对比文件的名称：2009-12-10_JP2009288732A_发明专利_JP2009288732A Anti-glare film
目标专利的名称：1668减反射膜和显示装置CN108027456B
本次调用的模型名称：AI模型
| 技术特征描述及公开性判断结果 | 对比文件原文引用 | 公开性论述 |
| **技术特征A**：包括：硬涂层 《直接公开》 | 对比文件[2]段：“凹凸形状を有する樹脂層としてはハードコート層に形状が賦与されているものが好ましく用いられる。” 中文翻译：“作为具有凹凸形状的树脂层，优选使用赋予了形状的硬涂层。” | 对比文件明确记载了硬涂层（ハードコート層）作为形成表面凹凸的树脂层，直接公开了减反射膜包括硬涂层。 |
| **技术特征B**：在所述硬涂层上形成的低折射率层 《直接公开》 | 对比文件[2]段：“本発明の防眩フィルムは、表面凹凸の形状が付与されたハードコート層などの樹脂層の観察側に、さらに薄膜層を設けてもよい。その場合、光の干渉を利用した反射防止膜を設けるのも好ましい態様である。その場合、１層の低屈折率層を設けてもよく…” 中文翻译：“本发明的防眩膜也可以在赋予了表面凹凸形状的硬涂层等树脂层的观察侧进一步设置薄膜层。此时，优选设置利用光干涉的防反射膜。此时，可以设置一层低折射率层…” | 对比文件直接教导在硬涂层上设置低折射率层作为防反射膜，因此低折射率层形成于硬涂层上被直接公开。 |
| **技术特征C**：所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5 《未公开》 | 对比文件[2]段：“本発明の表面凹凸のスキューネス（ＳＲｓｋ）が−１．０〜１．０であるのが好ましい。” 中文翻译：“本发明的表面凹凸的偏度（SRsk）优选为-1.0~1.0。” | 对比文件公开的SRsk范围是-1.0~1.0，并指出SRsk正且大会导致耐磨性差，因此其公开的范围和目标专利要求的>0.5且<5不同，且未教导该范围，故未公开。 |
| **技术特征D**：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度 《未公开》 | 对比文件全文未出现“倾斜角”或类似角度的数值。 | 对比文件没有公开任何关于倾斜角的具体数值范围，也未涉及该参数，因此未公开。 |
| **技术特征E**：所述硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒 《直接公开》 | 对比文件[2]段：“…表示装置によっては透過光を内部で散乱させた方が好ましい場合には、ハードコート層内部に３０μ以下の無機粒子や樹脂粒子を存在させることができる。” 中文翻译：“…根据显示装置，当优选使透射光在内部散射时，可以在硬涂层内部存在30μm以下的无机粒子或树脂粒子。” 同时对比文件在硬涂层材料中使用了光固化树脂（紫外線硬化樹脂）。 | 对比文件明确公开硬涂层（ハードコート層）内部可含有无机或树脂（有机）微粒，且硬涂层本身由可光聚合的树脂（粘合剂）形成，因此直接公开了该特征。 |
| **技术特征F**：所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm 《未公开》 | 对比文件[2]段仅笼统提到“３０μ以下の無機粒子や樹脂粒子”，未具体限定1-5μm；用于转印的粒子（200μm、50μm、10μm）属于不同用途。 | 对比文件未明确公开硬涂层内分散的微粒粒径为1-5μm，因此未公开。 |
| **技术特征G**：所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm 《直接公开》 | 对比文件[2]段：“樹脂層の厚みとしては、０．５μｍ〜５０μｍのものを用いることがでる。…このため特に１〜１０μｍの範囲で好ましく用いられる。” 中文翻译：“树脂层的厚度可以使用0.5μm~50μm的厚度。…因此特别优选使用1~10μm的范围。” | 对比文件公开了硬涂层厚度优选1-10μm，该范围直接包含了大于5μm且小于10μm的子范围，因此该技术特征被直接公开。 |
| **技术特征H**：所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果 《未公开》 | 对比文件[2]段中使用的是“株式会社小坂研究所の表面形状測定器「サーフコーダＥＴ４０００」”（接触式触针型表面形状测定器），并非非接触式3D光学轮廓仪。 | 对比文件采用的测量工具是接触式触针法，而非目标专利所限定的非接触式光学轮廓仪，因此该测量方法特征未被公开。 |
| **技术特征I**：所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％ 《未公开》 | 对比文件仅在反射特性评价中给出定性描述（如“荧光灯模糊”），未提供定量反射率数值。 | 对比文件没有公开380-780nm范围内的平均反射率数值，也未提及小于4%的范围，故未公开。 |
| **技术特征J**：所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10％ 《未公开》 | 对比文件虽然定义了内部雾度的测量方法（内部ヘーズ），但未给出具体数值范围。 | 对比文件没有公开内部雾度大于0且小于10%的范围，因此未公开。 |
| **技术特征K**：所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％ 《直接公开》 | 对比文件[2]段：“表面ヘーズは３％以下であるものが好ましく、さらには１％以下、特に０．７％以下のものはクリアさの要求される用途においては好ましく用いられる。” 中文翻译：“表面雾度优选为3%以下，进一步为1%以下，特别为0.7%以下，在要求清晰度的用途中优选使用。” | 外部雾度（表面ヘーズ）小于3%的范围必然包含小于0.5%的子范围，因此该数值范围被直接公开。 |
