子；c) 通过电场将喷雾粒子喷射到基板；d) 回收墨水。 | 对比文件公开了一种基板涂覆方法，但其步骤、材料和目的与目标专利的制造方法完全不同。目标专利的制造方法特指制造全息光学元件的步骤（包括全息光栅记录），而对比文件不涉及全息记录，且方法流程存在本质差异。本领域技术人员无法从对比文件直接且毫无疑义地得出目标专利的制造方法，因此特征A未公开。 |
| 技术特征B：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a) 《直接公开》 | 对比文件[0036]记载：“墨水包括OLED用有机材料、PR溶液、金属糊料等功能性溶液型材料”。[0037]‑[0044]进一步描述了将墨水（包括PR溶液）通过喷雾方式涂覆到基板（基底）的一个表面上，从而在基板上形成涂层。 | 对比文件明确公开了用功能溶液（包括光敏树脂如PR溶液）涂覆基板以形成涂层的步骤。该步骤对应于目标专利的步骤(a)（用光敏树脂涂覆基底）。根据目标专利说明书，光敏树脂可以是光致聚合物、光致抗蚀剂等，PR溶液属于光敏树脂的一种。因此，对比文件直接公开了该技术特征。 |
| 技术特征C：通过用激光照射所述光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录所述全息光栅的步骤(b) （未公开） | 对比文件全文未涉及激光记录全息光栅的任何内容。对比文件的方法步骤包括通过表面声波雾化墨水并通过静电力喷涂到基板，没有激光照射步骤。 | 目标专利的步骤(b)是使用激光从两个表面照射以记录全息光栅，这是全息光学元件制造的核心工艺。对比文件完全不涉及全息记录，也未公开任何激光照射与全息光栅形成相关的技术内容。因此，本领域技术人员不能从对比文件得出该技术特征。 |
| 技术特征D：其中在所述步骤(a)中施加所述光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化 《隐含公开》 | 对比文件[0055]‑[0058]描述第二实施例：多个第一电源装置分别连接多个第一电极，各电源电压被独立控制，使得不同发生位置产生的喷雾量不同（与距离成正比），最终实现在基板上均匀涂布。其中提到“由于各发生位置与通孔的距离不同，为了通过各通孔的粒子量相同，各发生位置产生的喷雾量应与距离成正比，因此各电压与距离成正比。”这表明不同位置的喷涂量可以按需变化。 | 对比文件公开了可以通过控制电极电压来改变不同位置的喷涂量，虽然其目的是实现均匀涂布，但本领域技术人员可以合理推断：如果不进行补偿或调整参数，涂层厚度自然会沿位置变化（例如沿方向逐渐增加或减少）。对比文件进一步教导了喷涂量与距离的关系，实质公开了改变喷涂量可以影响涂层厚度的原理。因此，从对比文件的内容可以推理出能够实现涂层高度沿预定方向变化的技术方案，故特征D被隐含公开。 |
| 技术特征E：所述全息光栅记录在所述光敏树脂涂层的整个高度上 （未公开） | 对比文件未涉及全息光栅的记录，更没有关于全息光栅与涂层高度关系的任何描述。 | 目标专利的全息光栅是通过激光干涉记录在光敏树脂涂层中的，且明确说明记录在涂层的整个高度上。对比文件的方法不涉及全息光栅，也未公开任何光栅记录方式。因此，该技术特征未被公开。 |
| 技术特征F：所述全息光栅的高度沿所述预定方向变化；并且中所述光敏树脂涂层的高度沿所述预定方向逐渐增加 （未公开） | 对比文件[0058]通过控制电压使不同位置产生不同的喷雾量，但最终目标是使基板上涂布量均匀（通过补偿距离差异）。对比文件未公开全息光栅的高度变化，也未明确涂层高度逐渐增加。 | 特征F包含全息光栅高度变化和涂层高度逐渐增加。对比文件既不涉及全息光栅，也没有明确涂层高度逐渐增加（反而教导均匀涂布）。虽然可能通过调整参数实现涂层厚度渐变，但目标专利要求的是光栅高度随涂层高度变化且方向一致，而对比文件无此关联。因此该特征未公开。 |
| 技术特征G：所述全息光栅的高度沿所述预定方向逐渐增加 （未公开） | 对比文件无全息光栅的记录，也没有光栅高度变化的内容。 | 目标专利中全息光栅的高度随涂层高度增加而增加，对比文件完全未涉及全息光栅，故该特征未公开。 |
| 技术特征H：所述全息光栅具有相同的宽度 （未公开） | 对比文件未涉及全息光栅，更未提及光栅宽度。 | 目标专利中全息光栅通过用相同条件（相同的光量和照射时间）激光记录而具有相同宽度。对比文件的方法与此无关，因此未公开。 |
