**模型名称：** 无（用户未指定）
**对比文件名称：** 2014-02-16_TW201407451A_发明专利_TW201407451A 觸控面板用膜及使用該膜之觸控面板以及與該膜一起使用之觸控筆
**目标专利名称：** 1662触摸屏及其制造方法CN106662951B
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### 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| **A：包括（直接公开）** | “觸控面板裝置1，在液晶顯示裝置的LCD單元2之上設觸控面板3，於其上，中介著介電質之覆蓋玻璃4，設置作為觸控面板用膜之高電阻膜5。”（实施方式部分） | 对比文件直接描述了触控面板装置的结构组成，包含LCD单元、触控面板、覆盖玻璃、高电阻膜等，隐含“包括”之意，且该结构已是完整的触摸屏组件，故本领域技术人员能毫无疑义地确定对比文件公开了“触摸屏包括……”。 |
| **B：驱动电极单元（隐含公开）** | “於透明的絕緣膜53的背側，被形成供進行Y方向座標的檢測之用的具有複數電極的氧化銦錫膜51”（背景技术部分）；“觸控面板3……於絕緣膜10的背側被形成複數電極墊12”（实施方式部分） | 对比文件中的ITO膜51或電極墊12用于Y方向坐标检测，在互电容式触摸屏中，该方向通常作为驱动电极（Tx）层。虽然对比文件未明确命名“驱动电极单元”，但本领域技术人员可以合理推断出该电极膜/垫构成驱动电极单元，故属于隐含公开。 |
| **C：驱动电极单元包括设置在第一基板上的驱动电极图案（隐含公开）** | “於透明的絕緣膜53的背側，被形成……氧化銦錫膜51”（背景技术部分） | 对比文件中的绝缘膜53（或实施方式中的绝缘膜10）可作为第一基板，该基板上形成的电极膜51（或電極墊12）即为电极图案，且该图案用于驱动功能。本领域技术人员可确定其满足“驱动电极图案设置在第一基板上”的技术方案，因此隐含公开。 |
| **D：即Tx图案（隐含公开）** | 同上 | 驱动电极图案在业内通常被称为Tx（Transmitter）图案。对比文件虽未直接使用“Tx”术语，但本领域技术人员在得知该图案为驱动电极时，必然知晓其对应Tx图案，故隐含公开。 |
| **E：（空）** | - | 无具体技术内容，不构成技术特征。 |
| **F：感测电极单元（隐含公开）** | “於表側被形成供進行X方向座標的檢測之具有複數電極的ITO膜52”（背景技术部分）；“於絕緣膜10的表側被形成複數電極墊11”（实施方式部分） | 对比文件的ITO膜52或電極墊11用于X方向坐标检测，在互电容触摸屏中，该方向通常作为感测电极（Rx）层。本领域技术人员可合理推断出其构成感测电极单元，隐含公开。 |
| **G：感测电极单元包括设置在第二基板上的感测电极图案（隐含公开）** | “於透明的絕緣膜53的表側，被形成……ITO膜52”（背景技术部分） | 对比文件的绝缘膜53（或实施方式中的绝缘膜10）的表侧可作为第二基板，该基板上形成的电极膜52（或電極墊11）即为感测电极图案。本领域技术人员可确定“感测电极图案设置在第二基板上”，隐含公开。 |
| **H：即Rx图案（隐含公开）** | 同上 | 感测电极图案在业内通常被称为Rx（Receiver）图案。本领域技术人员在得知该图案为感测电极时，必然知晓其对应Rx图案，故隐含公开。 |
| **I：其中** | - | 无技术限定作用。 |
| **J：驱动电极图案和感测电极图案包括导电金属线（未公开）** | 对比文件全文未提及导电金属线，其电极图案由ITO（氧化铟锡）形成（背景技术部分及实施方式部分） | 对比文件的所有电极图案（ITO膜、电极垫）均为透明导电氧化物，并非金属线。不存在导电金属线的任何记载或暗示，因此未公开。 |
| **K：（空）** | - | - |
| **L：驱动电极图案的节距小于感测电极图案的节距（未公开）** | 对比文件未涉及图案节距及其比较。 | 对比文件中电极垫的布置周期（节距）未作任何限定，更无驱动节距小于感测节距的教导或暗示，故未公开。 |
| **M：因此** | - | 无技术限定作用。 |
| **N：感测电极单元的每单位面积的电荷的变化为40%或小于40%（未公开）** | 对比文件未涉及电荷变化百分比，仅涉及静电容的绝对值及其与表面电阻率的关系。 | 目标专利通过特定节距关系控制电荷变化，对比文件完全不涉及该参数，因此未公开。 |
| **O：以减少** | - | 无技术限定作用。 |
| **P：驱动电极单元的下表面的触摸感测（未公开）** | 对比文件涉及的是在膜表面接触时虚拟扩大接触面积，不涉及由后表面触摸引起的误操作问题。 | 对比文件的目的在于允许细笔尖操作，而非减少后表面触摸感测，无任何相关内容，未公开。 |
| **Q：其中** | - | 无技术限定作用。 |
| **R：感测电极图案的节距为240μm至400μm（未公开）** | 对比文件无任何节距数值范围，电极垫对角线宽为5mm（背景技术部分），但非节距。 | 对比文件中未公开或暗示感测电极图案的节距在240μm至400μm之间，也未涉及任何微米级节距，故未公开。 |
| **S：驱动电极图案的节距为120μm至160μm（未公开）** | 对比文件无任何节距数值范围。 | 对比文件未公开或暗示驱动电极图案的节距在120μm至160μm之间，未公开。 |
| **T：驱动电极图案和感测电极图案包括通过使构成图案的线之中的多个预定的线交叉而形成的交叉点（未公开）** | 对比文件中的电极图案为菱形电极垫（感测器电极），垫之间以窄连接相连（背景技术图11、12），并非由导线交叉形成的网格结构。 | 目标专利的图案为金属网格，具有线交叉形成的交叉点。对比文件的ITO电极垫是面状图案，无“线交叉”结构，因此未公开。 |
| **U：（空）** | - | - |
| **V：交叉点的数量为4000到123000（未公开）** | 对比文件无网格结构，无交叉点。 | 对比文件未公开任何交叉点及其数量范围，未公开。 |
| **W：驱动电极图案和感测电极图案中的每个的厚度为0.5μm或小于0.5μm（未公开）** | 对比文件未公开任何金属厚度，其ITO膜厚度也未限定。 | 目标专利限定金属线的厚度，对比文件不涉及金属线，更无厚度数值，未公开。 |
| **X：其中** | - | 无技术限定作用。 |
| **Y：驱动电极图案和感测电极图案中的每个的线宽独立地为2μm到4μm（未公开）** | 对比文件无金属线，无线宽定义。 | 对比文件的ITO电极垫为面状，未涉及线宽，也无2-4μm的数值，未公开。 |
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### 公开性代码输出
根据上述特征比对，对比文件直接公开了技术特征A，隐含公开了技术特征B、C、D、F、G、H。其余特征（E、I、J、K、L、M、N、O、P、Q、R、S、T、U、V、W、X、Y）未被直接或隐含公开。
因此，结尾插入代码为：
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