对比文件名称：KR1020130005093A_发明公开_KR1020130005093A 단일 금속박막 터치패널 및 제조방법
目标专利名称：1650触摸传感器及其制造方法CN108093651B
本次调用的模型名称：深度思考推理模型
### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| A：其中，<br>《直接公开》 | [0032] “透明基板110可以具备活动区域110A和非活动区域110B。其中，活动区域110A是…” | 对比文件[0032]使用“其中”连接前文与对活动区域的定义，与目标专利中“其中”起到引出后续技术内容的连接词作用相同，本领域技术人员能毫无疑义地确定对比文件公开了该连接形式。 |
| B：所述第一布线电极单元包括<br>《直接公开》 | [0010] “形成在所述透明基板的活动区域或非活动区域上并将所述第一金属传感电极电连接的第一金属布线电极…”；[0034] “不仅在非活动区域而且在活动区域也形成金属布线电极部” | 对比文件明确公开了位于活动区域（相当于触摸感测区域）的金属布线电极部，该部分将传感电极电连接，其功能与目标专利的第一布线电极单元完全相同，且“金属布线电极部”与“第一布线电极单元”实质等同，因此直接公开。 |
| C：将所述驱动电极单元或所述感测电极单元连接至所述第二布线电极单元的一束或两束以上的导线，<br>《隐含公开》 | [0050] “形成在第1、3、5、7列的第一金属传感电极121分别与单独的第一金属布线电极131电连接并连接到连接部140。” | 对比文件公开了多个单独的第一金属布线电极将对应的第一金属传感电极（感测电极单元）分别连接至连接部（相当于第二布线电极单元）。虽然未直接使用“束”的表述，但本领域技术人员可以合理推断这些导线在布线时自然地集合成束走线，以实现相同的连接功能。因此该特征被隐含公开。 |
| D：各所述导线由网格图案形成，<br>《直接公开》 | [0065] “利用曝光工序在透明基板110的活动区域110A上同时形成网状(MESH)形状的金属传感电极部120和金属布线电极部130。” | 对比文件明确金属布线电极部130形成网状（MESH）形状，即网格图案。金属布线电极部的导线必然由网格图案形成，与目标专利要求完全一致，因此直接公开。 |
| E：（空白） | - | 无实质技术内容，无需判断。 |
| F：在所述束中包括最大数目的导线的束中，<br>《未公开》 | 对比文件未提及“束”的概念，也无“最大数目的导线”的描述。 | 目标专利进一步限定了束中包含导线最多的特定束，而对比文件未公开任何关于束及其导线程式化的内容，本领域技术人员无法从对比文件中直接或隐含得到该特征。 |
| G：所述束的宽度W、<br>《未公开》 | 对比文件未提及束的宽度参数。 | 对比文件未公开束的任何几何尺寸参数，包括宽度W。 |
| H：所述束中所包括的导线的数目n2<br>《未公开》 | 对比文件未提及束的导线数目参数。 | 目标专利限定了束中导线数目n2，对比文件没有涉及束导线数目的内容。 |
| I：和<br>《未公开》 | 对比文件虽使用“和”等连词，但该特征在目标专利中为参数列举的连接词，不具备独立技术功能，不构成实质性技术特征，故不认为被公开。 | 该特征仅作为语法连接，对比文件即使出现类似词语也不产生技术效果，因此不视为公开。 |
| J：形成所述导线的所述网格图案中共享至少一边的相邻网格结构的中心点之间的距离中的最小值P<br>《未公开》 | 对比文件仅公开了传感电极的线间隔（≥100μm），但未涉及网格结构中心点距离的最小值P，更为公开布线电极网格的该参数。 | 目标专利限定了紧邻网格结构中心点距离的最小值P作为参数，对比文件无此参数教导。 |
| K：满足下面的式2，<br>《未公开》 | 对比文件未公开任何数学关系式。 | 目标专利要求满足式2的定量关系，对比文件完全缺失该关系式。 |
| L：[式2]<br>《未公开》 | 对比文件未公开式2及其内容。 | 对比文件无对应公式。 |
| M：其中，<br>《直接公开》 | [0041] “所述第一方向和所述第二方向不限于此，也可以为其他方向，但…”（该段落使用“所述”等连接，但其他段落如[0032]同样使用“其中”） | 对比文件多处使用“其中”（如[0032]），其作为连接词的功能与目标专利特征M相同，本领域技术人员可毫无疑义地确认对比文件公开了该表达。 |
| N：所述束形成为图案形状，<br>《未公开》 | 对比文件未描述束的图案形状。 | 目标专利限定束形成特定图案形状，对比文件无任何关于束（或类似结构）图案形状的教导。 |
| O：其中，<br>《直接公开》 | 同特征A、M，对比文件[0032]等段落出现“其中”。 | 理由同特征A、M，直接公开。 |
| P：具有两个第一断开点的闭合图形在从所述基板的与所述第二布线电极的端部相邻的一侧到所述基板的与所述一侧相对的另一侧的方向上连续设置，<br>《未公开》 | 对比文件未提及“断开点”“闭合图形”“连续设置”等技术要素。 | 目标专利限定了包括特定断开点的闭合图形及其设置方向，对比文件无任何断开点或类似结构。 |
| Q：用最短距离连接连续设置的闭合图形的相邻第一断开点的虚拟直线具有一个以上的拐点，<br>《未公开》 | 对比文件未公开虚拟直线或拐点。 | 目标专利基于断开点定义了虚拟直线和拐点，对比文件无对应概念。 |
| R：由所述拐点处的所述虚拟直线形成的角度为90°以上，<br>《未公开》 | 对比文件未公开角度关系。 | 目标专利限定拐点处角度≥90°，对比文件无任何相关角度限定。 |
| S：（空白） | - | 无实质技术内容。 |
| T：与所述虚拟直线接触的图案将所述驱动电极单元或所述感测电极单元电连接至所述第二布线电极单元。<br>《未公开》 | 对比文件虽公开了金属布线电极将传感电极连接至连接部，但未基于虚拟直线或断开点定义该连接。 | 目标专利的连接关系是与特定虚拟直线接触的图案实现的，对比文件缺少虚拟直线、断开点等前提，因此未公开。 |
| U：其中，<br>《直接公开》 | 同特征A、M、O，对比文件[0032]等段落使用“其中”。 | 理由同特征A，直接公开。 |
| V：式2由下面的式3表示，<br>《未公开》 | 对比文件未公开式2或式3。 | 目标专利的式2与式3关联，对比文件无任何公式内容。 |
| W：[式3]<br>《未公开》 | 对比文件未公开式3。 | 对比文件无此公式。 |
| X：在式3中，<br>《未公开》 | 对比文件未公开任何公式定义。 | 对比文件缺乏式3及其参数定义。 |
| Y：W、n2和P与式2中定义的含义相同，<br>《未公开》 | 对比文件未公开参数W、n2、P。 | 目标专利重申参数含义，对比文件无这些参数。 |
| Z：θ1表示以最短距离在所述束的宽度方向上连续的直线与用所述最短距离连接共享至少一边的所述相邻网格结构的中心点的直线之间的角度的较小值。<br>《未公开》 | 对比文件未公开角度θ1及其定义。 | 目标专利限定θ1的计算方式，对比文件无对应定义。 |
### 公开性代码输出
根据上述比对，直接公开的技术特征包括：A、B、D、M、O、U；隐含公开的技术特征包括：C。因此输出以下代码：
<<<A>>><<<B>>><<<D>>><<<M>>><<<O>>><<<U>>><<<c>>>