对比文件名称：2013-01-14_KR1020130004638A_发明公开_KR1020130004638A 그래핀, 흑연 나노 플레이트의 혼합 분산액 및 그의 분말의 제조 방법
目标专利名称：1628利用高速均质化预处理和高压均质化制备石墨烯的方法CN107108226B
调用模型名称：DeepSeek-R1
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括：步骤1，对含有膨胀石墨和分散剂的分散液进行高速均质化来制备进料溶液的步骤 | 对比文件步骤包括：膨胀步骤→粉碎及热处理步骤（干法粉碎，转速15000~30000rpm，时间≤5分钟）→分散溶剂后进行高压均质化（[0037]）。没有提及在高压均质化之前对含有膨胀石墨和分散剂的分散液进行高速均质化预处理。 | 对比文件中，膨胀石墨（石墨烯蠕虫）在高压均质化前经过的是干式粉碎和热处理，而非将膨胀石墨与分散剂混合后进行高速均质化。该技术特征在对比文件中既无文字记载，也无法从现有步骤中合理推断得出，因此未公开。 |
| 技术特征B：步骤2，使所述进料溶液通过高压均质器的步骤《直接公开》 | [0037] “将经过所述粉碎和热处理步骤得到的石墨烯蠕虫分散在溶剂中后，通过高压均质器进行均质化同时进行石墨烯蠕虫的切割，得到石墨烯层结合体分散液。” | 对比文件明确公开了将分散有石墨烯蠕虫（即进料溶液）通过高压均质器进行处理，该操作与目标专利的步骤2实质相同，因此直接公开。 |
| 技术特征C：所述高压均质器包括入口、出口以及连接在所述入口和所述出口之间并且具有微米级直径的微通道《隐含公开》 | [0037] 记载了使用高压均质器（고압 균질기）。对比文件未具体描述其内部结构。 | 高压均质器是本领域公知的设备，其标准结构必然包含入口、出口和微米级直径的微通道，以实现高压剪切。本领域技术人员在对比文件仅提及“高压均质器”时，能合理推断其具备该结构，因此隐含公开。 |
| 技术特征D：其中，所述高速均质化通过以3000至8000rpm搅拌所述分散液来进行 | 对比文件在粉碎步骤使用转速15000~30000rpm（[0031]），但该步骤为干式粉碎，并非高速均质化，且转速范围与3000~8000rpm不同。 | 对比文件中没有任何步骤涉及3000~8000rpm搅拌分散液的操作，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征E：其中，所述高速均质化进行0.5至3小时 | 对比文件粉碎步骤时间≤5分钟（[0031]），高压均质化时间0.2~5小时（[0016]），但后者不属于高速均质化。 | 对比文件中不存在0.5~3小时的高速均质化时间，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征F：并使用高速均质器进行搅拌 | 对比文件未使用高速均质器进行搅拌，其粉碎步骤使用粉碎机（분쇄기）（[0031]），高压均质器用于均质化而非高速搅拌。 | 对比文件中没有采用高速均质器进行搅拌的操作，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征G：其中在高速均质器的转子和定子之间施加的剪切速率为>10⁴秒⁻¹ | 对比文件未提及剪切速率数值。 | 对比文件无任何关于剪切速率的记载，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征H：其中，所述膨胀石墨与所述分散剂的重量比为2.5至20 | 对比文件中分散剂仅在超声波处理阶段加入，加入量为总重量的0.1~3wt%（[0043]），未限定膨胀石墨与分散剂的重量比。实施例中膨胀石墨30g，分散剂1wt%（约0.3g），比例约100，不在2.5~20范围内。 | 对比文件没有公开膨胀石墨与分散剂之间的重量比关系，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征I：其中，所述膨胀石墨在所述分散液中的浓度为0.5重量％至5重量％《直接公开》 | [0068] “将通过上述方法得到的30g石墨烯蠕虫分散在970g丁基溶纤剂溶剂中”，浓度=30/(30+970)=3wt%。 | 对比文件实施例中使用的石墨烯蠕虫（膨胀石墨）浓度3wt%落在0.5~5wt%范围内，且该分散液直接用于高压均质化，作用与目标专利相同，因此直接公开。 |
| 技术特征J：其中，所述膨胀石墨的振实密度为0.01至0.5g/cm³ | 对比文件未提及振实密度。 | 对比文件无相关记载，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征K：BET表面积为5至50m²/g | 对比文件未提及BET表面积。 | 对比文件无相关记载，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征L：其中，所述分散剂是芘类低分子量衍生物《直接公开》 | [0047] “芘系衍生物（파이렌계 유도체）” | 对比文件明确列出了芘类衍生物作为分散剂，与目标专利的该分散剂种类完全相同，因此直接公开。 |
