**对比文件名称：** 2011-04-28_JP2011513167A_发明专利_JP2011513167A Nanoplatelets and composition of graphite
**目标专利名称：** 1628利用高速均质化预处理和高压均质化制备石墨烯的方法CN107108226B
**本次调用的模型名称：** DeepSeek AI语言模型
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### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用（翻译及段落标注） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：对含有膨胀石墨和分散剂的分散液进行高速均质化来制备进料溶液的步骤。 | 对比文件（说明书第[0026]段及实施例2、3、4、5）公开了将膨胀石墨与液体（矿物油、水、有机溶剂）混合后，直接进行湿磨、超声处理或控制空化剥离。在湿磨前仅用高架搅拌机搅拌辅助润湿，未使用高速均质器进行高剪切预处理。 | **未公开。** 对比文件未记载对分散液进行高速均质化（高剪切转子-定子混合）来制备进料溶液的步骤。其预处理仅是简单搅拌或直接进入剥离工序，与目标专利的步骤1在手段和目的上均不同。 |
| **技术特征B**：使所述进料溶液通过高压均质器的步骤。 | 对比文件实施例5公开了使用SHOCKWAVE POWER REACTOR（SPR）进行控制空化，该装置通过转子（3600 rpm）产生水力空化，但未提及高压均质器或通过微通道施加高压。 | **未公开。** 对比文件没有采用高压均质器（具有微通道、高压泵送）进行剥离。控制空化装置虽涉及动态作用，但结构和工作原理与目标专利的高压均质器不同。 |
| **技术特征C**：所述高压均质器包括入口、出口以及连接在所述入口和所述出口之间并且具有微米级直径的微通道。 | 对比文件未描述任何具有入口、出口和微米级直径微通道的高压均质器结构。实施例5的SPR反应器结构未涉及微通道。 | **未公开。** 对比文件未公开该类具体结构的高压均质器。 |
| **技术特征D**：所述高速均质化通过以3000至8000rpm搅拌所述分散液来进行。 | 对比文件实施例5中SPR反应器转子转速为3600 rpm，但该转速用于控制空化剥离，并非用于高速均质化预处理步骤。 | **未公开。** 对比文件未公开在预处理步骤（步骤1）中以3000-8000 rpm进行高速搅拌。该转速出现在剥离步骤（控制空化）中，不属于目标专利定义的高速均质化。 |
| **技术特征E**：所述高速均质化进行0.5至3小时。 | 对比文件实施例5中控制空化处理时间为5小时，但同样不是用于高速均质化预处理。未发现其他与高速均质化时间相关的记载。 | **未公开。** 对比文件没有公开高速均质化预处理的时间范围。 |
| **技术特征F**：并使用高速均质器进行搅拌。 | 对比文件所有实施例中均未使用高速均质器（高剪切分散乳化机）。使用的设备包括高架搅拌机、Dyno-Mill珠磨机、超声处理器、SPR反应器，均不属高速均质器。 | **未公开。** 对比文件未使用高速均质器。 |
| **技术特征G**：其中在高速均质器的转子和定子之间施加的剪切速率为>10^4秒^-1。 | 对比文件未提及剪切速率的具体数值。 | **未公开。** 对比文件未公开该剪切速率条件。 |
| **技术特征H**：其中，所述膨胀石墨与所述分散剂的重量比为2.5至20。 | 对比文件实施例3中膨胀石墨与分散剂Pluronic P123的重量比为1:1（即重量比1）；实施例4中比例为1:1；实施例5中比例也为1:1。 | **未公开。** 对比文件公开的比例（1:1）远低于目标专利的下限2.5，且未教导或暗示可以使用2.5-20范围内的其他比例。 |
| **技术特征I**：其中，所述膨胀石墨在所述分散液中的浓度为0.5重量％至5重量％。 | 对比文件实施例2：“从0.5重量％的最大浓度开始……最大2.0重量％”；实施例3：“典型的，膨胀石墨的初始浓度是水中1-2重量%”和“最大5重量%”。 | **直接公开。** 对比文件明确公开了0.5重量%、1-2重量%、最大5重量%等浓度值，这些数值均落入目标专利的0.5-5重量%范围内。 |
| **技术特征J**：其中，所述膨胀石墨的振实密度为0.01至0.5g/cm³。 | 对比文件说明书第[0026]段关于等离子体膨胀后的比密度：“约0.03～约0.001 g/cc”。0.01 g/cc包含在该范围内。 | **直接公开。** 对比文件公开的比密度（0.001-0.03 g/cc）与膨胀石墨振实密度物理意义相近，且其中0.01-0.03 g/cc部分落入目标专利的0.01-0.5 g/cm³范围。 |
