### 对比文件名称
2014-10-01_JP5598308B_发明专利_JP5598308B2 Production method of the antireflective film
### 目标专利名称
1668减反射膜和显示装置CN108027456B
### 模型名称
（未指定，默认使用当前模型）
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## 特征比对表格
| 技术特征描述及公开性判断 | 对比文件原文引用（翻译） | 公开性论述 |
| **技术特征A**：包括：硬涂层<br>**《直接公开》** | [0012] “基材フィルム上に、活性線硬化型樹脂を含有するハードコート層 … が積層された反射防止フィルム” 即“在基材薄膜上，含有活性能量射线固化型树脂的硬涂层…被层叠的防反射薄膜。” | 对比文件明确记载了在基材薄膜上设置硬涂层，该硬涂层由活性线硬化型树脂构成，与目标专利的硬涂层相对应，并且公开了其在防反射膜中的基本结构。 |
| **技术特征B**：在所述硬涂层上形成的低折射率层<br>**《直接公开》** | [0012] “前記ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層が積層された反射防止フィルム” 即“在所述硬涂层上直接或通过其他层层叠有低折射率层的防反射薄膜。” | 对比文件直接公开了低折射率层形成于硬涂层之上，符合特征B。 |
| **技术特征C**：其中，所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)大于0.5且小于5<br>**《隐含公开》** | [0024] “表面の歪度（Ｒｓｋ）の絶対値は１以下であることが好ましい。” 即“表面的偏度（Rsk）的绝对值优选为1以下。” | 对比文件公开了Rsk的绝对值≤1（即‑1≤Rsk≤1），该范围包含了Rsk>0.5且≤1的部分。虽然未直接给出目标专利的完整范围（0.5~5），但部分公开了该特征（Rsk在0.5~1之间的部分）。依据宽松的隐含公开标准，认为本领域技术人员结合常用知识（如可在其他文献教导下扩展Rsk上限）能推断出Rsk>0.5且<5的范围。 |
| **技术特征D**：所述表面的凹凸形状的倾斜角大于0.01度且小于0.2度<br>**《隐含公开》** | [0024] “傾斜角０〜５度の面は１０％以上が好ましい。” 即“倾斜角0~5度的面优选占10%以上。” | 对比文件公开了倾斜角在0°~5°的范围，而目标专利要求的是0.01°~0.2°的微小倾斜角，该范围完全落入对比文件公开的0°~5°内。对比文件未明确限定具体的下限和上限，但部分公开了该特征（倾斜角的较宽范围包含了所述窄范围）。根据隐含公开的宽松标准，认为对比文件隐含公开了倾斜角的特定范围。 |
| **技术特征E**：其中，所述硬涂层包含含有可光聚合的化合物的(共)聚合物的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒<br>**未公开** | [0012] “当該ハードコート層が微粒子及び前記活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂を実質的に含有していない” 即“所述硬涂层实质上不含有微粒子和与所述活性线硬化型树脂不相溶的树脂。” | 对比文件明确限定硬涂层实质上不含微粒，与特征E要求的含有有机或无机微粒完全相反，因此未公开该特征。 |
| **技术特征F**：其中，所述有机或无机微粒的粒径为1μm至5μm<br>**未公开** | 对比文件硬涂层不含微粒，无相关粒径公开。 | 由于特征E未被公开，特征F也必然未公开。 |
| **技术特征G**：其中，所述硬涂层的厚度大于5μm且小于10μm<br>**《直接公开》** | [0025] “ドライ膜厚としては平均膜厚０．０５〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。” 即“干膜厚度平均为0.05~20μm，优选为1~10μm。” 实施例1中硬涂层干膜厚度为6.3μm。 | 对比文件公开了硬涂层的干膜厚度在1~10μm的优选范围，且具体实施例厚度6.3μm，落于5~10μm之间，因此直接公开。 |
| **技术特征H**：其中，所述减反射膜的表面的凹凸形状的粗糙度偏度(Rsk)和倾斜角是通过非接触式表面形状测量仪(3D光学轮廓仪)测量的结果<br>**《直接公开》** | [0024] “算術平均粗さＲａ、Ｓｍ、Ｒｚは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて光学干渉式表面粗さ計（たとえば、ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）で測定した値である。…尖度（Ｒｋｕ）及び歪度（Ｒｓｋ）は、上記光学干渉式表面粗さ計を用いて計測できる。” 即“算术平均粗糙度Ra、Sm、Rz是根据JIS B0601:1994用光学干涉式表面粗糙度计（例如RST/PLUS，WYKO公司制造）测量的值…尖度（Rku）和歪度（Rsk）能使用上述光学干涉式表面粗糙度计测量。” 并且倾斜角也使用相同仪器测量。 | 对比文件明确使用了非接触式的光学干涉式表面粗糙度计测量Rsk及倾斜角等参数，该仪器属于非接触表面形状测量仪（3D光学轮廓仪），因此直接公开了该测量方法。 |
| **技术特征I**：其中，所述减反射膜在380nm至780nm的波长范围内的平均反射率小于4％<br>**《直接公开》** | [0027] “反射防止層は、４５０〜６５０ｎｍにおける平均反射率が１．５％以下であることが好ましく、特に好ましくは１．２％以下である。” 即“防反射层在450~650nm的平均反射率优选为1.5%以下，特别优选1.2%以下。” 且实施例中所有反射防止フィルム的平均反射率均为1.2%以下。 | 对比文件公开了更窄波长范围（450~650nm）的极低反射率（≤1.5%或≤1.2%），必然满足380~780nm平均反射率小于4%的条件，因此直接公开。 |
| **技术特征J**：其中，所述减反射膜的内部雾度大于0且小于10％<br>**《直接公开》** | [0026] “本発明の反射防止フィルムのヘイズ（…「内部ヘイズ」とも記載する。）は、２０％以下が好ましい。” 即“本发明的防反射薄膜的雾度（也称为内部雾度）优选为20%以下。” [0024]中硬涂层内部ヘイズ为“好ましくは０〜１．０％”。 | 对比文件公开了防反射薄膜的雾度（内部雾度）优选20%以下，该范围包括0~10%的部分，且给出具体优选例（0~1.0%），因此直接公开。 |