| 技术特征M：纤维素聚合物《直接公开》 | [0047] “乙烯纤维素（에틸렌 셀룰로오스）” | 乙烯纤维素属于纤维素聚合物的一种，对比文件明确公开，因此直接公开。 |
| 技术特征N：阳离子表面活性剂《直接公开》 | [0047] “十六烷基三甲基氯化铵（CTAC）、十六烷基三甲基溴化铵、十二烷基三甲基溴化铵（DTAB）” | 这些化合物均为阳离子表面活性剂，对比文件明确公开，因此直接公开。 |
| 技术特征O：阴离子表面活性剂《直接公开》 | [0047] “十二烷基苯硫酸盐、十二烷基苯磺酸钠（NaDDBS）、十二烷基磺酸钠（SDS）、十二烷基硫酸锂（LDS）” | 这些化合物均为阴离子表面活性剂，对比文件明确公开，因此直接公开。 |
| 技术特征P：正十二烷基b‑D‑麦芽糖苷 | 对比文件[0047]虽列出多糖类，但未具体提及正十二烷基b‑D‑麦芽糖苷。 | 该具体分散剂种类未在对比文件中出现，因此未被公开。 |
| 技术特征Q：两性表面活性剂 | 对比文件未明确指出两性表面活性剂。 | 对比文件所列分散剂中没有明确的两性表面活性剂，因此未被公开。 |
| 技术特征R：聚乙烯吡咯烷酮类聚合物《直接公开》 | [0047] “聚乙烯吡咯烷酮（PVP）” | 对比文件明确公开聚乙烯吡咯烷酮，符合该特征，因此直接公开。 |
| 技术特征S：聚氧化乙烯类聚合物《直接公开》 | [0047] “聚环氧乙烷（Poly Ethylene Oxide）” | 聚环氧乙烷属于聚氧化乙烯类聚合物，对比文件明确公开，因此直接公开。 |
| 技术特征T：环氧乙烷‑环氧丙烷共聚物《直接公开》 | [0047] “聚环氧乙烷‑聚环氧丙烷共聚物” | 对比文件明确公开该共聚物，因此直接公开。 |
| 技术特征U：丹宁酸 | 对比文件未提及丹宁酸。 | 对比文件无相关记载，因此未被公开。 |
| 技术特征V：多种多环芳烃氧化物的混合物，其是含有60重量％以上的量的分子量为300至1000的多环芳烃氧化物的混合物 | 对比文件未记载该特定混合物。 | 对比文件无相关记载，因此未被公开。 |
| 技术特征W：其中，所述分散液的溶剂是选自水、NMP、丙酮、DMF、DMSO、CHP、N12P、苯甲酸苄酯、N8P、DMEU、环己酮、DMA、NMF、溴苯、氯仿、氯苯、苄腈、喹啉、二苄醚、乙醇、异丙醇、甲醇、丁醇、2‑乙氧基乙醇、2‑丁氧基乙醇、2‑甲氧基丙醇、THF、乙二醇、吡啶、N‑乙烯基吡咯烷酮、甲基乙基酮(丁酮)、α‑萜品醇、甲酸、乙酸乙酯和丙烯腈中的一种或多种《直接公开》 | [0040] 列出了大量溶剂，包括水、丙酮、甲基乙基酮、甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、乙二醇、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N‑甲基‑2‑吡咯烷酮(NMP)、环己酮、氯仿、二氯苯、吡啶、硝基甲烷、丙烯腈、二甲基亚砜、乙酸乙酯、N‑甲基吡咯烷酮(NMP)、N,N‑二甲基甲酰胺(DMF)、α‑萜品醇、甲酸、2‑乙氧基乙醇、2‑丁氧基乙醇、2‑甲氧基丙醇、N‑乙烯基‑2‑吡咯烷酮(NVP)、1‑十二烷基‑2‑吡咯烷酮(N12P)、1‑辛基‑2‑吡咯烷酮(N8P)、1,3‑二甲基‑2‑咪唑烷酮(DMEU)、苄基苯甲酸酯等。 | 对比文件所列溶剂涵盖了目标专利技术特征W中的绝大多数成员（如水、NMP、DMF、DMSO、N12P、苯甲酸苄酯、N8P、DMEU、环己酮、DMA、氯仿、氯苯、乙醇、异丙醇、甲醇、丁醇、2‑乙氧基乙醇、2‑丁氧基乙醇、2‑甲氧基丙醇、THF、乙二醇、吡啶、N‑乙烯基吡咯烷酮、甲基乙基酮、α‑萜品醇、甲酸、乙酸乙酯、丙烯腈等），且用于相同的分散目的，因此直接公开。 |
| 技术特征X：其中，所述进料溶液中的膨胀石墨在施加剪切力下通过微通道时被剥离，从而制备石墨烯《直接公开》 | [0039] “通过高压的均质化过程，石墨烯蠕虫被切割，石墨烯和石墨纳米片的生成比例最大化。” [0080] 显示得到石墨烯的TEM图像。 | 对比文件明确记载了在高压均质器中通过剪切力使石墨烯蠕虫被剥离（切割）得到石墨烯，该过程与目标专利中膨胀石墨通过微通道时剥离形成石墨烯的原理和结果相同，因此直接公开。 |
| 技术特征Y：其中，所述微通道的直径为50至300μm | 对比文件未提及微通道直径。 | 对比文件无相关记载，因此该技术特征未被公开。 |
| 技术特征Z：其中，所述进料溶液被引入到施加500至3000巴的压力下的所述高压均质器的入口并通过所述微通道 | 对比文件未提及具体的压力数值。 | 对比文件无相关记载，因此该技术特征未被公开。 |
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