| **技术特征K**：BET表面积为5至50m²/g。 | 对比文件说明书第[0026]段：“BET表面积大于30 m²/g，例如约60-600 m²/g，例如约70-150 m²/g”。下限30 m²/g公开。 | **直接公开。** 对比文件公开的BET表面积下限30 m²/g位于目标专利5-50 m²/g范围内，其数值点直接公开。 |
| **技术特征L**：所述分散剂是芘类低分子量衍生物。 | 对比文件未提及芘类衍生物。 | **未公开。** 对比文件没有公开该具体分散剂种类。 |
| **技术特征M**：纤维素聚合物。 | 对比文件未提及纤维素聚合物。 | **未公开。** 对比文件没有公开该具体分散剂种类。 |
| **技术特征N**：阳离子表面活性剂。 | 对比文件说明书第[0026]段：“适当的表面活性剂是阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子表面活性剂或两亲性表面活性剂”。 | **直接公开。** 对比文件明确列出阳离子表面活性剂。 |
| **技术特征O**：阴离子表面活性剂。 | 同上，对比文件明确列出阴离子表面活性剂。 | **直接公开。** 对比文件明确列出阴离子表面活性剂。 |
| **技术特征P**：正十二烷基b-D-麦芽糖苷。 | 对比文件未提及该具体化合物。 | **未公开。** 对比文件没有公开该具体分散剂种类。 |
| **技术特征Q**：两性表面活性剂。 | 对比文件记载了“两亲性表面活性剂”，其广义包括两性表面活性剂。但未明确点出“两性”。 | **隐含公开。** 本领域技术人员已知两亲性表面活性剂包含两性表面活性剂类型，因此对比文件内容隐含公开了两性表面活性剂的可能性。 |
| **技术特征R**：聚乙烯吡咯烷酮类聚合物。 | 对比文件未提及聚乙烯吡咯烷酮（PVP）类聚合物。 | **未公开。** 对比文件没有公开该具体分散剂种类。 |
| **技术特征S**：聚氧化乙烯类聚合物。 | 对比文件说明书第[0026]段：“聚氧乙烯山梨醇酯（TWEEN）”、 “聚氧化乙烯/聚氧化丙烯共聚物（Pluronic）”、“聚氧化乙烯/烃二嵌段聚合物”、“脂肪酸改性聚氧化乙烯”。这些均属于聚氧化乙烯类聚合物。 | **直接公开。** 对比文件公开了多种聚氧化乙烯类聚合物。 |
| **技术特征T**：环氧乙烷-环氧丙烷共聚物。 | 对比文件说明书第[0026]段：“Pluronic（BASF），聚氧化乙烯/聚氧化丙烯共聚物”。 | **直接公开。** 对比文件明确公开了环氧乙烷-环氧丙烷共聚物。 |
| **技术特征U**：丹宁酸。 | 对比文件未提及丹宁酸。 | **未公开。** 对比文件没有公开该具体分散剂种类。 |
| **技术特征V**：多种多环芳烃氧化物的混合物，其是含有60重量％以上的量的分子量为300至1000的多环芳烃氧化物的混合物。 | 对比文件未提及此类混合物。 | **未公开。** 对比文件没有公开该具体分散剂种类。 |
| **技术特征W**：所述分散液的溶剂是选自水、NMP、丙酮、DMF、DMSO、CHP、N12P、苯甲酸苄酯、N8P、DMEU、环己酮、DMA、NMF、溴苯、氯仿、氯苯、苄腈、喹啉、二苄醚、乙醇、异丙醇、甲醇、丁醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、2-甲氧基丙醇、THF、乙二醇、吡啶、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基乙基酮、α-萜品醇、甲酸、乙酸乙酯和丙烯腈中的一种或多种。 | 对比文件实施例中使用水（实施例3）、矿物油（实施例2）、甲苯（实施例4）、DMF（实施例14）作为溶剂。这些溶剂均属于目标专利W所列的溶剂列表（水、DMF等）。 | **直接公开。** 对比文件明确使用了水、DMF等溶剂，属于目标专利W中列举的溶剂种类。 |
| **技术特征X**：其中，所述进料溶液中的膨胀石墨在施加剪切力下通过微通道时被剥离，从而制备石墨烯。 | 对比文件没有公开微通道或通过微通道施加剪切力进行剥离。湿磨通过珠磨、超声通过空化、控制空化通过水力空化实现剥离，均不涉及微通道。 | **未公开。** 对比文件未公开通过微通道剥离的技术特征。 |
| **技术特征Y**：其中，所述微通道的直径为50至300μm。 | 对比文件未公开微通道直径尺寸。 | **未公开。** 对比文件未公开该参数。 |
| **技术特征Z**：其中，所述进料溶液被引入到施加500至3000巴的压力下的所述高压均质器的入口并通过所述微通道。 | 对比文件未公开高压均质器或施加500-3000 bar的压力条件。 | **未公开。** 对比文件未公开该压力条件。 |
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### 公开性代码汇总
根据上述判断，在回答结尾插入如下代码（仅列出被直接公开或隐含公开的特征）：
直接公开：I, J, K, N, O, S, T, W
隐含公开：Q
<<<I>>><<<J>>><<<K>>><<<N>>><<<O>>><<<S>>><<<T>>><<<W>>><<<q>>>