对比文件：2014-09-18_JP2014524093A_发明专利_JP2014524093A Touch panel comprising a conductive pattern
目标专利：1650触摸传感器及其制造方法CN108093651B
本次调用模型：DeepSeek
# 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| **A: “其中”** //《直接公开》 | “前記第１伝導性パターンおよび第２伝導性パターンは規則的なパターンであってもよく、不規則的なパターンであってもよい。”（对比文件[2]）其中，所述第一传导性图案和所述第二传导性图案可以是规则的图案，也可以是不规则的图案。 | 对比文件中使用“其中”作为引导技术特征的连接词，与目标专利特征A“其中”的词性和语法作用完全相同，本领域技术人员可以直接从对比文件中获知该词语，故直接公开。 |
| **B: “所述第一布线电极单元包括”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件仅涉及第一和第二导电图案，未提及“第一布线电极单元”这一结构，也没有公开任何布线电极单元的区分，因此该技术特征未被对比文件公开。 |
| **C: “将所述驱动电极单元或所述感测电极单元连接至所述第二布线电极单元的一束或两束以上的导线，”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件中完全没有出现“驱动电极单元”、“感测电极单元”、“第二布线电极单元”以及“一束或两束以上的导线”等概念，且其整体结构（双层或双面导电图案）与目标专利的单面单片型触摸传感器不同，故该特征未被公开。 |
| **D: “各所述导线由网格图案形成，”** //《隐含公开》 | “前記第１伝導性パターンおよび第２伝導性パターンは伝導性金属線からなるパターンを含むことができる。”（对比文件[2]） “前記規則的なパターンとしてはメッシュパターンなどの当技術分野のパターン形状が用いられることができる。”（对比文件[2]） | 对比文件明确公开了导电图案可由导电金属线形成，并且该图案可以是网格图案（メッシュパターン）。本领域技术人员知晓，在触摸传感器中，用于连接电极的导线同样可以采用相同的网格图案来制作。因此，虽然对比文件没有直接指明“导线”由网格图案形成，但本领域技术人员根据对比文件的教导可以合理推断出这种实现方式，故隐含公开。 |
| **E: （无内容）** //未公开 | 无。 | 特征E无实质性技术内容，未构成技术方案的一部分。 |
| **F: “在所述束中包括最大数目的导线的束中，”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件没有公开“束”的概念，也没有讨论束中导线数目的不同，因此该特征未被公开。 |
| **G: “所述束的宽度W、”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件未涉及任何“束”的宽度参数，也未公开W的含义，故未公开。 |
| **H: “所述束中所包括的导线的数目n2”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件未提及束中导线的数目，没有公开n2这一参数，故未公开。 |
| **I: “和”** //《直接公开》 | “前記第１伝導性パターンおよび第２伝導性パターンは……（对比文件[2]）”，“および”中文翻译为“和”。 | 对比文件中广泛使用连词“和”（“および”），与目标专利特征I中的“和”完全相同，故直接公开。 |
| **J: “形成所述导线的所述网格图案中共享至少一边的相邻网格结构的中心点之间的距离中的最小值P”** //《隐含公开》 | “前記第１伝導性パターンおよび第２伝導性パターンのピッチは６００μｍ以下であってもよく、２５０μｍ以下であってもよい。”（对比文件[2]） | 对比文件公开了网格图案的间距（ピッチ）范围。对于规则网格（共享至少一边的相邻网格结构），中心点之间的距离即等于网格间距。因此，本领域技术人员从对比文件可以毫无疑义地获知网格图案中存在中心点距离参数P（即间距），且该参数是网格图案设计中的常用量。故特征J被隐含公开。 |
| **K: “满足下面的式2，”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件中没有出现目标专利中的式2，也没有任何类似的公式关系，故未公开。 |
| **L: “[式2]”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件中没有式2的标识，也没有与之对应的公式，故未公开。 |
| **M: “其中，”** //《直接公开》 | “前記第１伝導性パターンは開口率が０．５％以上異なるＡ領域およびＢ領域を含み、前記第２伝導性パターンは前記Ａ領域と重なるＣ領域および前記Ｂ領域と重なるＤ領域を含み、……”（对比文件[2]） | 特征M与特征A相同，均为引导性词语“其中”。对比文件中存在多处“其中”，故直接公开。 |
| **N: “所述束形成为图案形状，”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件没有公开任何关于“束”的图案形状的描述，故未公开。 |
| **O: “其中，”** //《直接公开》 | (同特征A、M，对比文件[2]中多处使用“其中”) | 同样作为连接词“其中”，对比文件中直接使用，故直接公开。 |
| **P: “具有两个第一断开点的闭合图形在从所述基板的与所述第二布线电极的端部相邻的一侧到所述基板的与所述一侧相对的另一侧的方向上连续设置，”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件虽提及了断点（交点断线），但断点是在网格交叉点处断开，并不涉及具有两个第一断开点的闭合图形，也没有在基板特定方向上的连续设置描述，故未公开。 |
| **Q: “用最短距离连接连续设置的闭合图形的相邻第一断开点的虚拟直线具有一个以上的拐点，”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件没有讨论闭合图形、第一断开点以及连接它们的虚拟直线，更未提及拐点，故未公开。 |
| **R: “由所述拐点处的所述虚拟直线形成的角度为90°以上，”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件中没有角度限制的教导，故未公开。 |
| **S: （无内容）** //未公开 | 无。 | 特征S无实质性技术内容。 |
| **T: “与所述虚拟直线接触的图案将所述驱动电极单元或所述感测电极单元电连接至所述第二布线电极单元。”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件中没有图案与虚拟直线接触连接电极单元的公开内容，故未公开。 |
| **U: “其中，”** //《直接公开》 | (同特征A、M、O，对比文件[2]中多处使用“其中”) | 直接公开理由同上。 |
| **V: “式2由下面的式3表示，”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件没有披露式2或式3，故未公开。 |
| **W: “[式3]”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件中没有式3的标识或内容，故未公开。 |
| **X: “在式3中，”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件没有式3，故未公开。 |
| **Y: “W、n2和P与式2中定义的含义相同，”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件未定义W、n2、P及其含义，故未公开。 |
| **Z: “θ1表示以最短距离在所述束的宽度方向上连续的直线与用所述最短距离连接共享至少一边的所述相邻网格结构的中心点的直线之间的角度的较小值。”** //未公开 | 无直接对应内容。 | 对比文件中没有θ1的概念或类似角度定义，故未公开。 |
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