| **技术特征L**：基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒 《未公开》 | 对比文件未记载以100重量份可光聚合化合物为基础时有机或无机微粒的具体含量范围。 | 对比文件没有公开硬涂层中微粒相对于可光聚合化合物的含量比例，故未公开。 |
| **技术特征M**：基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子 《未公开》 | 对比文件未提及硬涂层中需要包含特定含量的1-50nm无机纳米粒子。 | 对比文件没有公开该含量范围及粒径要求，故未公开。 |
| **技术特征N**：所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子 《未公开》 | 对比文件未提及硬涂层中包含直径50-120nm的无机纳米粒子。 | 对比文件未公开该粒径范围的无机纳米粒子，故未公开。 |
| **技术特征O**：所述低折射率层包含：粘合剂树脂 《直接公开》 | 对比文件[2]段在低折射率层部分明确使用“バインダー”（粘合剂），且在实施例中低折射率层涂液含有树脂成分。 | 低折射率层包含粘合剂树脂是明确公开的。 |
| **技术特征P**：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物 《未公开》 | 对比文件低折射率层使用的氟系材料（オプスターTU2085）和粘合剂中均未提及聚倍半硅氧烷（POSS）。 | 对比文件未公开聚倍半硅氧烷，因此该特征未公开。 |
| **技术特征Q**：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒 《直接公开》 | 对比文件[2]段：“低屈折率層は、シリカ微粒子とバインダーを含有する構成が好ましく用いられる。” 中文翻译：“低折射率层优选采用含二氧化硅微粒和粘合剂的构成。” | 对比文件直接公开了低折射率层含有二氧化硅微粒作为无机微粒分散在粘合剂中。 |
| **技术特征R**：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团 《未公开》 | 对比文件未涉及聚倍半硅氧烷，故未公开任何其取代基团。 | 该特征基于聚倍半硅氧烷，对比文件无此材料，故未公开。 |
| **技术特征S**：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代 《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 未公开。 |
| **技术特征T**：所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷 《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 未公开。 |
| **技术特征U**：所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代 《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 未公开。 |
| **技术特征V**：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代 《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 未公开。 |
| **技术特征W**：在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上 《未公开》 | 对比文件无相关内容。 | 未公开。 |
| **技术特征X**：所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物 《直接公开》 | 对比文件在硬涂层和低折射率层中均使用多官能(甲基)丙烯酸酯单体或低聚物，例如实施例中使用“Ａ−ＤＰＨ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）”等。 | 对比文件明确公开了可光聚合的化合物包含(甲基)丙烯酸酯基的单体或低聚物，因此直接公开。 |
| **技术特征Y**：所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种 《未公开》 | 对比文件仅提到使用“フッ素系低屈折材料（オプスターＴＵ２０８５）”，但未明确其光反应性官能团的具体种类。 | 对比文件虽使用了氟系化合物，但未指明其含有的光反应性官能团选自所列基团，因此未公开。 |
| **技术特征Z**：所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子 《直接公开》 | 对比文件[2]段：“中空シリカ微粒子の平均粒子径は、４０〜１２０ｎｍのものを用いることが好ましい。” 实施例中使用的中空二氧化硅平均粒径60nm。中文翻译：“中空二氧化硅微粒的平均粒径优选为40-120nm。” | 对比文件公开了中空二氧化硅微粒的平均粒径范围40-120nm（包含10-100nm子范围），且实施例具体为60nm，因此直接公开。 |
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