| **技术特征K**：其中，所述减反射膜的外部雾度大于0且小于0.5％<br>**未公开** | [0024] “ハードコート層を有したフィルムの表面ヘイズ（表面散乱に起因するヘイズ）の値は、０．５〜２０％が好ましい。” 即“具有硬涂层的薄膜的表面雾度值优选为0.5~20%。” | 对比文件公开的表面雾度（类似外部雾度）最低为0.5%，而目标专利要求外部雾度小于0.5%，数值范围完全不同且无重叠，因此未公开该特征。 |
| **技术特征L**：其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物的(共)聚合物，所述硬涂层包含1重量份至20重量份的所述有机或无机微粒<br>**未公开** | 对比文件硬涂层不含微粒，无相关含量公开。 | 由于特征E未公开，特征L也未公开。 |
| **技术特征M**：其中，基于所述有机或无机微粒以及无机纳米粒子的总重量，所述硬涂层还包含3重量％至10重量％的直径为1nm至50nm的无机纳米粒子<br>**未公开** | 对比文件硬涂层不含微粒和纳米粒子，无相关公开。 | 未公开。 |
| **技术特征N**：其中，所述硬涂层还包含直径大于50nm且为120nm以下的无机纳米粒子<br>**未公开** | 对比文件硬涂层不含这类无机纳米粒子。 | 未公开。 |
| **技术特征O**：其中，所述低折射率层包含：粘合剂树脂<br>**《直接公开》** | [0026] “低屈折率層は、…バインダーポリマーを含むことが好ましい。” 且实施例中低屈折率层使用了バインダーポリマー。即“低折射率层优选包含粘合剂聚合物。” | 对比文件明确了低折射率层含有粘合剂树脂，因此直接公开。 |
| **技术特征P**：该粘合剂树脂包含可光聚合的化合物、含有光反应性官能团的氟系化合物和被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物<br>**未公开** | 对比文件低折射率层使用的粘合剂体系包括テトラエトキシシラン加水分解物、含フッ素ポリマー、アクリレート等，但未提及被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷及其交联聚合物。 | 对比文件未公开任何一种包含所述聚倍半硅氧烷的粘合剂树脂，因此特征P未公开。 |
| **技术特征Q**：分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒<br>**《直接公开》** | [0026] “低屈折率層は、中空球状シリカ系微粒子を用いること…” 且实施例中使用了イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル。 | 对比文件明确低折射率层含有中空球状二氧化硅微粒（无机微粒），并分散于粘合剂中，因此直接公开。 |
| **技术特征R**：其中，在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团<br>**未公开** | 对比文件未涉及聚倍半硅氧烷，无相关内容。 | 未公开。 |
| **技术特征S**：其中，所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还被选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环烷基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一个非反应性官能团取代<br>**未公开** | 同R，未涉及。 | 未公开。 |
| **技术特征T**：其中，所述被至少一个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷<br>**未公开** | 同R，未涉及。 | 未公开。 |
| **技术特征U**：其中，所述具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代<br>**未公开** | 同R，未涉及。 | 未公开。 |
| **技术特征V**：未被反应性官能团取代的其余硅原子被非反应性官能团取代<br>**未公开** | 同R，未涉及。 | 未公开。 |
| **技术特征W**：其中，在所述聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上<br>**未公开** | 同R，未涉及。 | 未公开。 |
| **技术特征X**：其中，所述可光聚合的化合物包含含有(甲基)丙烯酸酯基或乙烯基的单体或低聚物<br>**《直接公开》** | [0025] 大量列举了多官能アクリレート単量体，如ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート等，并提到“活性線硬化樹脂としては紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい”。 | 对比文件明确可光聚合化合物为含有(甲基)丙烯酸酯基的多官能丙烯酸酯单体/低聚物，因此直接公开。 |
| **技术特征Y**：其中，所述氟系化合物中含有的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种<br>**《直接公开》** | 实施例中使用的含フッ素ポリマー1通过アクリル酸クロライド引入アクリロイル基（即(甲基)丙烯酸酯基），且低屈折率层组成物中还使用含エポキシ基的化合物（如カチオン重合性バインダー中的エポキシ基）。 | 对比文件公开的含氟聚合物带有(甲基)丙烯酸酯基，且其他实施方式涉及环氧基，覆盖了(甲基)丙烯酸酯基、环氧基等，因此直接公开。 |
| **技术特征Z**：其中，所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子<br>**《直接公开》** | [0026] “中空球状シリカ系微粒子の平均粒子径が５〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲にあることが望ましい。”且实施例中使用イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル。 | 对比文件公开了中空球状二氧化硅微粒的平均粒径优选10~200nm（包含10~100nm），且具体实施中使用了中空二氧化硅，因此直接公开。 |
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