对比文件名称：2015-10-22_JP2015184428A_发明专利_JP2015184428A 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型、反射防止物品の製造方法及び反射防止物品の製造用金型の製造方法
目标专利名称：1668减反射膜和显示装置CN108027456B
本次调用模型名称：深度思考模型（GPT-4模拟）
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（中文翻译） | 公开性论述 |
| 技术特征A：包括硬涂层（隐含公开） | 对比文件[0030]：“反射防止物品1在基材2上形成未硬化状态的树脂层（以下称为受容层），该受容层成为由微小突起群构成的微细凹凸形状，通过赋型处理使该受容层固化，从而在基材2的表面密集配置微小突起。在本实施方式中，作为受容层4，使用丙烯酸酯系紫外线硬化性树脂（赋型用树脂之一），在基材2上形成紫外线硬化性树脂层（4）。” | 对比文件公开了在基材上直接形成固化树脂层（受容层），该层位于基材表面，提供表面凹凸形状和机械强度，其功能与目标专利的硬涂层实质相同。虽然对比文件未使用“硬涂层”这一术语，但本领域技术人员可以毫无疑义地将受容层视为硬涂层。因此技术特征A被隐含公开。 |
| 技术特征B：在所述硬涂层上形成的低折射率层（未公开） | 对比文件整体未公开在受容层（硬涂层）上另外形成低折射率层的结构。对比文件[0030]仅描述了基材上的一层受容层，该层本身通过微突起实现减反射，无独立低折射率层。 | 对比文件的减反射物品为单层树脂层结构，不存在在硬涂层上另行涂布的低折射率层。目标专利的低折射率层是独立涂覆的功能层，而对比文件仅有一层，因此技术特征B未公开。 |
| 技术特征C：减反射膜表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5（未公开） | 对比文件[0009]公开了谷底包络面的参数：“平均间隔Sm为100μm以上、600μm以下，平均倾斜角θa为0.1度以上、1.2度以下，10点平均粗さRz为0.2μm超过、1.0μm以下”。未公开粗糙度偏度(Rsk)。 | 对比文件未使用Rsk作为表面形貌表征参数，也未限定其数值范围。本领域技术人员无法从对比文件直接或合理推断出Rsk大于0.5且小于5，因此技术特征C未公开。 |
| 技术特征D：表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度（未公开） | 对比文件[0009]公开谷底包络面的平均倾斜角θa为0.1度以上1.2度以下。 | 目标专利的倾斜角是减反射膜表面凹凸形状的局部倾斜角（如图1定义），对比文件的θa是谷底包络面的平均倾斜角，两者定义不同且数值范围差异大（0.1~1.2度 vs 0.01~0.2度），因此技术特征D未公开。 |
| 技术特征E：硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒（未公开） | 对比文件[0030]公开受容层使用丙烯酸酯系紫外线硬化性树脂，但未提及含有微粒。对比文件[0082]在描述模具凹凸面层形成时提到“树脂に微粒子を添加した防眩性用組成物”，但该凹凸面层是模具的一部分，并非最终产品的硬涂层。 | 对比文件最终产品的受容层仅由树脂构成，未添加有机或无机微粒。模具制造中使用含微粒的树脂不能等同于产品中硬涂层含有微粒，因此技术特征E未公开。 |
| 技术特征F：有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm（未公开） | 对比文件未公开任何关于微粒粒径的内容。 | 对比文件未涉及硬涂层中的微粒，更未公开其粒径范围，因此未公开。 |
| 技术特征G：硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm（未公开） | 对比文件未公开受容层厚度，根据[0055]微突起平均高度约178nm，可推测受容层厚度远小于5μm。 | 对比文件未公开硬涂层厚度，也无法从已知内容合理推断其厚度在5-10μm范围内，因此未公开。 |
| 技术特征H：Rsk和倾斜角是通过非接触表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果（未公开） | 对比文件[0037]记载：“表面形状は、走査型プローブ顕微鏡又は原子間力顕微鏡を用いて2次元又は3次元のプロファイルを測定し”，即使用扫描型探针显微镜或原子力显微镜测量，并非非接触3D光学轮廓仪。 | 对比文件使用接触式或接近式的探针显微镜，目标专利明确要求非接触式3D光学轮廓仪，两者测量原理不同，因此技术特征H未公开。 |
| 技术特征I：减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％（未公开） | 对比文件[0004]提到“反射率を低くできる”，但未给出具体数值范围。 | 对比文件仅定性描述反射率低，未公开具体数值，无法判断是否小于4%，因此未公开。 |
| 技术特征J：减反射膜的内部雾度大于0且小于10％（未公开） | 对比文件未公开内部雾度参数。 | 对比文件未涉及雾度测量或定义，因此未公开。 |
| 技术特征K：减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％（未公开） | 对比文件未公开外部雾度参数。 | 对比文件未涉及雾度测量或定义，因此未公开。 |
| 技术特征L：基于100重量份的可光聚合化合物的(共)聚合物，硬涂层包含1重量份至20重量份的有机或无机微粒（未公开） | 对比文件未公开硬涂层中微粒含量。 | 对比文件未公开微粒及其含量，因此未公开。 |
| 技术特征M：基于有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子（未公开） | 对比文件未公开硬涂层中添加无机纳米粒子。 | 对比文件未公开此类纳米粒子及其含量，因此未公开。 |
| 技术特征N：硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子（未公开） | 对比文件未公开硬涂层中添加此类无机纳米粒子。 | 对比文件未公开，因此未公开。 |
| 技术特征O：低折射率层包含：粘合剂树脂（未公开） | 对比文件未公开低折射率层。 | 对比文件未公开低折射率层，故未公开。 |
| 技术特征P：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物（未公开） | 对比文件未公开含氟化合物及聚倍半硅氧烷。 | 对比文件未公开低折射率层的具体组成，因此未公开。 |
| 技术特征Q：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒（未公开） | 对比文件未公开低折射率层中的无机微粒。 | 对比文件未公开，因此未公开。 |
| 技术特征R：在聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团（未公开） | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷及其官能团。 | 对比文件未公开任何聚倍半硅氧烷相关内容，因此未公开。 |
| 技术特征S：被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被非反应性官能团取代（未公开） | 对比文件未公开。 | 未公开。 |
| 技术特征T：被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷（未公开） | 对比文件未公开。 | 未公开。 |
| 技术特征U：具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代（未公开） | 对比文件未公开。 | 未公开。 |
| 技术特征V：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代（未公开） | 对比文件未公开。 | 未公开。 |
| 技术特征W：在聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上（未公开） | 对比文件未公开。 | 未公开。 |
| 技术特征X：可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物（直接公开） | 对比文件[0030]：“作为受容层4，使用丙烯酸酯系紫外线硬化性树脂（赋型用树脂之一）”。丙烯酸酯系紫外线硬化性树脂通常含有(甲基)丙烯酸酯基的单体或低聚物。 | 对比文件直接公开了使用丙烯酸酯系树脂，该树脂必然包含(甲基)丙烯酸酯基的单体或低聚物，因此技术特征X被直接公开。 |
| 技术特征Y：氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种（未公开） | 对比文件未公开任何氟系化合物。 | 对比文件未公开含氟化合物，因此未公开。 |
| 技术特征Z：无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子（未公开） | 对比文件未公开中空二氧化硅粒子。 | 对比文件未公开中空二氧化硅粒子及其粒径，因此未公开。 |
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