| 技术特征I：其中在所述步骤(a)中将所述光敏树脂喷涂至所述基底的一个表面上多个位置处 《直接公开》 | 对比文件[0037]‑[0044]：表面声波喷雾装置包括多个第一电极和多个通孔，在多个发生位置(A1,A2,A3)产生喷雾粒子，并通过多个通孔喷涂至基板的不同区域。[0044]具体描述了第一发生位置通过第一通孔、第二发生位置通过第二通孔、第三发生位置通过第三通孔向基板喷涂墨水。[0047]进一步说明产生的喷雾粒子沿垂直方向向上喷射到基板。 | 对比文件明确公开了将墨水（包括光敏树脂）从多个发生位置通过多个通孔喷涂到基板的多个位置。该喷涂过程将光敏树脂施加到基底表面的多个不同位置，与特征I一致。因此，特征I被直接公开。 |
| 技术特征J：喷涂的光敏树脂的量根据位置而变化 《直接公开》 | 对比文件[0055]‑[0058]：第二实施例中，多个第一电源装置分别控制各第一电极的电压，由于各发生位置与通孔的距离不同（L1a<L1b<L1c），为了最终在基板上获得相同的涂布量，各电源电压被控制为与距离成正比，从而各发生位置产生的喷雾量不同（即每个位置喷涂的量根据位置变化）。 | 对比文件明确教导了通过改变施加到不同第一电极上的电压，可以控制每个发生位置产生的喷雾量，并且为了补偿距离差异，各位置的喷涂量被故意设置成不同的值。因此，喷涂的量根据位置而变化的技术特征被直接公开。 |
| 技术特征K：其中所述步骤(a)包括将所述基底浸入包含所述光敏树脂的容器中的步骤(a‑1) （未公开） | 对比文件全文未提及将基底浸入容器中的步骤。对比文件的涂覆方法是通过表面声波雾化后喷涂，不涉及浸渍过程。 | 目标专利的浸渍提拉法是形成渐变涂层的一种具体方式。对比文件对此完全未公开，本领域技术人员无法从对比文件得到该技术信息。 |
| 技术特征L：和通过在一个方向上移动所述基底将所述基底与所述容器分离的步骤(a‑2) （未公开） | 对比文件未公开基底的浸渍和分离步骤，更没有移动基底与容器分离的内容。 | 特征L是浸渍涂覆的后续步骤，对比文件无任何相关内容，故未公开。 |
| 技术特征M：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底的移动速度的同时将所述基底与所述容器分离 （未公开） | 对比文件未涉及基底的移动速度调节与分离过程。 | 目标专利通过改变提拉速度实现涂层厚度变化。对比文件不采用浸渍工艺，因此未公开该特征。 |
| 技术特征N：其中所述步骤(a)包括在所述基底与辅助基底之间提供所述光敏树脂的步骤(a‑1) （未公开） | 对比文件未提及辅助基底，其墨水通过歧管供给，不使用辅助基底。 | 目标专利的辅助基底法用于控制涂层厚度。对比文件没有类似的构造，故未公开。 |
| 技术特征O：和移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者的步骤(a‑2) （未公开） | 对比文件无辅助基底及其移动步骤。 | 特征O依赖于辅助基底，对比文件未公开。 |
| 技术特征P：在所述步骤(a‑2)中在改变所述基底和所述辅助基底中的一者相对于另一者的相对移动速度的同时移动所述基底和所述辅助基底中的至少一者 （未公开） | 对比文件无辅助基底，也没有相对移动速度的改变。 | 目标专利通过改变相对速度控制涂层厚度。对比文件不涉及，故未公开。 |
| 技术特征Q：其中在所述步骤(a)中在所述基底的一个表面相对于基面倾斜的状态下提供所述光敏树脂 （未公开） | 对比文件[0037]‑[0042]中，表面声波发生装置以一定倾斜角度设置以利用重力供给墨水，但基板（基底）本身由第三电极水平支撑，并未处于倾斜状态。 | 目标专利要求基底的一个表面相对于基面倾斜，从而在流延和干燥后形成渐变涂层。对比文件的基底是水平的，未公开基底倾斜提供树脂的方式。因此未公开。 |
| 技术特征R：将所述光敏树脂干燥 （未公开） | 对比文件[0028]‑[0032]等涉及涂覆过程，但未明确提及干燥步骤。对比文件的方法中，喷雾粒子到达基板后可能经过固化等处理，但未公开“将光敏树脂干燥”的具体步骤。 | 目标专利在倾斜状态下提供树脂后进行干燥以形成固体涂层。对比文件未明确公开干燥步骤及与倾斜状态的关联，故未公开。 |
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